CN102864416A - 蒸镀隔离元件及具有蒸镀隔离元件的蒸镀装置 - Google Patents
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Abstract
本发明有关一种蒸镀隔离元件及具有蒸镀隔离元件的蒸镀装置。其中的蒸镀装置包含一个炉床、一个蒸镀源、一个冷却装置，及一个蒸镀隔离元件，该冷却装置装设于该炉床，该蒸镀隔离元件包括一个耐热本体、一个形成于该耐热本体顶部的顶面，及一个形成于该耐热本体且抵接于该炉床内侧面的防溢缘，该耐热本体具有一个形成于底部的凹室，该顶面周缘高度不高于该顶面的中心部，通过该耐热本体的材质选择，达到避免与蒸镀材料共金焊接的功效，且通过该耐热本体隔绝蒸镀材料与该炉床，达到避免蒸镀材料温度冷却、避免蒸镀功率大幅增加的功效。
Description
技术领域
本发明涉及一个种蒸镀设备，特别是涉及一个种蒸镀隔离元件及具有蒸镀隔离元件的蒸镀装置。
背景技术
现有的一个种蒸镀隔离元件是将一个坩锅置于一个铜制炉床中，并将蒸镀材料置于该坩锅内，将电子束打向蒸镀材料使蒸镀材料蒸发进行蒸镀作业，在此同时，由于蒸镀材料呈现溶融状态，因此容易与该坩锅产生共金焊接的现象，进而造成蒸镀功率变高、膜值纯度降低、蒸发速率不稳、坩锅寿命降低等等问题，虽然将蒸镀材料直接放置于该炉床中可以避免共金焊接的问题，但由于该炉床与冷却系统相连将会使得蒸镀材料温度冷却，大幅增加蒸镀时所需要的功率。
因此，一种可以避免共金焊接且可避免蒸镀功率大幅增加的蒸镀隔离元件，为目前相关业者的研发目标之一。
发明内容
本发明的目的在于，克服现有的蒸镀装置存在的缺陷，而提供一种可以避免共金焊接且可避免蒸镀功率大幅增加的蒸镀隔离元件，及具有蒸镀隔离元件的蒸镀装置。
本发明的目的与所要解决的技术问题是通过以下的技术方案实现：
本发明蒸镀隔离元件，用于一个炉床内承载蒸镀材料；该蒸镀隔离元件包含一个耐热本体、一个形成于该耐热本体顶部的顶面，及一个形成于该耐热本体且抵接于该炉床内侧面的防溢缘，该耐热本体包括一个形成于底部的凹室，该顶面周缘高度不高于该顶面的中心部。
本发明蒸镀隔离元件，该耐热本体是选自石墨、陶瓷、Al2O3、BeO、BN、MgO、TiC/C合金、TiB2-BN、SiC、ThO2及ZrO2所构成的群组制成。
本发明蒸镀隔离元件，还包括一个立柱部，该立柱部自该耐热本体底部中心向下延伸，该凹室绕该立柱部呈环状空间。
本发明蒸镀隔离元件，该防溢缘形成于该耐热本体的底缘。
本发明蒸镀隔离元件，还包括一个立环部，该立环部自该耐热本体底面周缘向下延伸，该凹室呈圆盘状。
本发明蒸镀隔离元件，该防溢缘形成于该承载盘与该立环部外周缘。
本发明蒸镀隔离元件，该耐热本体截面呈弧状拱起，该顶面周缘高度低于该顶面的中心部。
本发明蒸镀隔离元件，该防溢缘形成于该耐热本体底缘。
本发明蒸镀隔离元件，该顶面周缘高度与该顶面的中心部高度相同，该防溢缘形成于该顶面周缘，该凹室呈弧凸状。
本发明具有蒸镀隔离元件的蒸镀装置，包含：一个炉床、一个蒸镀源、一个装设于该炉床的冷却装置，及一个蒸镀隔离元件，该蒸镀隔离元件包括一个耐热本体、一个形成于该耐热本体顶部的顶面，及一个形成于该耐热本体且抵接于该炉床内侧面的防溢缘，该耐热本体具有一个形成于底部的凹室，该顶面周缘高度不高于该顶面的中心部。
本发明具有蒸镀隔离元件的蒸镀装置，该耐热本体是选自石墨、陶瓷、Al2O3、BeO、BN、MgO、TiC/C合金、TiB2-BN、SiC、ThO2及ZrO2所构成的群组制成。
本发明蒸镀隔离元件，用于一个炉床内承载蒸镀材料；该蒸镀隔离元件包含一个耐热本体、一个形成于该耐热本体顶部的顶面，及一个形成于该耐热本体且抵接于该炉床内侧面的防溢缘。
本发明蒸镀隔离元件，该耐热本体是选自石墨、陶瓷、Al2O3、BeO、BN、MgO、TiC/C合金、TiB2-BN、SiC、ThO2及ZrO2所构成的群组制成。
本发明的有益效果在于：通过该耐热本体的材质选择，达到避免与蒸镀材料共金焊接的功效，且通过该耐热本体隔绝蒸镀材料与该炉床，达到避免蒸镀材料温度冷却、避免蒸镀功率大幅增加的功效。
附图说明
图1是本发明一个种蒸镀隔离元件的第一较佳实施例的剖视图；
图2是本发明一个种蒸镀隔离元件的第二较佳实施例的剖视图；
图3是本发明一个种蒸镀隔离元件的第三较佳实施例的剖视图；
图4是本发明一个种蒸镀隔离元件的第四较佳实施例的剖视图；
图5是本发明一个种蒸镀隔离元件的第五较佳实施例的剖视图。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本发明进行详细说明。
参阅图1，本发明蒸镀隔离元件1及具有蒸镀隔离元件1的蒸镀装置的第一较佳实施例，该蒸镀装置包含一个炉床2、一个蒸镀源、一个冷却装置4，及一个蒸镀隔离元件1，该冷却装置4装设于该炉床2底部，该蒸镀隔离元件1用于一个炉床2内承载蒸镀材料3，该蒸镀隔离元件1包含一个耐热本体11、一个顶面12，及一个防溢缘13。
该耐热本体11是由石墨、陶瓷、Al2O3、BeO、BN、MgO、TiC/C合金、TiB2-BN、SiC、ThO2及ZrO2等材料制成，前述材料具有不易与蒸镀材料3共金焊接的特性，且可以承受蒸镀过程中的高温，此外，该耐热本体11的导热特性不佳，因此可以避免该炉床2的冷却系统降低蒸镀材料3的温度，进而避免了蒸镀功率大幅增加的缺失。
在本第一较佳实施例中，该耐热本体11呈T字型，该蒸镀隔离元件1还包括一个立柱部112，该立柱部112自该耐热本体11底部中心向下延伸，该凹室114绕该立柱部112呈环状空间。
该顶面12形成于该耐热本体11顶部，该顶面12周缘高度不高于该顶面12的中心部，在本第一较佳实施例中，该顶面12周缘高度与该顶面12的中心部高度相同。
该防溢缘13形成于该耐热本体11且抵接于该炉床2内侧面21，用于避免蒸镀材料3溢出，在本第一较佳实施例中，该防溢缘13形成于该耐热本体11的底缘。
参阅图2，本发明蒸镀隔离元件1的第二较佳实施例与该第一较佳实施例构件与组装方式大致相同，不同处在于该第二较佳实施例中，该蒸镀隔离元件1还包括一个立环部113，该立环部113自该耐热本体11底面周缘向下延伸，该凹室114呈圆盘状，且该防溢缘13形成于该耐热本体11与该立环部113外周缘。
参阅图3，本发明蒸镀隔离元件1的第三较佳实施例与该第一较佳实施例构件与组装方式大致相同，不同处在于该第三较佳实施例中，该耐热本体11截面呈弧状拱起，该顶面12周缘高度低于该顶面12的中心部，且该防溢缘13形成于该耐热本体底缘，该凹室114呈弧凸状。
参阅图4，本发明蒸镀隔离元件1的第四较佳实施例与该第一较佳实施例构件与组装方式大致相同，不同处在于该第四较佳实施例中，该凹室114呈弧凸状，且该顶面12周缘高度与该顶面12的中心部高度相同，该防溢缘13形成于该顶面12周缘。
参阅图5，本发明蒸镀隔离元件1的第五较佳实施例与该第一较佳实施例构件与组装方式大致相同，不同处在于该第五较佳实施例中，该蒸镀隔离元件1不包含该凹室114，且该顶面12周缘高度高于该顶面12的中心部高度。
综上所述，通过该耐热本体11的材质选择，达到避免与蒸镀材料3共金焊接的功效，且通过该耐热本体11隔绝蒸镀材料3与该炉床2，达到避免蒸镀材料3温度冷却、避免蒸镀功率大幅增加的功效，所以确实能达成本发明的目的。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的方法及技术内容作出些许的更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
Claims (13)
1.一个种蒸镀隔离元件，用于一个炉床内承载蒸镀材料；其特征在于：该蒸镀隔离元件包含一个耐热本体、一个形成于该耐热本体顶部的顶面，及一个形成于该耐热本体且抵接于该炉床内侧面的防溢缘，该耐热本体包括一个形成于底部的凹室，该顶面周缘高度不高于该顶面的中心部。
2.根据权利要求1所述的蒸镀隔离元件，其特征在于：该耐热本体是选自石墨、陶瓷、Al2O3、BeO、BN、MgO、TiC/C合金、TiB2-BN、SiC、ThO2及ZrO2所构成的群组制成。
3.根据权利要求1所述的蒸镀隔离元件，其特征在于：该蒸镀隔离元件还包括一个立柱部，该立柱部自该耐热本体底部中心向下延伸，该凹室绕该立柱部呈环状空间。
4.根据权利要求3所述的蒸镀隔离元件，其特征在于：该防溢缘形成于该耐热本体的底缘。
5.根据权利要求1所述的蒸镀隔离元件，其特征在于：该蒸镀隔离元件还包括一个立环部，该立环部自该耐热本体底面周缘向下延伸，该凹室呈圆盘状。
6.根据权利要求5所述的蒸镀隔离元件，其特征在于：该防溢缘形成于该承载盘与该立环部外周缘。
7.根据权利要求1所述的蒸镀隔离元件，其特征在于：该耐热本体截面呈弧状拱起，该顶面周缘高度低于该顶面的中心部。
8.根据权利要求7所述的蒸镀隔离元件，其特征在于：该防溢缘形成于该耐热本体底缘。
9.根据权利要求1所述的蒸镀隔离元件，其特征在于：该顶面周缘高度与该顶面的中心部高度相同，该防溢缘形成于该顶面周缘，该凹室呈弧凸状。
10.一个种具有蒸镀隔离元件的蒸镀装置，包含：一个炉床、一个蒸镀源、一个装设于该炉床的冷却装置，及一个蒸镀隔离元件；其特征在于：该蒸镀隔离元件包括一个耐热本体、一个形成于该耐热本体顶部的顶面，及一个形成于该耐热本体且抵接于该炉床内侧面的防溢缘，该耐热本体具有一个形成于底部的凹室，该顶面周缘高度不高于该顶面的中心部。
11.根据权利要求10所述的之蒸镀隔离元件，其特征在于：该耐热本体是选自石墨、陶瓷、Al2O3、BeO、BN、MgO、TiC/C合金、TiB2-BN、SiC、ThO2及ZrO2所构成的群组制成。
12.一个种蒸镀隔离元件，用于一个炉床内承载蒸镀材料；其特征在于：该蒸镀隔离元件包含一个耐热本体、一个形成于该耐热本体顶部的顶面，及一个形成于该耐热本体且抵接于该炉床内侧面的防溢缘，该顶面周缘高度高于该顶面的中心部。
13.根据权利要求12所述的蒸镀隔离元件，其特征在于：该耐热本体是选自石墨、陶瓷、Al2O3、BeO、BN、MgO、TiC/C合金、TiB2-BN、SiC、ThO2及ZrO2所构成的群组制成。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020034396A1 (zh) * | 2018-08-15 | 2020-02-20 | 宁波恒普真空技术有限公司 | 一种石墨料板隔离装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1393575A (zh) * | 2001-06-26 | 2003-01-29 | 爱美思公司 | 薄膜沉积用分子束源装置和分子束沉积薄膜的方法 |
| TWM402295U (en) * | 2010-11-19 | 2011-04-21 | Advanced System Technology Co Ltd | Evaporation source holder with thermal isolation component |
| CN102071398A (zh) * | 2009-11-20 | 2011-05-25 | 上海广电电子股份有限公司 | 金属蒸镀坩埚 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07116595B2 (ja) * | 1986-08-15 | 1995-12-13 | 株式会社ト−ビ | イオンプレ−テイング蒸発装置 |
| JP3341780B2 (ja) * | 1992-09-11 | 2002-11-05 | 石川島播磨重工業株式会社 | 真空蒸着装置用るつぼ |
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Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1393575A (zh) * | 2001-06-26 | 2003-01-29 | 爱美思公司 | 薄膜沉积用分子束源装置和分子束沉积薄膜的方法 |
| CN102071398A (zh) * | 2009-11-20 | 2011-05-25 | 上海广电电子股份有限公司 | 金属蒸镀坩埚 |
| TWM402295U (en) * | 2010-11-19 | 2011-04-21 | Advanced System Technology Co Ltd | Evaporation source holder with thermal isolation component |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020034396A1 (zh) * | 2018-08-15 | 2020-02-20 | 宁波恒普真空技术有限公司 | 一种石墨料板隔离装置 |
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