CN102828171A - 薄膜形成用旋转系统 - Google Patents

Abstract

本发明揭露一种用于形成一或更多材料层于一或更多基板上的系统。此系统包含一可绕一中央承载座轴旋转的承载座(susceptor)。一或更多载台齿轮(holder gear)位于承载座上。载台齿轮可以中央承载座轴绕承载座旋转。当载台齿轮绕中央承载座轴旋转，一与载台齿轮接合的中央齿轮可使载台齿轮绕个别载台齿轮的载台轴转动。承载座与中央齿轮可各自独立旋转。

Description

薄膜形成用旋转系统

技术领域

本发明涉及一种薄膜沉积装置，特别是涉及一种用于将一或更多薄膜材料沉积于基板上的旋转系统。

背景技术

薄膜沉积被广泛应用于各种物品的表面工艺中，例如珠宝、餐具、工具、模制品及半导体组件。通常金属、合金、陶瓷或半导体表面形成同质或异质成份的薄膜以改进例如耐磨、耐热及抗蚀性质。薄膜沉积技术一般被区分为至少两类别，即物理气相沉积与化学气相沉积。

取决于沉积技术及工艺参数，沉积的薄膜可具有单晶、多晶或非晶体结构。单晶及/或多晶薄膜通常形成为对于半导体组件及集成电路制造而言十分重要的磊晶层。举例来说，磊晶层可由半导体层构成且在磊晶层形成的同时进行掺杂以在可防止氧及或碳杂质污染的条件(例如真空条件)下形成掺质分布。

在某些工艺中，金属有机化学气相沉积法(MOCVD)形成的磊晶层被用于制造发光二极管。金属有机化学气相沉积法形成的发光二极管的质量受到各种因素的影响，例如，但不限于，反应室内的气体流动稳定度或均匀度、通过基板表面的气体流均匀度，及/或温度控制的精确度。这些参数的变化可能会降低以金属有机化学气相沉积法形成的磊晶层的质量，亦即影响以金属有机化学气相沉积法形成的发光二极管的品质。

因此需要一种可改进以金属有机化学气相沉积法形成的磊晶层的技术的系统与方法。特别是需要改进磊晶层沉积时反应室内及通过基板表面的气体流均匀度。

发明内容

在一些实施例中，一种用于形成一或更多材料层于一或更多基板上的系统包含一绕一中央承载座轴旋转的承载座。一或更多位于该承载座上的载台齿轮可以该中央承载座轴绕该承载座旋转。一与该载台齿轮啮合合的中央齿轮可于该载台齿轮绕该中央承载座轴旋转时，使该载台齿轮绕个别该载台齿轮的载台轴旋转。该承载座与该中央齿轮可各自独立旋转。

在一些实施例中，一形成一或更多材料层于一或更多基板上的方法包含绕一中央承载座轴旋转一或更多位于一或更多位于一承载座上的载台齿轮的基板。当该载台齿轮绕该中央承载座轴旋转时，该载台齿轮绕其各自的载台轴以及一中央齿轮旋转。该中央齿轮可相对于该承载座独立地旋转。当该基板绕该中央承载座轴与该载台轴旋转时，一或更多材料层可形成于一或更多基板上。

在某些实施例中，该承载座与一可自由地绕一与该中央齿轮结合的机轴旋转的可转动组件结合。在某些实施例中，可转动组件包含一包围与该中央齿轮结合的该机轴的衬套，且该衬套可绕该机轴自由地旋转。在某些实施例中，该可转动组件包含一与该承载座结合的一旋转罩。在某些实施例中，当该承载座绕该中央承载座轴旋转时，该中央齿轮不旋转。在某些实施例中，该中央齿轮与该承载座沿相同方向旋转。在某些实施例中，该中央齿轮与该承载座以相同速度旋转。在某些实施例中，该中央齿轮与该承载座以不同速度旋转。在某些实施例中，该中央齿轮与该承载座沿不同方向旋转。

附图说明

本发明的方法与装置的特征及优点经以下详细说明伴随图示进行说明后将更易于了解领会，根据本发明的实施例伴随以下图示进行说明。

图1A与图1B显示用于形成一或更多材料于一或更多基板上旋转系统的一实施例。

图2A显示中央齿轮与载台齿轮啮合的旋转系统的一实施例。

图2B显示基板载台、载台齿轮及载台环处于组合状态的旋转系统的一实施例。

图3显示用于形成一或更多材料于一或更多基板上作为旋转系统的一部分的基板载台的一实施例。

图4显示用于形成一或更多材料于一或更多基板上作为旋转系统的一部分的基板载台的另一实施例。

图5A与图5B显示用于形成一或更多材料于一或更多基板上包含旋转系统的反应系统的一实施例。

图6显示具有载台齿轮彼此分开围绕中央齿轮的承载座的旋转系统的一实施例的俯视图。

图7显示具有载台齿轮至少部分重迭围绕中央齿轮的承载座的旋转系统的一实施例的俯视图。

图8显示载台齿轮的轮齿与载台齿轮的轮齿之间至少部份重迭区域的一实施例的侧视图。

图9显示具有一不使用旋转罩的旋转机构的旋转系统的一实施例。

图10显示旋转系统的一实施例其中显示一中央齿轮与载台齿轮交互作用。

图11显示具有朝顺时针方向旋转的承载座与朝逆时针方向旋转的中央齿轮的旋转系统的一实施例的俯视图。

当然本发明可有各种修改与替换形式，在此将详细描述藉由以上图标的范例表示的本发明的特定实施例。这些图示可能不符合比例。必须理解的是图示与详细说明不应限制本发明在已揭露的特定形式，相反地是应将所有修改、等效与替换形式涵盖在本发明申请的精神与范围内。

主要组件符号说明

100旋转系统

100’旋转系统

110承载座

112旋转罩

114内齿轮

116外齿轮

118马达

120中央齿轮

130基板载台

132载台齿轮

132A载台齿轮

132B载台齿轮

134载台环

140承载基板

150间距

160椭圆

162A轮齿

162B轮齿

200衬套

202转接器

203扣件

204机轴

206扣件

210载台轴

310载台轴

320球轴承

410载台轴

420球轴承

430内环

1100反应系统

1101进气口

1102进气口

1103进气口

1104进气口

1112表面

1114表面

1124加热组件

1126载台轴

1128承载座轴

1140出气口

1150中央组件

1160反应室

具体实施方式

在本发明的上下文中，用词“耦接”表示一或更多对象或组件之间的直接连接或非直接连接(例如一或更多介于其中的连接)。

图1A与图1B显示用于形成一或更多材料于一或更多基板上旋转系统100的一实施例。在一些实施例中，旋转系统100包含承载座110、旋转罩112、内齿轮114、外齿轮116及马达118。在某些实施例中，旋转系统100包含中央齿轮120。在一些实施例中，旋转系统100包含一或更多基板载台130、一或更多载台齿轮132及一或更多载台环134。在一些实施例中，基板载台130系用于承载基板140(例如一或更多晶圆)。在某些实施例中，内齿轮114与外齿轮116形成一可包含马达118的驱动组合。

虽然以上利用选择的组件组合以表示系统100，系统100仍可有其它替代、修改及变化形式。举例来说，某些组件可被展开及或组合。其它组件可被插入上述提及的组件之间。取决于实施例，组件的安排组合可互换及以其它组件取代。

在一些实施例中，旋转罩112底部及支撑部直接或非直接固定于内齿轮114，而承载座110则位于旋转罩112顶部。在某些实施例中，承载座110固定于旋转罩112顶部。在另一实施例中，内齿轮114与外齿轮116啮合。在又一实施例中，外齿轮116被马达118驱动以旋转，使内齿轮也旋转。在一实施例中，内齿轮114的旋转带动旋转罩112与承载座110绕一共同轴旋转(例如一承载座轴)。举例来说，旋转罩112可藉由一旋转轴承旋转。

在一些实施例中，承载座110上有一或更多基板载台130、一或更多载台齿轮132及一或更多载台环134。在某些实施例中，基板载台130、载台齿轮132及载台环134与承载座110一起绕共同轴旋转。在某些实施例中，每一载台齿轮132支撑基板载台130且每一基板载台130载有一或更多基板140(例如一或更多晶圆)。

在某些实施例中，中央齿轮120与一或更多载台齿轮132啮合。在一实施例中，当载台齿轮132与承载座110一起绕共同轴旋转时，中央齿轮120为静止造成载台齿轮132分别绕各自载台轴旋转。

在另一实施例中，中央齿轮120沿一方向以一角速度绕共同轴旋转时，载台齿轮132与承载座110一起沿相同方向但以不同角速度绕共同轴旋转。中央齿轮120的旋转造成载台齿轮132分别绕各自载台轴旋转。在一些实施例中，载台齿轮132分别绕各自载台轴旋转的角速度取决于中央齿轮120与每一载台齿轮的齿轮比以及中央齿轮与每一载台齿轮绕共同轴旋转的角速度比。

在又一实施例中，中央齿轮120沿一方向绕共同轴旋转，载台齿轮132与承载座110一起沿另一方向绕共同轴旋转，造成一或更多载台齿轮132分别绕各自载台轴旋转。

在一些实施例中，载台齿轮132固定于基板载台130使得基板载台也分别绕各自载台轴旋转。在某些实施例中，载台齿轮132与载台环134分别通过一或更多球轴承接触。在某些实施例中，载台环134固定于承载座110使其不与载台齿轮132一起绕载台轴旋转。

如图1A所示，基板载台130、载台齿轮132及载台环134是以分解状态显示且中央齿轮120是与载台齿轮分离状态显示以清楚显示这些组件。图2A显示中央齿轮120与载台齿轮132啮合之旋转系统100的一实施例。此外，图2B显示基板载台130、载台齿轮132及载台环134处于组合状态的旋转系统100的一实施例。

如以上所讨论及在此进一步强调的是，图1A、图1B、图2A及图2B所示仅为范例，不应限制本发明的范围。本领域技术人员均认知本发明可有许多其它替代、修改及变化形式。举例来说，一或更多基板载台130可被移除使一或更多载台齿轮132可直接支撑一或更多更多基板140(例如一或更多晶圆)。基板140可与对应载台齿轮132绕共同轴以及或绕对应载台轴旋转。在另一例子中，一或更多载台环134可被移除，如图4所示。

图3显示用于形成一或更多材料于一或更多基板上作为旋转系统100的一部分的基板载台130的一实施例。如图3所示，每一载台齿轮132形成一用来支撑其对应基板载台130的中空环。在一些实施例中，每一载台齿轮132及其对应的基板载台130通过球轴承320绕载台轴310旋转。在另一实施例中，球轴承320系位于载台齿轮132的一底部沟槽与载台环134的一顶部沟槽之间。在又一实施例中，载台环134固定于承载座110。

图4显示用于形成一或更多材料于一或更多基板上作为旋转系统100的一部分的基板载台130的另一实施例。如图4所示，每一载台齿轮132形成一用来支撑其对应基板载台130的中空环。在一些实施例中，每一载台齿轮132及其对应的基板载台130通过球轴承420绕载台轴410旋转。在另一实施例中，球轴承420系位于内环430与载台环134的沟槽之间。在某些实施例中，内环430固定于基板载台130。

图5A与图5B显示用于形成一或更多材料于一或更多基板上包含旋转系统100的反应系统的一实施例。图5A显示反应系统1100的一侧视图而图5B显示反应系统的平面图。反应系统1100可为，举例来说，用于形成薄膜于一或更多基板上的一真空系统。在一实施例中，反应系统1100为一化学气相沉积系统(例如一金属有机化学气相沉积系统)。

在一些实施例中，反应系统1100包含喷气组件(showerhead)1110、承载座110、进气口1101、1102、1103与1104、一或更多基板载台130、一或更多加热组件1124、一出气口1140及一中央组件1150。在某些实施例中，中央组件1150、喷气组件1110、承载座110及一或更多基板载台130(例如位于承载座上)构成具有进气口1101、1102、1103与1104及出气口1140的反应室1160。在某些实施例中，一或更多基板载台130的每一基板载台系用于承载一或更多基板140(例如一或更多晶圆)。

虽然以上利用选择的组件组合以表示系统1100，系统1100仍可有其它替代、修改及变化形式。举例来说，某些组件可被展开及或组合。其它组件可被插入上述提及的组件之间。取决于实施例，组件的安排组合可互换及以其它组件取代。

在一些实施例中，进气口1101系形成于中央组件1150之内并沿一与喷气组件1110的表面1112大致平行的方向提供一或更多种气体。在某些实施例中，中央组件1150系位于中央齿轮120上方(例如中央齿轮120之上)。在某些实施例中，一或更多种气体流入(例如向上流)进入反应室1160接近反应室中央，接着流过进气口1101并辐射状向外远离反应室中央。在一些实施例中，进气口1101、1102、1103与1104系形成于喷气组件1110内并沿一与表面1112大致垂直的方向提供一或更多种气体。

在一些实施例中，可提供各种气体通过进气口1101、1102、1103与1104。各种气体的实例如表一所示。

表一

在一些实施例中，承载座110绕承载座轴1128旋转(例如一中央轴)，且每一基板载台130绕对应载台轴1126(例如载台轴310或410)旋转。在某些实施例中，基板载台130可与承载座110一起绕承载座轴1128及其对应载台轴1126旋转。举例来说，位于相同基板载台130的基板140可绕相同载台轴1126旋转。

在一些实施例中，每一进气口1101、1102、1103与1104及出气口1140均具有围绕承载座轴1128的圆形结构。在某些实施例中，基板载台130(例如八个基板载台130)围绕承载座轴1128配置。举例来说，每一基板载台130可承载数个基板140(例如七个基板140)。

如图5A与图5B所示，根据一些实施例，符号A、B、C、D、E、F、G、H、I、J、L、M、N及O代表反应系统1100的各种尺寸。在一实施例中，

(1)A代表承载座轴1128与进气口1102内缘之间的距离；

(2)B代表承载座轴1128与进气口1103内缘之间的距离；

(3)C代表承载座轴1128与进气口1104内缘之间的距离；

(4)D代表承载座轴1128与进气口1104外缘之间的距离；

(5)E代表承载座轴1128与进气口1101之间的距离；

(6)F代表承载座轴1128与出气口1140内缘之间的距离；

(7)G代表承载座轴1128与出气口1140外缘之间的距离；

(8)H代表喷气组件1110的表面1112与承载座110的表面1114之间的距离；

(9)I代表进气口1101的高度；

(10)J代表喷气组件1110的表面1112与出气口1140之间的距离；

(11)L代表承载座轴1128与一或更多基板载台130的一或更多外缘之间的距离；

(12)M代表承载座轴1128与一或更多基板载台130的一或更多内缘之间的距离；

(13)N代表承载座轴1128与一或更多加热组件1124的一或更多内缘之间的距离；

(14)O代表承载座轴1128与一或更多加热组件1124的一或更多外缘之间的距离。

在一些实施例中，L减M为基板载台130的半径。在某些实施例中，反应室1160的垂直尺寸(例如由H代表)等于或少于20mm，或等于或少于15mm。在某些实施例中，进气口1101的垂直尺寸(例如由I代表)小于喷气组件1110的表面1112与承载座110的表面1114之间的距离(例如由H代表)。在某些实施例中，这些尺寸的一些值列于以下表二中。

表二

尺寸符号	尺寸值(mm)
		A	105
B	120
		C	150
D	165
		E	100
F	330
		G	415
H	10
		I	5
J	150
		L	310
M	145
		N	96
O	320

在一些实施例中，基板载台130位于承载座110上。在某些实施例中，加热组件1124位于基板载台130之下。在某些实施例中，加热组件1124延伸朝向反应室1160中央并位于基板载台130之上。在一些实施例中，加热组件1124预先加热来自进气口1101、1102、1103及/或1104在抵达基板载台130之前的一或更多气体。

在一些实施例中，载台齿轮132彼此分开围绕中央齿轮120。图6显示具有载台齿轮132彼此分开围绕中央齿轮120的承载座110的旋转系统100的一实施例的俯视图。载台齿轮132支撑基板载台130与基板140。在一些实施例中，载台齿轮132与基板载台130系形成为单一组件。在某些实施例中，载台齿轮132与基板载台130系为不同组件。

中央齿轮120与载台齿轮132系藉由各自的轮齿啮合。如图6所示，载台齿轮132围绕中央齿轮120以间距150彼此分开。载台齿轮132彼此分开以阻止相邻载台齿轮的轮齿交互作用并确保载台齿轮的滑顺转动。以间距150分开载台齿轮132却可能增加承载座110的面积。此外，由于载台齿轮的彼此分离，为了升高每一载台齿轮132的温度及/或将每一基板载台130升高至所需温度可能需要来自一加热器的高热能输出。

为了克服与彼此分离的载台齿轮相关的某些问题，载台齿轮可能需设计为至少部分重迭并减少载台齿轮的分离程度。图7显示具有载台齿轮132至少部分重迭围绕中央齿轮120的承载座110的旋转系统100’的一实施例的俯视图。在一些实施例中，载台齿轮132A的轮齿与载台齿轮132B的轮齿重迭，且载台齿轮132A与载台齿轮132B交替围绕中央齿轮120。

图8显示载台齿轮132A的轮齿与载台齿轮132B的轮齿之间至少部份重迭区域(图7中椭圆160所代表)的一实施例的侧视图。载台齿轮132A在每一侧均具有轮齿162A。载台齿轮132B在每一侧均具有轮齿162B。轮齿162A与162B设计为与中央齿轮120(图7中所示)啮合使得当载台齿轮绕中央承载座轴旋转时，载台齿轮132A与载台齿轮132B绕其载台轴旋转。

如图8所示，轮齿162A至少与轮齿162B部份重迭但并未彼此接触。举例来说，载台齿轮132A具有位于载台齿轮132B的轮齿162B上的轮齿162A且轮齿彼此不接触。由于载台齿轮彼此并不交互作用(啮合)具有至少与轮齿162B部分重迭的轮齿162A的载台齿轮132A使载台齿轮132A至少与载台齿轮132B(图7中所示)部分重迭同时使载台齿轮能滑顺转动。

由于载台齿轮之间没有空间(如图6所示)，至少部分重迭的载台齿轮132A与载台齿轮132B使承载座110所占面积减少。减少承载座110所占面积可使承载座面积减少。减少的承载座110尺寸可使反应系统(例如图5A的反应系统1100)或真空室尺寸减少。

在一些实施例中，中央齿轮120的尺寸缩减并配合重迭的载台齿轮132A与载台齿轮132B。由于载台齿轮的重迭，载台齿轮形成一较小直径圆且中央齿轮120的直径可缩减以符合较小直径圆。在一些实施例中，中央齿轮120的轮齿厚度大于载台齿轮132A与载台齿轮132B的轮齿162A与轮齿162B的厚度。举例来说，中央齿轮120可具有一厚度足够大到能同时与轮齿162A(上轮齿)与轮齿162B(下轮齿)啮合的轮齿，如图8所示。因此中央齿轮120可同时与轮齿162A与轮齿162B啮合，而不需多重高度的轮齿。

此外，由于载台齿轮132A至少与载台齿轮132B部分重迭，如图7所示，(及在某些实施例中，由于承载座110与中央齿轮120有较小尺寸)，仅需要较少整体热输出即可升高载台齿轮与基板载台130至所需温度。热输出可因由于载台齿轮的重迭而使欲加热的整体总面积(例如承载座110的面积)减少而减少。

图9显示具有一不使用旋转罩的旋转机构的旋转系统的一实施例。在一些实施例中，旋转系统100’包含承载座110与中央齿轮120。在一些实施例中，旋转系统100’包含一或更多基板载台130、一或更多载台齿轮132及一或更多载台环134。在一些实施例中，基板载台130系用于承载基板140(例如一或更多晶圆)。

在一些实施例中，承载座110通过一转接器202与衬套200结合。在某些实施例中，转接器202透过一扣件203与衬套200结合。扣件203可为，举例来说，一螺栓。衬套200可与马达118接合并由其驱动。衬套200透过转接器202与承载座110结合使得衬套的旋转转动承载座使其绕中央承载座轴旋转(例如衬套的中央轴)。在一些实施例中，转接器202系由石英或其它适合的隔热材料构成。当承载座被加热至高温(约1400℃)时，转接器202可阻止承载座110裂开或损坏。

在一些实施例中，衬套200包含两部分200A与200B。将衬套200区分为多个部分可使衬套部分维持承载座110与喷气组件之间的平行排列。

在一些实施例中，机轴204被包围在衬套200内。衬套200包围机轴204使得衬套可绕轴自由地旋转。机轴204与中央齿轮120接合。在某些实施例中，机轴204透过扣件206与中央齿轮120接合。扣件206可为，举例来说，一螺栓。在一些实施例中，机轴204为一固定轴(例如不会旋转的轴)。在某些实施例中，机轴204会旋转。机轴204与中央齿轮120结合使得机轴的旋转转动中央齿轮使其绕中央承载座轴旋转(例如机轴的中央轴)。机轴204可独立于衬套200旋转。因此中央齿轮120与承载座110可独立旋转。

由于中央齿轮120与承载座110可独立旋转，中央齿轮与承载座之间的相对转动即有数个可能实施例。此外，由于基板载台130的旋转是由中央齿轮120通过中央齿轮与载台齿轮132(如图10所示)之间的交互作用的转动所控制，中央齿轮与承载座110的相对转动控制基板载台绕载台轴210的旋转速度与承载座绕衬套轴(例如承载座轴)的旋转速度之间的关系。图11显示具有朝顺时针方向旋转的承载座110与朝逆时针方向旋转的中央齿轮120的旋转系统100’的一实施例的俯视图。

在一实施例中，承载座110朝顺时针方向旋转(或朝逆时针方向旋转)而中央齿轮120相对于承载座轴不旋转(固定)。在此实施例中，基板载台130绕其各自载台轴以一由承载座旋转速度控制的速度旋转。此基板载台的旋转速度可视为一标准(正常)旋转速度。

在另一实施例中，承载座110朝顺时针方向旋转(或朝逆时针方向旋转)而中央齿轮120也以一较慢旋转速度朝相同顺时针方向旋转(或朝逆时针方向旋转)旋转。在此实施例中，基板载台130绕其各自载台轴以一较标准旋转速度慢的速度旋转。

在又一实施例中，承载座110朝顺时针方向旋转(或朝逆时针方向旋转)而中央齿轮120亦以一较慢旋转速度朝相同顺时针方向旋转(或朝逆时针方向旋转)旋转。在此实施例中，基板载台130绕其各自载台轴以一较标准旋转速度慢的速度旋转。

在又一实施例中，承载座110朝顺时针方向旋转(或朝逆时针方向旋转)而中央齿轮120朝相反的逆时针方向旋转(或顺时针方向旋转)旋转(例如图11所示)。在此实施例中，基板载台130绕其各自载台轴以一较标准旋转速度快的速度旋转。

在某些实施例中，承载座110朝顺时针方向旋转(或朝逆时针方向旋转)而中央齿轮120也以一相同旋转速度朝相同顺时针方向旋转(或朝逆时针方向旋转)旋转。在此实施例中，基板载台130固定于各自载台轴。

在此必须理解的是本发明不限于所述的可能会变化的特定系统。举例来说，如图5A与图5B所示，进气口1102可由多个进气口取代及/或进气口1104可由另外多个进气口取代。作为另一个例子，进气口1102可形成于中央组件1150内并配置为可沿一与喷气组件1110的表面1112大致平行的方向提供一或更多种气体。在此必须理解的是此处的用语仅用于描述特定实施例，而不应为限制。如此说明书中所使用者，单数形式不定冠词与定冠词也包含复数指示组件，除非内容中明确指出不同意义。因此，举例来说，文中所涉及的一组件实则包含两或更多组件的组合，且文中所涉及得一材料实则包含材料的混合。

本发明指向材料制造的方法与系统。更进一步的说本发明提供一用于形成半导体材料的磊晶层的旋转系统及相关方法。仅作为范例，本发明已应用于金属有机化学气相沉积，但必须理解的是本发明有更广泛的应用范围。

藉由上述说明内容，对于本领域技术人员而言，本发明各方面进一步的修改与替换实施例将为显而易见。因此上述说明内容应被理解为仅为说明之用，而仅以教示本领域具有一般技术者使其能实施本发明为目的。必须理解的是此处显示与叙述本发明的形式仅为当前优选实施例。此处显示与说明的组件与材料可被替换，零件及工艺顺序可被逆转，本发明某些特征可被独立地使用，对于本领域技术人员而言，本发明的叙述将使上述一切成为显而易见。对所述组件所做可能的修改将不超出本发明范围的精神与范围，而被本发明所涵盖。

Claims (30)

1.一种用于将一或更多材料层形成于一或更多基板上的系统，包含：

一承载座，该承载座可绕一中央承载座轴旋转；

位于该承载座上的一或更多载台齿轮，其中，该载台齿轮可以所述中央承载座轴绕所述承载座旋转；及

与所述载台齿轮啮合的一中央齿轮，其中，该中央齿轮可在所述载台齿轮所述中央承载座轴旋转时，使所述载台齿轮绕个别所述载台齿轮的载台轴旋转；

其中，所述承载座与所述中央齿轮可各自独立旋转。

2.如权利要求1项所述的系统，其中，所述承载座与一可转动组件结合以绕与所述中央齿轮结合的一机轴旋转。

3.如权利要求2所述的系统，其中，所述可转动组件包含包围与所述中央齿轮结合的所述机轴的一衬套，且该衬套可绕所述机轴自由地旋转。

4.如权利要求3所述的系统，其中，所述承载座通过一转接器与所述衬套结合。

5.如权利要求4所述的系统，其中，所述转接器包含石英。

6.如权利要求2所述的系统，其中，所述衬套包含至少两部分。

7.如权利要求2所述的系统，其中，所述可转动组件包含与所述承载座结合的一旋转罩。

8.如权利要求1所述的系统，其中，所述中央承载座轴与所述载台轴不同。

9.如权利要求1所述的系统，其中，所述中央承载座轴置于所述中央齿轮中心。

10.如权利要求1所述的系统，其中，所述中央齿轮使用时为固定。

11.如权利要求1所述的系统，其中，所述中央齿轮与所述承载座沿相同方向旋转。

12.如权利要求1所述的系统，其中，所述中央齿轮与所述承载座以相同角速度沿相同方向旋转。

13.如权利要求1所述的系统，其中，所述中央齿轮与所述承载座沿不同方向旋转。

14.如权利要求1所述的系统，其中，所述一或更多载台齿轮用于承载一或更多基板。

15.如权利要求1所述的系统，其中，所述一或更多载台齿轮包含基板载台。

16.如权利要求1所述的系统，还包含与所述载台齿轮结合的一或更多基板载台。

17.如权利要求1所述的系统，还包含一位于该承载座上方的喷气组件。

18.如权利要求1所述的系统，还包含位于所述载台齿轮下方的一或更多加热组件。

19.一种将一或更多材料层形成于一或更多基板上的方法，包含：

绕一中央承载座轴来旋转位于一承载座上的载台齿轮的一或更多基板；

当该载台齿轮绕所述中央承载座轴旋转时，使所述载台齿轮绕其各自的载台轴以及一中央齿轮旋转，其中所述中央齿轮相对于所述承载座独立地旋转；及

当所述基板绕所述中央承载座轴与所述载台轴旋转时，形成一或更多材料层于一或更多基板上。

20.如权利要求19所述的方法，还包含以化学气相沉积法形成一或更多材料层于一或更多基板上。

21.如权利要求19所述的方法，其中，所述一或更多载台齿轮包含基板载台。

22.如权利要求19所述的方法，还包含将一或更多基板置于与所述一或更多载台齿轮结合的一或更多基板载台。

23.如权利要求19所述的方法，其中，所述承载座与可自由地绕与该中央齿轮结合的机轴旋转的可转动组件结合。

24.如权利要求22所述的方法，其中，所述可转动组件包含包围与所述中央齿轮结合的机轴的一衬套，且该衬套可绕所述机轴自由地旋转。

25.如权利要求22所述的方法，其中，所述可转动组件包含与所述承载座结合的一旋转罩。

26.如权利要求19所述的方法，其中，当所述承载座绕所述中央承载座轴旋转时，所述中央齿轮不旋转。

27.如权利要求19所述的方法，其中，所述中央齿轮与所述承载座沿相同方向旋转。

28.如权利要求27所述的方法，其中，所述中央齿轮与所述承载座以相同速度旋转。

29.如权利要求27所述的方法，其中，所述中央齿轮与所述承载座以不同速度旋转。

30.如权利要求19所述的方法，其中，所述中央齿轮与所述承载座沿不同方向旋转。

Images