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CN102809815A - 显示装置及其制造方法 - Google Patents

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CN102809815A
CN102809815A CN2012101826363A CN201210182636A CN102809815A CN 102809815 A CN102809815 A CN 102809815A CN 2012101826363 A CN2012101826363 A CN 2012101826363A CN 201210182636 A CN201210182636 A CN 201210182636A CN 102809815 A CN102809815 A CN 102809815A
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Abstract

本发明以当注入使配置有机械式光闸的容器充满的油时，减少对光闸造成的损伤为目的。本发明的显示装置具有：具有断缝(46)且将空间包围的密封材料(44)；将密封材料(44)的断缝(46)封堵而形成密封空间的端部密封材料(50)；将密封空间装满的油(52)；保持一对光透过性基板(10、12)的间隔的间隔体(54)；光闸(14)；用于机械性地驱动光闸(14)且配置在油(52)内的驱动部(38)；和在一对光透过性基板(10、12)的相对的面的至少一方上形成的壁部(60)。壁部(60)具有配置在将密封材料(44)的断缝(46)和显示区域(48)之间的最短路径遮断的位置上的部分，并由构成间隔体(54)、光闸(14)以及驱动部(38)的材料形成。

Description

显示装置及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种显示装置及其制造方法。
背景技术
MEMS显示器(Micro Electro Mechanical System Display、微机电系统显示器)是有望取代液晶显示器的显示器(参照专利文献1)。与利用偏振光的液晶光闸(快门)式不同，该显示器通过机械光闸方式对光的透过窗进行开闭，从而显示图像。光闸由薄膜构成，构成一个像素的光闸的纵横尺寸为几百μm级，且厚度为几μm级。通过一个光闸的开闭，能够实现一个像素的通断(on-off)动作。光闸通过静电引力进行动作。
专利文献1：日本特开2008-197668号公报
光闸在一对光透过性基板之间配置在由密封材料包围的空间内，该空间内装满了油。油能够防止用于驱动光闸的弹簧发生挨靠，并使与光透过性基板的光折射率的差变小。
将油从密封材料的由断缝构成的注入口注入，并在油注入之后用树脂将注入口密封。为了使光闸的开闭动作高速化，虽然优选低粘度的油，但是这样的话，则存在油从注入口通过时速度变快而对光闸造成损伤的问题。
发明内容
本发明以当注入使配置有机械式光闸的单元(cell)充满的油时，减少对光闸造成的损伤为目的。
(1)本发明的显示装置的特征在于，其具有：以隔开间隔的方式配置的一对光透过性基板；紧贴在所述一对光透过性基板的相对面的彼此上，且具有断缝并将空间包围的密封材料；将所述密封材料的所述断缝封堵，并将所述空间封闭而形成密封空间的端部密封材料；将所述密封空间装满的油；配置在所述油内，并保持所述一对光透过性基板的所述间隔的间隔体；在一方的所述光透过性基板上形成的具有开口部的遮光膜；配置在所述油内的光闸；配置在所述油内的驱动部，该驱动部用于机械性地驱动所述光闸以控制向所述开口部行进的光的透过以及遮断；和在所述一对光透过性基板的所述相对的面的至少一方上形成的壁部，所述间隔体、所述光闸以及所述驱动部配置在根据透过所述开口部的光的有无以及强弱来显示图像的显示区域内，所述壁部具有配置在将所述密封材料的所述断缝和所述显示区域之间的最短路径遮断的位置上的部分，并由构成所述间隔体、所述光闸以及所述驱动部的材料形成。根据本发明，当从密封材料的断缝注入油时，能够通过壁部减弱油的流动，从而能够减少对光闸造成的损伤。另外，因为壁部由构成间隔体、光闸以及驱动部的材料形成，所以通过使这些部件同时地形成而能够避免工序数的增加。
(2)根据(1)所述的显示装置，还可以为，其特征在于，所述壁部紧贴在所述一对光透过性基板的所述相对面的彼此上。
(3)根据(2)所述的显示装置，还可以为，其特征在于，所述壁部以将所述显示区域包围的方式配置，且除了遮断所述最短路径的所述位置之外，还形成有狭缝。
(4)根据(2)所述的显示装置，还可以为，其特征在于，所述壁部在所述断缝和所述显示区域之间以从遮断所述最短路径的所述位置穿过并呈直线状延伸的方式形成。
(5)根据(4)所述的显示装置，还可以为，其特征在于，所述壁部以沿着多条平行的直线延伸且各自的沿着所述直线延伸的部分均具有狭缝的方式形成。
(6)本发明的显示装置的制造方法，其特征在于，所述显示装置具有：以隔开间隔的方式配置的一对光透过性基板；紧贴在所述一对光透过性基板的相对面彼此的上，且具有断缝并将空间包围的密封材料；配置在所述油内，并保持所述一对光透过性基板的所述间隔的间隔体；在一方的所述光透过性基板上形成的具有开口部的遮光膜；配置在所述空间内的光闸；配置在所述空间内的驱动部，该驱动部用于机械性地驱动所述光闸以控制向所述开口部行进的光的透过以及遮断；和在所述一对光透过性基板的所述相对的面的至少一方上形成的壁部，所述显示装置的制造方法包含：装配空单元的工序，该工序使得所述间隔体、所述光闸以及所述驱动部配置在根据透过所述开口部的光的有无以及强弱来显示图像的显示区域内，并且使得所述壁部具有配置在将所述密封材料的所述断缝和所述显示区域之间的最短路径遮断的位置上的部分；和从所述密封材料的所述断缝向所述空单元注入油的工序，在装配所述空单元的工序中，使所述间隔体、所述光闸、所述驱动部以及所述壁部通过包含薄膜的成膜以及蚀刻的多个流程而同时地形成，在注入所述油的工序中，使所述空间内部的气压与外部相比成为低气压，并从所述密封材料的所述断缝注入所述油。根据本发明，当从密封材料的断缝注入油时，能够通过壁部减弱油的流动，并能减少对光闸造成的损伤。另外，因为使壁部与间隔体、光闸以及驱动部同时地形成，所以能够避免工序数的增加。
附图说明
图1是本发明的实施方式的显示装置的侧视图。
图2是图1所示的显示装置的俯视图。
图3是光闸及其驱动部的立体图。
图4是图2所示的显示装置的沿IV-IV线剖面的放大图。
图5是表示空单元的内部的一部分的俯视图。
图6是图5所示的结构的沿VI-VI线剖视图。
图7是用于说明形成第二壁部、第二间隔部以及第二固定部的工序的图。
图8是用于说明形成第二壁部、第二间隔部以及第二固定部的工序的图。
图9是用于说明形成第二壁部、第二间隔部以及第二固定部的工序的图。
图10是用于说明形成第二壁部、第二间隔部以及第二固定部的工序的图。
图11是说明在空单元内注入油的工序的图。
图12是说明在空单元内注入油的工序的图。
图13是说明在空单元内注入油的工序的图。
图14是说明在空单元内注入油的工序的图。
图15是表示本发明的实施方式的显示装置的变形例的图。
图16是表示本发明的实施方式的显示装置的其他变形例的图。
附图标记说明
10光透过性基板、12光透过性基板、14光闸(快门)、16开口部、18背光源、20第一弹簧、22第一固定部、24第一布线、26第一部分、28第二部分、30第三部分、32第二固定部、34第二弹簧、36第二布线、38驱动部、40遮光膜、42开口部、44密封材料、46断缝、48显示区域、50端部密封材料、52油、54间隔体、56第一间隔部、58第二间隔部、58a树脂部、58b树脂部、58c无机部、60壁部、60a壁部的一部分、60b壁部的一部分、60c壁部的一部分、62第一壁部、64第二壁部、64a树脂部、64b树脂部、64c无机部、66狭缝、68第一树脂层、70第二树脂层、72无机层、74空单元、76真空槽、78容器、160壁部、260壁部、266狭缝。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明。
图1是本发明的实施方式的显示装置的侧视图。显示装置具有一对光透过性基板10、12(例如玻璃基板)。一对光透过性基板10、12以隔开间隔(参照图4)地相对的方式配置。图2是图1所示显示装置的俯视图。在图2中，用虚拟线表示上侧的光透过性基板12，而表示出内部结构。如图2所示，在下侧的光透过性基板10上设有多个(复数的)光闸14。
图3是光闸14及其驱动部的立体图。光闸14由半导体或金属等无机材料构成，是具有开口部16的板部件。开口部16使光透过，并通过开口部16以外的部分将光遮断。开口部16为在一个方向上较长的形状。此外，如图1所示，光由重叠在光透过性基板10上的背光源18供给。
光闸14由第一弹簧20支承并从光透过性基板10浮起。光闸14通过多个(图2中为四个)第一弹簧20支承。第一弹簧20由第一固定(anchor)部22固定在光透过性基板10上。具体为，第一固定部22设置在形成于光透过性基板10上的第一布线24上，且两者电连接。
第一弹簧20由能够弹性变形的材料构成，以能够在与光闸14的板面平行的方向上变形的方式配置。具体为，第一弹簧20具有：向从光闸14离开的方向(与开口部16的长度方向交叉(例如正交)的方向)延伸的第一部分26；向沿着开口部16的长度方向的方向，即从开口部16的长度方向的中央向着外方向延伸的第二部分28；和进一步向从光闸14离开的方向(与开口部16的长度方向交叉(例如正交)的方向)延伸的第三部分30。而且，如图3的箭头所示，光闸14以能够在与开口部16的长度方向交叉(例如正交)的方向上移动的方式由第一弹簧20支承。
在光透过性基板10上设有由第二固定部32支承的第二弹簧34。第二固定部32设置在形成于光透过性基板10上的第二布线36上，且两者电连接。第二弹簧34在与第一弹簧20的第二部分28相比更加远离光闸14的一侧，与该第二部分28相对。对第二固定部32施加电压，通过基于与第一弹簧20的第二部分28的电位差所导致的静电引力，而使第二部分28被拉近至第二固定部32。当第二部分28被拉近时，经由与第二部分28一体的第一部分26，使光闸14也被拉近。也就是说，第一弹簧20以及第二弹簧34是用于将用于机械性地驱动光闸14的驱动部38构成的部件。驱动部38也由半导体或金属等无机材料构成。
图4是图2所示的显示装置的沿IV-IV线剖面的放大图。在上侧的光透过性基板12上形成有遮光膜40。在遮光膜40上形成有开口部42。光闸14的上述开口部16和遮光膜40的开口部42配置在相对的位置上，若使两者连通则使光透过。当通过光闸14的移动使遮光膜40的开口部42被遮蔽时，光被遮断。换言之，机械性地驱动光闸14，以控制向遮光膜40的开口部42行进的光的透过以及遮断。通过对应的一个开口部16以及一个开口部42而构成一个像素，并通过多个像素使图像被显示。因此，设有多个(复数的)光闸14。光闸14以及驱动部38配置在根据从开口部16、42透过的光的有无以及强弱来显示图像的显示区域内(参照图2)。
如图4所示，一对光透过性基板10、12由密封材料44隔开间隔地固定。密封材料44紧贴在一对光透过性基板10、12的相对面的彼此上。另外，如图2所示，密封材料44具有断缝46且以将空间包围的方式形成。具体为，密封材料44具有沿着将矩形的显示区域48包围的矩形轮廓而延伸的部分。此外，与矩形的显示区域48对应地，一对光透过性基板10、12也为矩形。而且，端部密封材料50封堵密封材料44的断缝46，并将密封材料44所包围的空间封闭而形成密封空间。
如图4所示，在密封空间内装满了油52(例如硅油)。光闸14以及驱动部38都配置在油52内。通过油52能够抑制基于光闸14以及驱动部38的动作所导致的振动，还能防止第一弹簧20和第二弹簧34的挨靠。在光透过性基板10、12由玻璃构成的情况下，如果使用折射率与玻璃接近的油52，则通过装满油52，而能够减少在与一对光透过性基板10、12的界面上的光的反射。
显示装置具有保持一对光透过性基板10、12的间隔的间隔体54。间隔体54也配置在油52内，且配置在图2所示的显示区域48内。图4所示的间隔体54由设置在上侧的光透过性基板12上的第一间隔部56和设置在下侧的光透过性基板10上的第二间隔部58接合地构成。第一间隔部56由树脂构成。第二间隔部58具有：双层的树脂部58a、58b；和覆盖其表面的由半导体膜和金属膜构成的无机部58c。
显示装置具有在一对光透过性基板10、12的相对的面的至少一方上形成的壁部60。在图4所示的示例中，壁部60紧贴在一对光透过性基板10、12的相对面的彼此上。具体为，壁部60由设置在上侧的光透过性基板12上的第一壁部62和设置在下侧的光透过性基板10上的第二壁部64接合地构成。壁部60由构成间隔体54、光闸14以及驱动部38的材料形成。在图4所示的示例中，第一壁部62由树脂构成。第二壁部64具有：双层的树脂部64a、64b；和覆盖其表面的由半导体膜和金属膜构成的无机部64c。
如图2所示，壁部60以将显示区域48包围的方式配置。具体为，壁部60配置在将矩形的显示区域48包围的矩形轮廓上。壁部60具有配置在将密封材料44的断缝46和显示区域48之间的最短路径遮断的位置上的部分。即，壁部60至少具有一部分，以将密封材料44的断缝46和显示区域48之间的最短路径遮断。换言之，在密封材料44的断缝46和显示区域48之间具有壁部60的至少一部分。壁部60除了遮断最短路径的位置之外，还形成有狭缝66。
图2的示例中，在将矩形的显示区域48包围的矩形轮廓上，与密封材料44的断缝46相对的直线上未形成有狭缝。壁部60具有从在该直线上延伸的部分60a隔开间隔地、向正交方向(从密封材料44的断缝46离开的方向)延伸的部分60b，且在两者之间形成有狭缝66。另外，在向从密封材料44的断缝46离开的方向延伸的部分60b自身上也形成有狭缝66。进一步地，在向从密封材料44的断缝46离开的方向延伸的部分60b和隔着显示区域48形成于密封材料44的断缝46的相反侧的部分60c之间(也就是角部)，也形成有狭缝66。另外，在隔着显示区域48形成于密封材料44的断缝46的相反侧的部分60c自身上也形成有狭缝66。这样，在壁部60上形成有多个狭缝66。油52从狭缝66穿过，而能够在由壁部60包围的区域的内外流动。
显示装置具有向空单元内填充油52的结构。图5是表示空单元的内部的一部分的俯视图。图6是图5所示的结构的沿VI-VI线的剖视图。如上所述，空单元包含图1中在配置于下侧的光透过性基板10上设置的第二壁部64、第二间隔部58以及第二固定部32。第二固定部32与第二壁部64以及第二间隔部58的表层相同，且由无机材料(半导体或金属)构成。第二固定部32具有立体性地立起而从光透过性基板10浮起的部分。在第二固定部32的下方有第二布线36，实现了两者的电连接。此外，第二间隔部58也配置在第二布线36上。
图7～图10是说明形成第二壁部64、第二间隔部58以及第二固定部32的工序的图。
如图7所示，在图1中配置于下侧的光透过性基板10上形成第一树脂层68。例如，将感光胶(photo resist)等感光性树脂通过光刻法(lithography)印刻成形(patterning)，并通过紫外线等使其硬化，从而形成第一树脂层68。第一树脂层68包含：将第二壁部64的下层的树脂部64a以及第二间隔部58的下层的树脂部58a构成的部分；和对第二固定部32的下侧部分进行模仿的部分。虽然第一树脂层68以载置在第二布线36上的方式形成，但是避开了与第二固定部32的第二布线36的电连接部，也就是说，以使第二布线36的一部分露出的方式形成。
如图8所示，在第一树脂层68上形成第二树脂层70。第二树脂层70也是将感光胶等感光性树脂通过光刻法印刻成形而形成的。第二树脂层70包含：将第二壁部64的上层的树脂部64b以及第二间隔部58的上层的树脂部58b构成的部分；和对第二固定部32的上侧部分进行模仿的部分。第二树脂层70也是避开了与第二固定部32的第二布线36的电连接部，也就是以使第二布线36的一部分露出的方式形成。
如图9所示，与光透过性基板10并列地形成在其上的部件(第二布线36、第一树脂层68以及第二树脂层70)上，通过CVD(Chemical Vapor Deposition、化学气相沉积)或溅射(sputtering)等而形成无机层72(例如a-SiN/Al膜)，并如图10所示地对其进行蚀刻(etching)。无机层72可以为单层也可以为多层。通过蚀刻，能够得到第二壁部64的无机部64c、第二间隔部58的无机部58c以及第二固定部32。而且，通过除去存在于第二固定部32下方的第一树脂层68以及第二树脂层70，从而能够得到图6所示的结构。
通过与第二固定部32的形成相同的工序，来形成光闸14、第一固定部22、第一弹簧20以及第二弹簧34。而且，在相对侧的光透过性基板12上，同时形成第一壁部62以及第一间隔部56(参照图4)。
通过以上工序，使间隔体54、光闸14、驱动部38以及壁部60通过包含薄膜的成膜以及蚀刻的多个流程而同时地形成。
本实施方式的显示装置的制造方法包含上述工序，还包含后续的空单元的装配工序。空单元具有以隔开间隔的方式配置的一对光透过性基板10、12，两者之间的结构除了不具有油52这点之外，与上述显示装置的内容相当。也就是说，空单元是注入油52之前的状态。
图11～图14是说明在空单元内注入油52的工序的图。在本实施方式中，通过注入油52的工序，使空间内部的气压与外部相比成为低气压，并从密封材料44的断缝46注入油52。
具体为，如图11所示，准备一个由密封材料44将空间包围的空单元74。另外，在真空槽76内准备一个装有油52的容器78。如图12所示，在使真空槽76的内部成为真空状态后，使密封材料44的断缝46(注入口)与油52接触。如图13所示，使真空槽76的密闭状态解除并漏入空气，则在空单元74的内部(由密封材料44包围的空间)，使油52从密封材料44的断缝46进行填充。油52粘性越低，则流入速度越快。
根据本实施方式，当从密封材料44的断缝46向显示区域48注入油52时，能够通过壁部60减弱油52的流动，从而能够减少对配置在显示区域48内的光闸14(参照图2)造成的损伤。另外，因为使壁部60与间隔体54、光闸14以及驱动部38同时形成，所以能够避免工序数的增加。这样，如图14所示地将油52填充。之后，如图2所示，将断缝46用端部密封材料50封堵。
图15以及图16是表示本发明的实施方式的显示装置的变形例的图。
在图15所示的示例中，壁部160在断缝46和显示区域48之间以从遮断最短路径的位置穿过并呈直线状延伸的方式形成。壁部160仅形成在该位置上，且不包围显示区域48。因为从断缝46流入的油52(参照图14)在流入显示区域48之前至少先碰到壁部160，所以能够达到上述效果。另外，因为壁部160以超过显示区域48的宽度的长度连续地形成，所以油52以从显示区域48的侧面迂回的方式流动，因此，也能通过使流路变长来减缓流速。
在图16的示例中，壁部260以沿着多条平行的直线延伸且每个沿着直线延伸的部分均具有狭缝266的方式形成。因为狭缝266相互交错形成，所以油52(参照图14)曲折地流动。由此，能够延长油52的流路，从而能减缓流速。
本发明并不限定于上述实施方式，还能进行各种变形。例如，实施方式中已说明的结构能够置换成实质上相同的结构、发挥相同作用效果的结构或能够达到相同目的的结构。

Claims (6)

1.一种显示装置，其特征在于，其具有：
以隔开间隔的方式配置的一对光透过性基板；
紧贴在所述一对光透过性基板的相对面的彼此上，且具有断缝并将空间包围的密封材料；
将所述密封材料的所述断缝封堵，并将所述空间封闭而形成密封空间的端部密封材料；
充满所述密封空间的油；
配置在所述油内，并保持所述一对光透过性基板的所述间隔的间隔体；
在一方的所述光透过性基板上形成的具有开口部的遮光膜；
配置在所述油内的光闸；
配置在所述油内的驱动部，该驱动部用于机械性地驱动所述光闸以控制向所述开口部的光的透过以及遮断；和
在所述一对光透过性基板的所述相对的面的至少一方上形成的壁部，
所述间隔体、所述光闸以及所述驱动部配置在根据透过所述开口部的光的有无以及强弱来显示图像的显示区域内，
所述壁部具有配置在将所述密封材料的所述断缝和所述显示区域之间的最短路径遮断的位置上的部分，并由构成所述间隔体、所述光闸以及所述驱动部的材料形成。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，
所述壁部紧贴在所述一对光透过性基板的所述相对面的彼此上。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，
所述壁部以将所述显示区域包围的方式配置，且除了遮断所述最短路径的所述位置之外，还形成有狭缝。
4.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，
所述壁部在所述断缝和所述显示区域之间以从遮断所述最短路径的所述位置穿过并呈直线状延伸的方式形成。
5.根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于，
所述壁部以沿着多条平行的直线延伸，且各自的沿着所述直线延伸的部分均具有狭缝的方式形成。
6.一种显示装置的制造方法，其特征在于，所述显示装置具有：
以隔开间隔的方式配置的一对光透过性基板；
紧贴在所述一对光透过性基板的相对面的彼此上，且具有断缝并将空间包围的密封材料；
配置在所述油内，并保持所述一对光透过性基板的所述间隔的间隔体；
在一方的所述光透过性基板上形成的具有开口部的遮光膜；
配置在所述空间内的光闸；
配置在所述空间内的驱动部，该驱动部用于机械性地驱动所述光闸以控制向所述开口部行进的光的透过以及遮断；和
在所述一对光透过性基板的所述相对的面的至少一方上形成的壁部，
所述显示装置的制造方法包含：
装配空单元的工序，该工序使得所述间隔体、所述光闸以及所述驱动部配置在根据透过所述开口部的光的有无以及强弱来显示图像的显示区域内，
并且使得所述壁部具有配置在将所述密封材料的所述断缝和所述显示区域之间的最短路径遮断的位置上的部分；和
从所述密封材料的所述断缝向所述空单元注入油的工序，
在装配所述空单元的工序中，使所述间隔体、所述光闸、所述驱动部以及所述壁部通过包含薄膜的成膜以及蚀刻的多个流程而同时地形成，
在注入所述油的工序中，使所述空间内部的气压与外部相比成为低气压，并从所述密封材料的所述断缝注入所述油。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104884991A (zh) * 2012-12-31 2015-09-02 皮克斯特隆尼斯有限公司 在注油过程期间防止玻璃粒子注入
CN106471416A (zh) * 2014-04-18 2017-03-01 施耐普特拉克股份有限公司 机电系统显示装置的密封间隔体

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5731284B2 (ja) 2011-06-02 2015-06-10 ピクストロニクス，インコーポレイテッド 表示装置及びその製造方法
JP2013020105A (ja) 2011-07-12 2013-01-31 Japan Display East Co Ltd 表示装置
US20140078154A1 (en) * 2012-09-14 2014-03-20 Pixtronix, Inc. Display apparatus with multi-height spacers
US20170003499A1 (en) * 2015-07-02 2017-01-05 Pixtronix, Inc. Silane modified fluid for mems stiction reduction

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1756990A (zh) * 2003-03-06 2006-04-05 索尼株式会社 电沉积显示板制造方法、电沉积显示板和显示装置
US20080037104A1 (en) * 2005-02-23 2008-02-14 Pixtronix, Inc. Alignment methods in fluid-filled MEMS displays
US20100027100A1 (en) * 2008-08-04 2010-02-04 Pixtronix, Inc. Display with controlled formation of bubbles

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05127177A (ja) * 1991-11-08 1993-05-25 Fujitsu Ltd 液晶表示素子のシール構造
JPH11133446A (ja) * 1997-10-31 1999-05-21 Pioneer Electron Corp 液晶表示装置及びその製造方法
KR100314392B1 (ko) * 1998-10-15 2001-11-15 니시무로 타이죠 액정표시장치
JP3098515B1 (ja) * 1999-08-13 2000-10-16 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ−ション 液晶表示装置、狭額縁の液晶表示装置、及び液晶表示装置の製造方法
JP3580767B2 (ja) * 1999-10-05 2004-10-27 松下電器産業株式会社 液晶表示パネルならびにその製造方法および駆動方法
JP3726652B2 (ja) * 2000-07-27 2005-12-14 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性組成物、スペーサーおよびカラー液晶表示装置
JP2002090730A (ja) * 2000-09-18 2002-03-27 Alps Electric Co Ltd 液晶表示装置並びに半透過型反射体
US6875257B2 (en) 2002-08-20 2005-04-05 Memx, Inc. Particle filter for microelectromechanical systems
US6703675B1 (en) 2002-08-20 2004-03-09 Memx, Inc. Particle filter for partially enclosed microelectromechanical systems
US7417782B2 (en) 2005-02-23 2008-08-26 Pixtronix, Incorporated Methods and apparatus for spatial light modulation
US7109580B2 (en) 2004-03-03 2006-09-19 Hymite A/S Hermetically sealed package for optical, electronic, opto-electronic and other devices
JP4480443B2 (ja) * 2004-03-31 2010-06-16 富士通株式会社 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法
CA2817616A1 (en) 2005-02-23 2006-08-31 Pixtronix, Inc. A display utilizing a control matrix to control movement of mems-based light modulators
US9158106B2 (en) 2005-02-23 2015-10-13 Pixtronix, Inc. Display methods and apparatus
US20080248613A1 (en) 2006-09-27 2008-10-09 Dongmin Chen Method of Forming a Micromechanical Device with Microfluidic Lubricant Channel
US7932569B2 (en) * 2006-09-27 2011-04-26 Miradia, Inc. Micromechanical device with microfluidic lubricant channel
US7636187B2 (en) * 2006-12-14 2009-12-22 Sony Corporation Optical shutter for display device, image display apparatus, and apparatus and method for manufacturing the optical shutter
EP2264507A3 (en) 2007-01-19 2011-07-20 Pixtronix Inc. A display apparatus
US8498639B2 (en) 2007-02-09 2013-07-30 Qualcomm Incorporated Flexible channel quality indicator reporting
JP4983629B2 (ja) * 2008-02-05 2012-07-25 ソニー株式会社 液体光学素子
JP2009265463A (ja) * 2008-04-28 2009-11-12 Epson Imaging Devices Corp 液晶表示パネル及びその製造方法
JP5731284B2 (ja) 2011-06-02 2015-06-10 ピクストロニクス，インコーポレイテッド 表示装置及びその製造方法
US8767170B2 (en) 2011-06-03 2014-07-01 Silicon Light Machines Corporation Flow through MEMS package
US9122047B2 (en) 2012-12-31 2015-09-01 Pixtronix, Inc. Preventing glass particle injection during the oil fill process

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1756990A (zh) * 2003-03-06 2006-04-05 索尼株式会社 电沉积显示板制造方法、电沉积显示板和显示装置
US20080037104A1 (en) * 2005-02-23 2008-02-14 Pixtronix, Inc. Alignment methods in fluid-filled MEMS displays
US20100027100A1 (en) * 2008-08-04 2010-02-04 Pixtronix, Inc. Display with controlled formation of bubbles

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104884991A (zh) * 2012-12-31 2015-09-02 皮克斯特隆尼斯有限公司 在注油过程期间防止玻璃粒子注入
CN106471416A (zh) * 2014-04-18 2017-03-01 施耐普特拉克股份有限公司 机电系统显示装置的密封间隔体

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Publication number Publication date
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