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CN102808272A - 正反交错提花凉爽丝滑抗电磁辐射面料 - Google Patents

正反交错提花凉爽丝滑抗电磁辐射面料 Download PDF

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CN102808272A
CN102808272A CN201110149313.XA CN201110149313A CN102808272A CN 102808272 A CN102808272 A CN 102808272A CN 201110149313 A CN201110149313 A CN 201110149313A CN 102808272 A CN102808272 A CN 102808272A
Authority
CN
China
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jacquard
jacquard weave
regions
cool
reverse
Prior art date
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Pending
Application number
CN201110149313.XA
Other languages
English (en)
Inventor
孙建良
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Individual
Original Assignee
Individual
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Publication date
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Abstract

本发明涉及一种正反交错提花凉爽丝滑抗电磁辐射面料,属于纺织面料领域。包括基布(1),基布(1)由若干经线和若干纬线交织而成,若干经线和若干纬线中嵌置有几根包芯线(3),所述包芯线(3)由蚕丝包覆金属离子纤维形成,所述基布(1)的正反两面均设有提花层(2),所述提花层(2)包括若干个提花区域(21)和非提花区域(22),所述提花区域(21)和非提花区域(22)均呈块状且交错排列,位于正反两面的提花区域(21)和非提花区域(22)交错对称分布。正反交错提花面料的正反面均设置交错分布的提花区域和非提花区域,增强了面料的层次感。所述基布是麻、纱、丝纤维织层,具有凉爽丝滑感觉。且具有抗电磁辐射功能。

Description

正反交错提花凉爽丝滑抗电磁辐射面料
技术领域
本发明涉及一种面料,尤其涉及一种制作服装、玩具的面料,属于纺织面料领域。
背景技术
提花面料手感柔软舒适,透气性能好,颇受人们的喜爱。现有的提花面料多为单面提花或双面提花,层次感不强。
发明内容
本发明的目的在于克服上述不足,提供一种层次感强的正反交错提花凉爽丝滑抗电磁辐射面料。
本发明的目的是这样实现的:一种正反交错提花凉爽丝滑抗电磁辐射面料,包括基布,所述基布由若干经线和若干纬线交织而成,若干经线和若干纬线中嵌置有几根包芯线,所述包芯线由蚕丝包覆金属离子纤维形成,且所述金属离子纤维呈波浪形,所述基布的正反两面均设有提花层,所述提花层包括若干个提花区域和非提花区域,所述提花区域呈块状,所述提花区域和非提花区域交错排列,位于正反两面的提花区域和非提花区域交错对称分布。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
1、正反交错提花面料的正反面均设置交错分布的提花区域和非提花区域,增强了面料的层次感。
2、由于在经线和若干纬线中嵌置有几根蚕丝包覆金属离子纤维的包芯线,且将蚕丝包覆金属离子纤维的包芯线中的金属离子纤维制成具有记忆性的波浪形,因此,在具有抗电磁辐射的同时又大大提高了面料的支撑性能,同时使金属纤维既有强度,又有弹性和柔度,从而扩大了面料的使用范围,使得该面料可广泛应用在电子、计算机、电讯、电站、发射站、军事仪器等电磁辐射污染源区工作人员。
附图说明
图1为本发明正反交错提花凉爽丝滑抗电磁辐射面料的平面示意图。
图2为图1的A-A剖视图。
其中:
基布1
提花层2
提花区域21
非提花区域22。
包芯线3。
具体实施方式
参见图1和图2,本发明涉及一种正反交错提花凉爽丝滑抗电磁辐射面料,包括基布1,所述基布1由若干经线和若干纬线交织而成,若干经线和若干纬线中嵌置有几根包芯线3,所述包芯线3由蚕丝包覆金属离子纤维形成,且所述金属离子纤维呈波浪形,所述基布1的正反两面均设有提花层2。所述提花层2包括若干个提花区域21和非提花区域22,所述提花区域21和非提花区域22均呈块状且交错排列。位于正反两面的提花区域21和非提花区域22交错对称分布。

Claims (1)

1.一种正反交错提花凉爽丝滑抗电磁辐射面料,包括基布(1),其特征在于:所述基布(1)由若干经线和若干纬线交织而成,若干经线和若干纬线中嵌置有几根包芯线(3),所述包芯线(3)由蚕丝包覆金属离子纤维形成,且所述金属离子纤维呈波浪形,所述基布(1)的正反两面均设有提花层(2),所述提花层(2)包括若干个提花区域(21)和非提花区域(22),所述提花区域(21)和非提花区域(22)均呈块状且交错排列,位于正反两面的提花区域(21)和非提花区域(22)交错对称分布。 
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Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20121205