CN102687066A - 液晶显示装置及其制造方法 - Google Patents

Abstract

在第1基板和第2基板的液晶层侧，以从像素区域向边框区域侧扩展的方式形成有具有流动性的取向膜材料固化从而形成的取向膜。第1基板和第2基板中的至少一方具有支撑基板和支撑结构部，支撑结构部形成于支撑基板上，支撑结构部的至少与支撑基板相反的一侧的表面由取向膜来直接覆盖。支撑结构部具有侧部，侧部以其切平面越朝向支撑基板侧就越向该支撑结构部的外侧倾斜的方式形成。支撑结构部的侧部配置于边框区域并且支撑取向膜的端缘部。

Description

液晶显示装置及其制造方法

技术领域

本发明涉及液晶显示装置及其制造方法，特别是涉及取向膜的涂敷区域的控制。

背景技术

液晶显示装置一般具有在一对基板之间封入有液晶层的结构。一对基板中的一方是形成有多个栅极配线、多个源极配线、多个像素电极和多个TFT等的TFT基板。一对基板中的另一方是形成有多个像素电极共用的共用电极的相对基板。液晶层在TFT基板和相对基板之间被框状的密封构件包围、密封。

在上述一对基板中形成有作为显示区域的像素区域和设置于其外侧周围的作为非显示区域的边框区域。TFT基板的边框区域具有密封构件的形成区域和设置于其外侧周围的端子区域。在端子区域中形成有用于向像素区域提供信号的多个端子。

在TFT基板和相对基板中，在液晶层侧的表面设置有限制该液晶层的液晶分子的取向的取向膜。取向膜包含例如聚酰亚胺等树脂膜，其表面被进行摩擦处理。

取向膜通过在TFT基板和相对基板的表面上涂敷液状的聚酰亚胺，然后烧制、使其固化而形成。聚酰亚胺能通过例如柔版印刷法、喷墨印刷法等来涂敷。

在此，在利用了上述喷墨法的取向膜的形成工序中，需要相对降低该取向膜材料的粘性，以使向基板喷出并命中的聚酰亚胺等取向膜材料在基板表面上充分扩展。

低粘性的取向膜材料在基板表面上会容易地扩展，因此容易扩展至本来不需要它的边框区域。当取向膜材料到达边框区域的端子区域时，多个端子就被作为绝缘膜的取向膜覆盖，其结果是，会阻碍端子和安装于该端子的电路芯片的导通。

对此，在专利文献1和2中提出了在TFT基板的密封构件形成区域和进行显示的像素区域之间形成槽结构，在该槽内汇集取向膜材料，由此防止过剩的取向膜材料的扩展。

例如，如作为截面图的图14所示，在上述专利文献2中公开的TFT基板101具有玻璃基板102，在其表面顺序层叠有栅极绝缘膜103、配线层104和绝缘层105。在绝缘层105中以相互平行延伸的方式形成有多个凹槽106。并且，在液状的取向膜材料108在图14中从右侧的像素区域(未图示)侧流向同图中的左侧的密封构件(未图示)时，该取向膜材料108会汇集到多个凹槽106中的至少一个中。

另外，在专利文献3中公开了在利用喷墨法的彩色滤光片的制造工序中，如作为截面图的图15所示，在支撑基板111上形成进行了防水处理的多个堤岸112，并且该堤岸112的侧面113包含支撑基板111侧的粗糙面114和堤岸112的顶端侧的平滑面115。并且，在相邻的堤岸112彼此之间涂敷油墨116，由此防止相邻的油墨116的混合。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开2004-361623号公报

专利文献2：特开2007-322627号公报

专利文献3：特开2008-046306号公报

发明内容

发明要解决的问题

但是，在如上述专利文献1和2所述形成用于汇集取向膜材料的多个凹槽的构成中，如图14中的箭头A所示，为了确保汇集取向膜材料的容积，需要较宽地设置多个凹槽的形成区域。其结果是，从像素区域到密封构件形成区域的距离变长，因此难以缩小边框状的非显示区域的宽度。

另外，换言之，上述专利文献3的构成是将油墨保持于通过多个堤岸来形成的凹槽内，但是必须对堤岸实施防水处理或在堤岸的侧面形成粗糙面和平滑面，因此为了减少工时，使制造成本降低，还有改善的余地。

本发明是鉴于上述问题而完成的，其目的在于，尽可能地缩小液晶显示装置的非显示区域并且抑制取向膜材料的扩展。

用于解决问题的方案

为了达成上述目的，本发明以如下液晶显示装置为对象，上述液晶显示装置具备：第1基板；第2基板，其与上述第1基板相对配置：液晶层，其设置于上述第1基板和上述第2基板之间；以及密封构件，其设置于上述第1基板和上述第2基板之间，包围、密封上述液晶层。

并且，上述第1基板和上述第2基板分别具有作为显示区域的像素区域和作为非显示区域的边框区域，上述边框区域是该像素区域的外侧周围的区域，包含上述密封构件的形成区域，在上述第1基板和上述第2基板的上述液晶层侧，以从上述像素区域向上述边框区域侧扩展的方式形成有具有流动性的取向膜材料固化从而形成的取向膜，上述第1基板和上述第2基板中的至少一方具有支撑基板和支撑结构部，该支撑结构部形成于该支撑基板上，该支撑结构部的至少与上述支撑基板相反的一侧的表面由上述取向膜来直接覆盖，上述支撑结构部具有侧部，该侧部以切平面越朝向上述支撑基板侧就越向该支撑结构部的外侧倾斜的方式形成，上述支撑结构部的侧部配置于上述边框区域并且支撑上述取向膜的端缘部。

-作用-

接着，说明本发明的作用。

在本发明中，在制造液晶显示装置的情况下，固化前的取向膜材料以从像素区域向边框区域侧扩展的方式形成。并且，取向膜的端缘部形成于边框区域。在本发明中，第1基板和第2基板中的至少一方具有形成于支撑基板上的支撑结构部。并且，支撑结构部的侧部配置于边框区域。

取向膜由支撑结构部的至少与支撑基板相反的一侧的表面来支撑，并且该取向膜的端缘部在上述支撑结构部的侧部被支撑。即，支撑结构部的侧部以其切平面越朝向支撑基板侧就越向支撑结构部的外侧倾斜的方式形成，因此能够利用其粘性来支撑取向膜的端缘部。

因此，在第1基板中，在支撑结构部的侧部和多个端子之间不需要用于汇集取向膜材料的槽结构等，从而能大幅缩小液晶显示装置的非显示区域，并且抑制取向膜材料的扩展。

发明效果

根据本发明，在比支撑结构部的侧部靠端子区域侧不需要用于汇集取向膜的树脂材料的槽结构，因此能够大幅缩小液晶显示装置的非显示区域，并且抑制取向膜材料的扩展。

附图说明

图1是将本实施方式1的TFT基板的一部分放大示出的俯视图。

图2是图1的II-II线截面图。

图3是图1的III-III线截面图。

图4是示出本实施方式1的液晶显示装置的概要构成的俯视图。

图5是将本实施方式1的相对基板的一部分放大示出的俯视图。

图6是图5的VI-VI线截面图。

图7是与图4的VII-VII线截面相当的图。

图8是将TFT基板的支撑结构部放大示出的截面图。

图9是将TFT基板的一部分放大示出的俯视图。

图10是将本实施方式2的TFT基板的结构放大示出的截面图。

图11是将本实施方式3的TFT基板的结构放大示出的截面图。

图12是将其它实施方式的TFT基板的一部分放大示出的俯视图。

图13是将其它实施方式的TFT基板的一部分放大示出的俯视图。

图14是将现有的TFT基板的结构放大示出的截面图。

图15是将现有的相对基板的彩色滤光片的油墨放大示出的截面图。

具体实施方式

下面基于附图来详细说明本发明的实施方式。此外，本发明不限于下面的实施方式。

《发明的实施方式1》

图1～图6示出本发明的实施方式1。

图1是将本实施方式1的TFT基板11的一部分放大示出的俯视图。图2是图1的II-II线截面图。图3是图1的III-III线截面图。图4是示出本实施方式1的液晶显示装置1的概要构成的俯视图。

另外，图5是将本实施方式1的相对基板12的一部分放大示出的俯视图。图6是图5的VI-VI线截面图。图7是与图4的VII-VII线截面相当的图。图8是将TFT基板11的支撑结构部50放大示出的截面图。

图9是将TFT基板11的一部分放大示出的俯视图。此外，在图9中，省略了后述的取向膜23和凹部48的图示。

如图4和图7所示，液晶显示装置1具有：TFT基板11，其作为第1基板；相对基板12，其与TFT基板11相对配置，是第2基板；以及液晶层13，其设置于TFT基板11和相对基板12之间。

另外，液晶显示装置1具有密封构件14，该密封构件14设置于TFT基板11和相对基板12之间，包围、密封液晶层13。如图4所示，密封构件14形成为大致矩形框状，包含例如丙烯酸或者环氧系树脂等紫外线热两用固化型树脂。在密封构件14中分散混入有多个导电性颗粒(未图示)。密封构件14的线宽是例如0.5mm～2.5mm的程度。

TFT基板11和相对基板12分别具有作为显示区域的像素区域31和作为非显示区域的边框区域32，上述非显示区域是像素区域31的外侧周围的区域。边框区域32包含与像素区域31隔着规定的间隔设置的密封构件形成区域34(密封构件14的形成区域)。

另外，在TFT基板11和相对基板12的液晶层13侧，以从像素区域31向密封构件14的形成区域侧扩展的方式形成有具有流动性的取向膜材料24固化从而形成的取向膜23。

取向膜23包括聚酰亚胺等树脂材料，用于限制液晶层13的液晶分子的初始取向。取向膜材料24是通过对聚酰亚胺等添加溶剂使其粘性降低而成的。取向膜材料24可以采用例如JSR株式会社制造的粘度是6.5m Pa·s的垂直取向膜材料。

(TFT基板)

如图9所示，TFT基板11的边框区域32具有端子区域33，该端子区域33是密封构件形成区域34的与像素区域31相反的一侧的区域，形成有用于向像素区域31提供信号的多个端子28。如图4所示，端子区域33形成于TFT基板11的侧部区域。

如图9所示，在TFT基板11的密封构件形成区域34中，在层间绝缘膜43的表面形成有作为电极部的多个焊盘20，上述电极部包括ITO(Indium Tin Oxide：铟锡氧化物)等透明导电膜。焊盘20形成为100nm左右的厚度，沿着密封构件14以规定的间隔配置。该焊盘20用于通过密封构件14的导电性颗粒与相对基板12的共用电极26电连接。

在TFT基板11的像素区域31中将多个像素5(未图示)配置为矩阵状。在各像素5中分别形成有包括ITO等透明导电膜的像素电极15。另外，在各像素5中形成有作为与像素电极15连接的开关元件的TFT(Thin-Film Transistor：薄膜晶体管，未图示)。而且，在TFT基板11上形成有与上述TFT连接的栅极配线(未图示)和源极配线16等。

另外，如图2所示，TFT基板11具有作为支撑基板的玻璃基板21，在该玻璃基板21的液晶层13侧表面形成有覆盖上述栅极配线(未图示)的栅极绝缘膜41。另外，如图1、图4和图9所示，在玻璃基板21的边框区域32形成有包括与上述栅极配线相同的材料的多个引出配线17。引出配线17的线宽是10μm左右。另外，在密封构件形成区域34中相邻的引出配线17彼此的间隔为60μm左右。在该引出配线17的端部设置有端子28。

并且，源极配线16通过接触部18与引出配线17连接。栅极绝缘膜41包含例如SiN、SiO₂等的氧化膜，形成为0.4μm左右的厚度。

在栅极绝缘膜41的表面形成有作为保护膜的钝化膜42。钝化膜42包含例如SiN等的无机膜，形成为0.25μm左右的厚度。

在源极配线16的表面形成有钝化膜42和作为覆盖它的绝缘膜的平坦化膜43。平坦化膜43包含例如光固化性丙烯酸树脂，形成为2.5μm左右的厚度。

在像素区域31的平坦化膜43的表面形成有上述多个像素电极15。另一方面，在密封构件形成区域34的上述平坦化膜43的表面形成有上述密封构件14。

并且，支撑取向膜23或者取向膜材料24的支撑结构部50包含上述平坦化膜43的一部分。换言之，支撑结构部50形成于TFT基板11，支撑结构部50的至少与玻璃基板21相反的一侧的表面由取向膜23来直接覆盖。

在此，如图1和图2所示，在层叠于玻璃基板21上的栅极绝缘膜41、钝化膜42和平坦化膜43中沿着密封构件14以规定的间隔贯通形成有多个凹部48。相邻的凹部48彼此的间隔是50μm以下。在本实施方式1中，凹部48彼此的间隔为例如20μm左右。

另外，如图1所示，凹部48在未配置引出配线17的区域中形成。如图1所示，凹部48从基板法线方向看形成为矩形。凹部48沿着密封构件14的纵方向是50μm左右，而横方向是10μm左右。上述凹部48能通过光刻和蚀刻来形成。

并且，上述支撑结构部50包含形成有多个凹部48的平坦化膜43，支撑结构部50的侧部51包含该凹部48的内壁面的一部分。

如图8所示，支撑结构部50的侧部51以与该侧部51的表面相切的切平面53越朝向玻璃基板21侧就越向该支撑结构部50的外侧(即同图中左侧的密封构件形成区域34侧)倾斜的方式形成。并且，支撑结构部50的侧部51配置于像素区域31和多个端子28之间(特别是在本实施方式中，为像素区域31和密封构件形成区域34之间)，并且支撑取向膜23和取向膜材料24的端缘部25。

在此，以取向膜23和取向膜材料24的端缘部25处的上述侧部51的切平面53与玻璃基板21表面所形成的角度为θ1，以上述取向膜23等的端缘部25处的该端缘部25表面的切平面54与上述切平面53所形成的角度为θ2。

侧部51的切平面53以上述角度θ1倾斜，因此对从像素区域31侧流过来的取向膜材料24在该侧部51能够按角度θ2堵塞。其结果是，取向膜23和取向膜材料24在上述支撑结构部50的侧部51附近向液晶层13侧隆起。

如图2所示，隆起有上述取向膜23和取向膜材料24的区域是200μm左右的宽度。另外，隆起有取向膜材料24的区域的厚度a是大约数μm左右，隆起有固化后的取向膜23的区域的厚度a是大约1μm左右。另一方面，像素区域31侧的平坦的取向膜材料24的厚度b是大约数μm左右，而像素区域31侧的固化后的平坦的取向膜23的厚度b是大约0.1μm左右。

如上所述，在平坦化膜43中，多个凹部48以规定的间隔形成，因此支撑结构部50的侧部51不仅包含凹部48的像素区域31侧的内壁面，也包含其左右两侧的内壁面的一部分。即，支撑结构部50的侧部51的一部分从基板法线方向看形成为コ字状。并且，如图1～图3所示，沿着该コ字状的侧部51隆起形成有上述取向膜23等。由此，如图1所示，从基板法线方向看，取向膜23的端缘部25沿着上述侧部51形成为波状。

(相对基板)

如图5和图6所示，相对基板12具有作为支撑基板的玻璃基板22。在玻璃基板22的液晶层13侧形成有构成彩色滤光片36的多个着色层37和作为遮光膜的黑矩阵38。黑矩阵38的厚度是1.5μm左右。并且，在其表面以100nm左右的厚度形成有包括ITO等透明导电膜的共用电极26。

着色层37是透射R(红)、G(绿)或者B(蓝)的光的滤光片，在相对基板12的像素区域31中矩阵状配置。黑矩阵38还是为了对相邻着色层37彼此之间进行遮光并且对边框区域32进行遮光而形成的。另外，密封构件14与形成于上述TFT基板11的密封构件相同，被配置于边框区域32的密封构件形成区域34。

在该相对基板12的液晶层13侧，也以从像素区域31向密封构件形成区域34侧扩展的方式形成有与形成于TFT基板11的取向膜相同的取向膜材料24固化而形成的取向膜23。

并且，与上述TFT基板11同样，在相对基板12上也形成有支撑结构部50。支撑结构部50设置于密封构件形成区域34的附近，包含沿着密封构件14延伸为肋状的凸条部56。

凸条部56具有：基体部57，其包括与例如蓝色的着色层37相同的材料；以及被覆部58，其覆盖该基体部57。被覆部38包含感光性丙烯酸树脂，该感光性丙烯酸树脂与形成于相对基板12的用于对液晶分子进行垂直取向控制的肋(未图示)或者光间隔物(未图示)为相同材料。

该相对基板12的支撑结构部50也具有与上述TFT基板11的支撑结构部50同样的侧部51。另外，相对基板12的支撑结构部50的侧部51也配置于像素区域31和密封构件形成区域34之间。并且，取向膜23和取向膜材料24的端缘部25同样通过上述侧部51来支撑。

在此，如图6所示，基体部57的厚度是2.5μm左右，宽度是15μm左右。另外，被覆部58在基体部57上的厚度是3.8μm左右，宽度是25μm左右。

向支撑结构部50的液晶层13侧隆起的取向膜材料24的厚度是数μm左右，其固化后的取向膜23的厚度是1μm左右。另一方面，在像素区域31中，取向膜材料24的厚度是数μm左右，其固化后的取向膜23的厚度形成为0.1μm左右。

-制造方法-

接着，说明上述液晶显示装置1的制造方法。

液晶显示装置1的制造方法包含：第1工序，分别形成TFT基板11和相对基板12；以及第2工序，在TFT基板11或者相对基板12的边框区域32中形成框状的密封构件14，滴注液晶来将其提供到该密封构件14的内侧，将上述TFT基板11和相对基板12相互贴合。

第1工序包含：在构成TFT基板11或者相对基板12的玻璃基板21、22上形成支撑结构部50的工序；以及如下工序：以从像素区域31向边框区域32扩展的方式形成具有流动性的取向膜材料24，在通过取向膜材料24来直接覆盖支撑结构部50的至少与玻璃基板21、22相反的一侧的表面的状态下，使该取向膜材料24固化，由此形成取向膜23。

在制造TFT基板11的情况下，首先，在作为透明基板的玻璃基板21的表面上形成栅极配线(未图示)、栅极绝缘膜41、硅膜(未图示)、源极配线16、钝化膜42、平坦化膜43、ITO膜等。

平坦化膜43能够使用光固化性丙烯酸树脂等感光性有机材料、非感光性绝缘膜来形成。在使用感光性有机材料的情况下，可以通过例如旋涂法(也能通过狭缝涂法、喷墨法。)使有机材料形成于玻璃基板21上以使表面变平坦。

其后，通过光刻法和蚀刻，对平坦化膜43、钝化膜42以及栅极绝缘膜41贯通形成多个凹部48。在凹部48的内侧的下层没有金属层的情况下，玻璃基板21会露出。如此，作为平坦化膜43的一部分形成支撑结构部50。通过形成凹部48来形成的支撑结构部50的侧部51配置于边框区域32，并且切平面53越朝向玻璃基板21侧就越向该支撑结构部50的外侧倾斜。

在使用非感光性绝缘膜来形成平坦化膜43的情况下，通过例如CVD法(也能通过溅射法、涂敷型材料的涂敷。)在玻璃基板21上以均匀的膜厚形成绝缘材料层，然后在该绝缘材料层的表面对整个面涂敷感光性抗蚀剂。接着，通过光刻法形成规定的抗蚀剂图案。其后，进行绝缘材料层的蚀刻(湿式蚀刻或者干式蚀刻)，除去上述抗蚀剂图案，由此形成上述多个凹部48。

接着，在上述平坦化膜43的表面形成ITO层，通过光刻和蚀刻对它进行图案化，由此形成多个像素电极15。其后，通过喷墨法向像素区域31提供聚酰亚胺等具有流动性的取向膜材料24以使其覆盖上述像素电极15等。

取向膜材料24从像素区域31流向边框区域32，在到达支撑结构部50的侧部51时，该取向膜材料24的端缘部25被上述侧部51支撑。其结果是，如图2所示，在支撑结构部50的侧部51附近，取向膜材料24向液晶层13侧隆起并被堵塞。其后，烧制取向膜材料24，由此形成取向膜23。

另一方面，在制造相对基板12的情况下，在作为透明基板的玻璃基板22的表面形成共用电极26和彩色滤光片36。这时，在形成彩色滤光片36的着色层37的同时，在边框区域32的黑矩阵38的表面通过与该着色层37相同的材料来形成基体部57。

接着，堆积例如感光性丙烯酸树脂以使其覆盖基体部57和彩色滤光片36，然后对它进行光刻和蚀刻，由此同时形成覆盖基体部57的被覆部58和光间隔物(未图示)或者液晶分子的垂直取向控制用的肋。

其后，通过喷墨法向像素区域31提供聚酰亚胺等具有流动性的取向膜材料24以使其覆盖上述彩色滤光片36等。

取向膜材料24从像素区域31流向边框区域32，在到达支撑结构部50的侧部51时，该取向膜材料24的端缘部25被上述侧部51支撑。其结果是，如图6所示，在支撑结构部50的侧部51附近，取向膜材料24向液晶层13侧隆起并被堵塞。其后，通过烧制取向膜材料24来形成取向膜23。

-实施方式1的效果-

因此，根据该实施方式1，在TFT基板11和相对基板12上设置支撑取向膜23(取向膜材料24)的支撑结构部50，并且在该支撑结构部50形成切平面53越朝向玻璃基板21、22侧就越向支撑结构部50的外侧倾斜的侧部51，因此能够通过支撑结构部50的与玻璃基板21、22相反的一侧的表面来支撑取向膜23(取向膜材料24)，并且即使该取向膜材料24的粘性较低，也能够在支撑结构部50的侧部51支撑该取向膜23(取向膜材料24)的端缘部25。

因而，能够将多余的取向膜材料24汇集到支撑结构部50的侧部51的液晶层13侧，因此在比支撑结构部50的侧部51靠密封构件形成区域34侧不需要用于汇集取向膜材料24的槽结构等，从而能够大幅缩小液晶显示装置1的边框区域32，并且防止密封构件14和取向膜材料24的重叠。

而且，支撑结构部50的侧部51包含形成于平坦化膜43的凹部48的内壁面的一部分，因此能够通过平坦化膜43的图案化来容易地形成该侧部51。此外，如图1所示，在多个凹部48彼此之间使相邻的上述侧部51彼此相互有影响，从而能够抑制取向膜材料24向密封构件形成区域34侧的移动。

特别是，凹部48彼此的间隔为50μm以下，因此能可靠地防止取向膜材料24从凹部48彼此之间向密封构件形成区域34侧流出。在此，在凹部48彼此的间隔大于50μm的情况下，取向膜材料24有可能从凹部48彼此之间流出，因此优选上述间隔是50μm以下。另一方面，优选凹部48彼此的间隔是0μm以上。即，在下层没有配线的情况下，优选以连续地较长延伸的方式形成凹部48。这是由于与相邻的凹部48彼此之间的取向膜材料24的堵塞力相比，凹部48的上游侧(即像素区域31侧)的取向膜材料24的堵塞力较大。

而且，支撑结构部50包含光固化性丙烯酸树脂，因此能够提高其侧部51的厚度和倾斜角度的控制性。

另外，支撑结构部50包含形成于TFT基板11或者相对基板12的绝缘膜(TFT基板11的平坦化膜43，或者相对基板12的光间隔物、液晶分子的垂直取向控制用的肋等)，因此在通常的TFT基板11或者相对基板12的形成工序中能够同时形成支撑结构部50，从而能够抑制制造成本的増加。

而且，相对基板12的支撑结构部50的一部分包含彩色滤光片36的着色层37，因此在彩色滤光片36的制造工序中能够形成支撑结构部50的一部分，能够谋求制造成本的减少。

《发明的实施方式2》

图10示出本发明的实施方式2。

图10是将本实施方式2的TFT基板11的结构放大示出的截面图。此外，在以后的各实施方式中，对与图1～图8相同的部分附上相同的附图标记，省略其具体说明。

在上述实施方式1中将平坦化膜43形成于密封构件形成区域34，但本实施方式2是将密封构件14形成于玻璃基板21，在密封构件14和玻璃基板21之间不隔着作为支撑结构部50的构成材料的平坦化膜43。

即，在TFT基板11的密封构件形成区域34中，将栅极绝缘膜41、钝化膜42以及平坦化膜43通过蚀刻等从玻璃基板21除去。并且，将密封构件14直接形成于玻璃基板21的表面。

因此，根据该实施方式2，在支撑结构部50的侧部51能够将取向膜材料24以向液晶层13侧隆起的方式汇集并且支撑，因此能够得到与上述实施方式1同样的效果。除此以外，即使支撑结构部50的构成材料是例如光固化性丙烯酸树脂等容易吸收水分的材料，由于该材料未介于密封构件14和玻璃基板21之间，因此也能够防止外部气体从该密封构件14和玻璃基板21之间向液晶层13侵入，使液晶显示装置的可靠性提高。

《发明的实施方式3》

图11示出本发明的实施方式3。

图11是将本实施方式3的TFT基板的结构放大示出的截面图。

在上述实施方式1中将多个凹部48与密封构件14隔着规定的间隔来形成，但本实施方式3在各凹部48的内部也形成密封构件14。即，密封构件14在与取向膜23(取向膜材料24)的端缘部25分离的状态下，与支撑结构部50的侧端接触配置。

因此，根据该实施方式3，也设置上述支撑结构部50，从而能够得到与上述实施方式1同样的效果。除此以外，使密封构件14在与取向膜23(取向膜材料24)的端缘部25分离的状态下接触于支撑结构部50的侧端，因此能够进一步缩小边框区域32。而且，在形成密封构件14时，在凹部48内汇集密封构件14，由此能够容易地控制密封构件14的形状。而且，通过在凹部48内形成的密封构件14，能够防止外部气体向液晶层13的侵入。

《其它实施方式》

在上述实施方式1～3中，说明了在TFT基板11和相对基板12的双方形成支撑结构部50的例子，但是本发明不限于此，可以在TFT基板11和相对基板12中的至少一方形成支撑结构部50。

另外，在上述实施方式1～3中，说明了将TFT基板11的支撑结构部50的侧部51配置于像素区域31和密封构件形成区域34之间的例子，但是本发明不限于此，能将其配置于其它边框区域32。

在此，图12和图13是将其它实施方式的TFT基板的一部分放大示出的俯视图。

例如，如图12所示，可以在像素区域31和多个端子28之间在这些端子28的像素区域31侧的附近配置凹部48。即使如此，也能够通过支撑结构部50的侧部51来支撑取向膜材料24的端缘部25，因此能够缩小边框区域32并且抑制取向膜材料24的扩展，使多个端子28从取向膜23露出。因而，能够使多个端子部28和安装于它的驱动电路芯片可靠地导通。

另外，如图13所示，可以在像素区域31和焊盘20之间在像素区域31和密封构件形成区域34之间配置凹部48。凹部48配置于密封构件形成区域34的像素区域31侧的附近。在没有引出配线17的区域中，能将凹部48沿着密封构件形成区域34形成为长条形。

即使如此，与上述同样，也能够缩小边框区域32并且抑制取向膜材料24的扩展，防止密封构件14和取向膜材料24重叠。因而，能够适宜地维持密封构件14和TFT基板11或者相对基板12的紧贴性，能够使外部气体难以从密封构件14和TFT基板11等的界面向液晶层13侵入。

另外，密封构件形成区域34从取向膜材料24露出，因此即使取向膜材料24具有防水作用，也能够使形成于该密封构件形成区域34的密封构件14的形状精度提高。而且，能够使焊盘20从取向膜23露出，因此能够使焊盘20和包含于密封构件14的导电性颗粒可靠地导通。而且，可以将形成于相对基板12的支撑结构部的侧部配置于像素区域31和相对基板12的与焊盘20相对的区域之间。由此，能够使相对基板12的与焊盘20相对的区域的共用电极26和上述导电性颗粒可靠地导通。其结果是，能够将TFT基板11和相对基板12可靠地电连接。

此外，可以在像素区域31和焊盘20之间在焊盘20的像素区域31侧的附近配置凹部48。即，可以是取向膜材料24与密封构件形成区域34的一部分重叠并且焊盘20从取向膜材料24露出的构成。即使通过该构成也能够使焊盘20从取向膜23露出。

工业上的可利用性

如上所述，本发明对液晶显示装置及其制造方法是有用的。

附图标记说明

Claims (17)

1.一种液晶显示装置，其特征在于，

具备：

第1基板；

第2基板，其与上述第1基板相对配置；

液晶层，其设置于上述第1基板和上述第2基板之间；以及

密封构件，其设置于上述第1基板和上述第2基板之间，包围、密封上述液晶层，

上述第1基板和上述第2基板分别具有作为显示区域的像素区域和作为非显示区域的边框区域，上述边框区域是该像素区域的外侧周围的区域，包含上述密封构件的形成区域，

在上述第1基板和上述第2基板的上述液晶层侧，以从上述像素区域向上述边框区域侧扩展的方式形成有具有流动性的取向膜材料固化从而形成的取向膜，

上述第1基板和上述第2基板中的至少一方具有支撑基板和支撑结构部，该支撑结构部形成于该支撑基板上，该支撑结构部的至少与上述支撑基板相反的一侧的表面由上述取向膜来直接覆盖，

上述支撑结构部具有侧部，该侧部以切平面越朝向上述支撑基板侧就越向该支撑结构部的外侧倾斜的方式形成，

上述支撑结构部的侧部配置于上述边框区域并且支撑上述取向膜的端缘部。

2.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，

上述第1基板的边框区域具有端子区域，该端子区域是上述密封构件的形成区域的与上述像素区域相反的一侧的区域，在该端子区域中形成有用于向上述像素区域提供信号的多个端子，

形成于上述第1基板的支撑结构部的侧部配置于上述像素区域和上述多个端子之间。

3.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，

在上述第1基板中的上述密封构件的形成区域中，形成有用于将上述第1基板和上述第2基板相互电连接的电极部，

上述支撑结构部的侧部配置于上述像素区域和上述电极部之间。

4.根据权利要求3所述的液晶显示装置，其特征在于，

形成于上述第2基板的支撑结构部的侧部配置于上述像素区域和与上述电极部相对的区域之间。

5.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，

上述支撑结构部的侧部配置于上述像素区域和上述密封构件的形成区域之间。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的液晶显示装置，其特征在于，

上述取向膜在上述支撑结构部的侧部附近向上述液晶层侧隆起。

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的液晶显示装置，其特征在于，

上述支撑结构部包含沿着上述密封构件以规定的间隔形成有多个凹部的绝缘膜，

上述支撑结构部的侧部包含上述凹部的内壁面的一部分。

8.根据权利要求7所述的液晶显示装置，其特征在于，

相邻的上述凹部彼此的间隔是0μm以上且50μm以下。

9.根据权利要求1至8中的任一项所述的液晶显示装置，其特征在于，

上述支撑结构部包含光固化性树脂。

10.根据权利要求1至9中的任一项所述的液晶显示装置，其特征在于，

形成于上述第1基板的支撑结构部包含形成于该第1基板的平坦化膜。

11.根据权利要求1至10中的任一项所述的液晶显示装置，其特征在于，

上述第2基板是具有彩色滤光片的相对基板，

形成于上述第2基板的支撑结构部由具有上述彩色滤光片的构成材料的凸条部来形成。

12.根据权利要求1、2、3、4、5、6、9、10、11中的任一项所述的液晶显示装置，其特征在于，

上述密封构件形成于上述支撑基板，在上述密封构件和上述支撑基板之间不隔着上述支撑结构部的构成材料。

13.根据权利要求1至12中的任一项所述的液晶显示装置，其特征在于，

上述密封构件在与上述取向膜的端缘部分离的状态下，与上述支撑结构部的侧端接触而配置。

14.一种液晶显示装置的制造方法，其特征在于，

具有：第1工序，分别形成第1基板和第2基板，上述第1基板和上述第2基板分别具有作为显示区域的像素区域和作为非显示区域的边框区域，上述边框区域是该像素区域的外侧周围的区域；以及

第2工序，在上述第1基板或者上述第2基板的上述边框区域中形成框状的密封构件，对该密封构件的内侧提供液晶并且将上述第1基板和上述第2基板相互贴合，

上述第1工序包含：在构成上述第1基板或者上述第2基板的支撑基板上形成支撑结构部的工序；以及如下工序：以从上述像素区域向上述边框区域侧扩展的方式形成具有流动性的取向膜材料，在由上述取向膜材料来直接覆盖上述支撑结构部的至少与上述支撑基板相反的一侧的表面的状态下，使该取向膜材料固化，由此形成取向膜，

在形成上述支撑结构部的工序中，在上述支撑结构部中形成侧部，该侧部配置于上述边框区域，并且该侧部的切平面越朝向上述支撑基板侧就越向该支撑结构部的外侧倾斜，

在形成上述取向膜的工序中，由上述支撑结构部的侧部来支撑上述取向膜材料的端缘部。

15.根据权利要求14所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于，

在形成上述支撑结构部的工序中，使上述侧部配置于上述像素区域和上述密封构件的形成区域之间。

16.根据权利要求14或15所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于，

上述支撑结构部包含沿着上述密封构件以规定的间隔形成有多个凹部的绝缘膜，

上述支撑结构部的侧部包含上述凹部的内壁面的一部分。

17.根据权利要求14至16中的任一项所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于，

上述第2基板是具有彩色滤光片的相对基板，

形成于上述第2基板的支撑结构部由具有上述彩色滤光片的构成材料的凸条部来形成。

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