CN102659405A - 高密度氧化铌溅射靶材的制备方法 - Google Patents
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Abstract
Description
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Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103668068A (zh) * | 2013-12-25 | 2014-03-26 | 河北东同光电科技有限公司 | 一种高致密性氧化铌旋转靶材的制备方法 |
| JP2014194072A (ja) * | 2013-02-26 | 2014-10-09 | Mitsubishi Materials Corp | 酸化ニオブスパッタリングターゲット、その製造方法及び酸化ニオブ膜 |
| CN104496473A (zh) * | 2014-12-30 | 2015-04-08 | 山东昊轩电子陶瓷材料有限公司 | 高致密导电氧化铌靶材的生产方法 |
| CN105506737A (zh) * | 2015-12-28 | 2016-04-20 | 常州瞻驰光电科技有限公司 | 一种非化学计量比氧化铌多晶镀膜材料及其生长技术 |
| CN105734506A (zh) * | 2016-03-28 | 2016-07-06 | 航天材料及工艺研究所 | 一种热等静压氧化铌靶材的制备方法 |
| JP2016188164A (ja) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | 東ソー株式会社 | 酸化物焼結体及びその製造方法 |
| CN106567046A (zh) * | 2016-10-13 | 2017-04-19 | 法柯特科技(江苏)有限公司 | 氧化铌溅射靶材的制备方法 |
| CN109292822A (zh) * | 2018-12-17 | 2019-02-01 | 株洲硬质合金集团有限公司 | 一种高松装密度五氧化二铌的制备方法 |
| CN110218090A (zh) * | 2019-06-25 | 2019-09-10 | 宋伟杰 | 氧化铌旋转靶材的制备方法 |
| CN112341208A (zh) * | 2021-01-07 | 2021-02-09 | 矿冶科技集团有限公司 | 失氧型氧化物陶瓷球形粉末的制备方法、失氧型氧化物陶瓷球形粉末和燃料电池电解质薄膜 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1951873A (zh) * | 2005-10-18 | 2007-04-25 | 北京有色金属研究总院 | 大尺寸陶瓷溅射靶材的热压烧结成型方法 |
| CN101748361A (zh) * | 2008-12-11 | 2010-06-23 | 上海广电电子股份有限公司 | 一种溅射靶材的制造方法 |
| CN101851740A (zh) * | 2009-04-02 | 2010-10-06 | 宜兴佰伦光电材料科技有限公司 | 用于磁控溅射镀膜的导电Nb2O5-x靶材及生产方法 |
| CN101864555A (zh) * | 2009-04-14 | 2010-10-20 | 上海高展金属材料有限公司 | 一种导电的氧化铌靶材、制备方法及其应用 |
| CN102367568A (zh) * | 2011-10-20 | 2012-03-07 | 宁波江丰电子材料有限公司 | 高纯钽靶材制备方法 |
-
2012
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1951873A (zh) * | 2005-10-18 | 2007-04-25 | 北京有色金属研究总院 | 大尺寸陶瓷溅射靶材的热压烧结成型方法 |
| CN101748361A (zh) * | 2008-12-11 | 2010-06-23 | 上海广电电子股份有限公司 | 一种溅射靶材的制造方法 |
| CN101851740A (zh) * | 2009-04-02 | 2010-10-06 | 宜兴佰伦光电材料科技有限公司 | 用于磁控溅射镀膜的导电Nb2O5-x靶材及生产方法 |
| CN101864555A (zh) * | 2009-04-14 | 2010-10-20 | 上海高展金属材料有限公司 | 一种导电的氧化铌靶材、制备方法及其应用 |
| CN102367568A (zh) * | 2011-10-20 | 2012-03-07 | 宁波江丰电子材料有限公司 | 高纯钽靶材制备方法 |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014194072A (ja) * | 2013-02-26 | 2014-10-09 | Mitsubishi Materials Corp | 酸化ニオブスパッタリングターゲット、その製造方法及び酸化ニオブ膜 |
| CN105074046A (zh) * | 2013-02-26 | 2015-11-18 | 三菱综合材料株式会社 | 氧化铌溅射靶、其制造方法及氧化铌膜 |
| CN103668068A (zh) * | 2013-12-25 | 2014-03-26 | 河北东同光电科技有限公司 | 一种高致密性氧化铌旋转靶材的制备方法 |
| CN104496473A (zh) * | 2014-12-30 | 2015-04-08 | 山东昊轩电子陶瓷材料有限公司 | 高致密导电氧化铌靶材的生产方法 |
| JP2016188164A (ja) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | 東ソー株式会社 | 酸化物焼結体及びその製造方法 |
| CN105506737A (zh) * | 2015-12-28 | 2016-04-20 | 常州瞻驰光电科技有限公司 | 一种非化学计量比氧化铌多晶镀膜材料及其生长技术 |
| CN105506737B (zh) * | 2015-12-28 | 2018-02-09 | 常州瞻驰光电科技有限公司 | 一种非化学计量比氧化铌多晶镀膜材料及其生长技术 |
| CN105734506A (zh) * | 2016-03-28 | 2016-07-06 | 航天材料及工艺研究所 | 一种热等静压氧化铌靶材的制备方法 |
| CN106567046A (zh) * | 2016-10-13 | 2017-04-19 | 法柯特科技(江苏)有限公司 | 氧化铌溅射靶材的制备方法 |
| CN109292822A (zh) * | 2018-12-17 | 2019-02-01 | 株洲硬质合金集团有限公司 | 一种高松装密度五氧化二铌的制备方法 |
| CN109292822B (zh) * | 2018-12-17 | 2021-01-26 | 株洲硬质合金集团有限公司 | 一种高松装密度五氧化二铌的制备方法 |
| CN110218090A (zh) * | 2019-06-25 | 2019-09-10 | 宋伟杰 | 氧化铌旋转靶材的制备方法 |
| CN110218090B (zh) * | 2019-06-25 | 2021-12-24 | 宋伟杰 | 氧化铌旋转靶材的制备方法 |
| CN112341208A (zh) * | 2021-01-07 | 2021-02-09 | 矿冶科技集团有限公司 | 失氧型氧化物陶瓷球形粉末的制备方法、失氧型氧化物陶瓷球形粉末和燃料电池电解质薄膜 |
| CN112341208B (zh) * | 2021-01-07 | 2021-07-09 | 矿冶科技集团有限公司 | 失氧型氧化物陶瓷球形粉末的制备方法、失氧型氧化物陶瓷球形粉末和燃料电池电解质薄膜 |
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