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CN102592701B - 一种采用原位合成制备AgTiB2触头材料的方法 - Google Patents

一种采用原位合成制备AgTiB2触头材料的方法 Download PDF

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CN102592701B CN 201210036770 CN201210036770A CN102592701B CN 102592701 B CN102592701 B CN 102592701B CN 201210036770 CN201210036770 CN 201210036770 CN 201210036770 A CN201210036770 A CN 201210036770A CN 102592701 B CN102592701 B CN 102592701B
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梁淑华
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Abstract

本发明公开了一种采用原位合成制备AgTiB2触头材料的方法,该方法以高纯Ag粉、Ti粉和B粉为原料,经过混粉后在压力机下进行压制;最后对压坯进行电弧熔炼,即得到原位生成的AgTiB2触头材料。与现有AgTiB2触头材料的制备技术相比,本发明的制备方法简便,获得的AgTiB2触头材料组织致密,原位生成的TiB2与Ag基体结合好,界面干净,AgTiB2触头材料的综合性显著能高。

Description

一种采用原位合成制备AgTiB2触头材料的方法
技术领域
本发明属于金属材料制备技术领域,具体涉及一种采用原位合成制备AgTiB2触头材料的方法。
背景技术
AgTiB2银基触头材料具有高导电导热性和良好的耐电弧侵蚀性能,在低压触头材料中有着广泛的应用前景。随着对开关电器的小型化、长寿命和可靠性要求的不断提高,对触头材料的性能提出了越来越高的要求。目前,AgTiB2触头材料主要制备方法是采用传统粉末冶金法,但烧结的产品往往存在致密度不高和组织分布不均匀的问题,影响了材料的导电性和硬度。
发明内容
本发明的目的是提供一种采用原位合成制备AgTiB2触头材料的方法,解决了现有方法制备的AgTiB2触头材料致密度低,硬度与导电率低的问题。
本发明的技术方案是,一种采用原位合成制备AgTiB2触头材料的方法,该方法包括以下操作步骤:
步骤1,粉末的配比
按照质量百分比,分别称取1~5%的Ti粉,0.1~5%B粉,其余为Ag粉,以上各组份质量百分比总和为100%,
所述Ti粉的平均粒径为1~10μm、纯度不低于99.9%,B粉平均粒径为1~10μm、纯度不低于99.9%,Ag粉平均粒径为50~100μm、纯度不低于99.99%;
步骤2,混粉
将步骤1称取好的Ag粉、Ti粉和B粉放入混粉机中,添加无水乙醇混合,混合时间为1~5h;
步骤3,压制
将步骤2混合好的粉末在压力机上进行冷压成型,压强为200~400MPa,保压时间为10~50s,制成压坯;
步骤4,电弧熔炼
将步骤3制备好的压坯放在真空电弧炉中,先对炉内抽真空,保证炉体内的真空度不低于10-3Pa,然后通电开始熔化,熔化的温度为1100℃~1300℃,熔化时间为5~15min,反复熔炼多次后随炉冷却,即得到AgTiB2触头材料。
本发明的特点还在于,
步骤2中无水乙醇添加量为Ag粉、Ti粉和B粉总质量的2%。
步骤3中通过模具控制压坯直径为20~40mm,压坯高度为10~30mm。
步骤4中将压坯熔炼2~6次。
本发明的有益效果是,提高了AgTiB2触头材料的致密度、硬度和导电率,使AgTiB2触头材料具有优良的综合性能。
附图说明
图1是本发明制备方法的流程图;
图2是现有方法制备的AgTiB2触头材料显微组织照片;
图3是本发明实施例1中采用球磨的TiB2粉末制备的AgTiB2触头材料显微组织照片;
图4是现有方法制备的AgTiB2触头材料电弧侵蚀形貌显微组织照片;
图5是本发明实施例1中采用球磨的TiB2粉末制备的AgTiB2触头材料电弧侵蚀形貌显微组织照片。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本发明进行详细说明。
本发明提供一种采用原位合成制备AgTiB2触头材料的方法,如图1所示,包括以下操作步骤:
步骤1,粉末的配比
按照质量百分比,分别称取1~5%的Ti粉,0.1~5%B粉,其余为Ag粉,以上各组份质量百分比总和为100%,
所述Ti粉的平均粒径为1~10μm、纯度不低于99.9%,B粉平均粒径为1~10μm、纯度不低于99.9%,Ag粉平均粒径为50~100μm、纯度不低于99.99%;
步骤2,混粉
将步骤1称取好的Ag粉、Ti粉和B粉放入混粉机中,并按照Ag粉、Ti粉和B粉总质量的2%添加无水乙醇,混合时间为1~5h;
步骤3,压制
将步骤2混合好的粉末在压力机上进行冷压成型,压强为200~400MPa,保压时间为10~50s,通过模具控制压坯直径为20~40mm,压坯高度为10~30mm;从而保证压坯中粉末的压制均匀;
步骤4,电弧熔炼
将步骤3制备好的压坯放在真空电弧炉中,先对炉内抽真空,保证炉体内的真空度不低于10-3Pa,然后通电开始熔化,熔化的温度为1100℃~1300℃,熔化时间为5~15min,反复熔炼2~6次后随炉冷却,即得到原位生成法制备的AgTiB2触头材料。
实施例1
按照质量百分比分别称取2.8%、平均粒径为2μm、纯度不低于99.9%的Ti粉,1.2%、平均粒径为1.5μm、纯度不低于99.9%的B粉,余量为平均粒径为70μm、纯度不低于99.99%的Ag粉;将称好的粉末在混粉机上混合,在混料机中按Ag粉、Ti粉和B粉总质量的2%添加无水乙醇,混粉时间为4h;然后将混好的粉末在压力机上压制成型,通过模具控制压坯尺寸为Φ30×10(mm),压强300MPa,保压时间为30s;再将制备好的压坯放在真空电弧炉中,先对炉内抽真空,保证炉体内的真空度高于10-3Pa;然后送电开始熔化,熔化温度1150℃,熔化时间保持在5min,反复熔炼3次;随炉冷却后即获得AgTiB2触头材料。
实施例2
按照质量百分比分别称取2.8%、平均粒径为2μm、纯度不低于99.9%的Ti粉,1.2%、平均粒径为1.5μm、纯度不低于99.9%的B粉,余量为平均粒径为70μm、纯度不低于99.99%的Ag粉;将称好的粉末在混粉机上混合,在混料机中按Ag粉、Ti粉和B粉总质量的2%添加无水乙醇,混粉时间为4h;然后将混好的粉末在压力机上压制成型,通过模具控制压坯尺寸为Φ30×10(mm),压强300MPa,保压时间为30s;再将制备好的压坯放在真空电弧炉中,先对炉内抽真空,保证炉体内的真空度高于10-3Pa;然后送电开始熔化,熔化温度1150℃,熔化时间保持在5min,反复熔炼3次;随炉冷却后即获得AgTiB2触头材料。
实施例3
按照质量百分比分别称取2.8%、平均粒径为2μm、纯度不低于99.9%的Ti粉,1.2%、平均粒径为1.5μm、纯度不低于99.9%的B粉,余量为平均粒径为70μm、纯度不低于99.99%的Ag粉;将称好的粉末在混粉机上混合,在混料机中按Ag粉、Ti粉和B粉总质量的2%添加无水乙醇,混粉时间为4h;然后将混好的粉末在压力机上压制成型,通过模具控制压坯尺寸为Φ30×10(mm),压强300MPa,保压时间为30s;再将制备好的压坯放在真空电弧炉中,先对炉内抽真空,保证炉体内的真空度高于10-3Pa;然后送电开始熔化,熔化温度1150℃,熔化时间保持在5min,反复熔炼3次;随炉冷却后即获得AgTiB2触头材料。
本发明方法制备的AgTiB2触头材料与传统的AgTiB2触头材料的性能对比见表1所示:
表1传统AgTiB2触头材料和本发明所制备AgTiB2触头材料的性能对比
Figure BDA0000136571290000051
Figure BDA0000136571290000061
从上表可以看出,本发明方法制备的AgTiB2触头材料致密度、电导率和硬度均得到明显的提高,从而提高了材料的导电性和硬度,使之能够满足材料的使用要求。
图2和图4是传统方法制备的AgTiB2触头材料的微观组织和电弧侵蚀后的表面形貌,图3和图5是本发明方法制备的AgTiB2触头材料的微观组织和电弧侵蚀后的表面形貌。从图2和图3中可以明显的看出本发明制备的AgTiB2触头材料的微观组织中TiB2颗粒变的细小,而且分布均匀;从图4和图5的对比中可以看出,和传统制备方法相比,本发明制备的AgTiB2触头材料的表面电弧侵蚀形貌更加平坦,不存在大的侵蚀蚀坑,材料的耐电弧侵蚀性能得到了极大地提高。
本发明的制备方法简便,获得的AgTiB2触头材料组织致密,原位生成的TiB2与Ag基体结合好,界面干净,AgTiB2触头材料的综合性显著能高。

Claims (4)

1.一种采用原位合成制备AgTiB2触头材料的方法,其特征在于,该方法包括以下操作步骤:
步骤1,粉末的配比
按照质量百分比,分别称取1~5%的Ti粉,0.1~5%B粉,其余为Ag粉,以上各组份质量百分比总和为100%,
所述Ti粉的平均粒径为1~10μm、纯度不低于99.9%,B粉平均粒径为1~10μm、纯度不低于99.9%,Ag粉平均粒径为50~100μm、纯度不低于99.99%;
步骤2,混粉
将步骤1称取好的Ag粉、Ti粉和B粉放入混粉机中,添加无水乙醇混合,混合时间为1~5h;
步骤3,压制
将步骤2混合好的粉末在压力机上进行冷压成型,压强为200~400MPa,保压时间为10~50s,制成压坯;
步骤4,电弧熔炼
将步骤3制备好的压坯放在真空电弧炉中,先对炉内抽真空,保证炉体内的真空度不低于10-3Pa,然后通电开始熔化,熔化的温度为1100℃~1300℃,熔化时间为5~15min,反复熔炼2~6次后随炉冷却,即得到AgTiB2触头材料。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤2中无水乙醇添加量为Ag粉、Ti粉和B粉总质量的2%。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤3中通过模具控制压坯直径为20~40mm,压坯高度为10~30mm。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤4中将压坯熔炼2~6次。
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