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CN102452239A - 图案转印方法和图案转印装置以及利用该方法制造的产品 - Google Patents

图案转印方法和图案转印装置以及利用该方法制造的产品 Download PDF

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CN102452239A
CN102452239A CN2011102707579A CN201110270757A CN102452239A CN 102452239 A CN102452239 A CN 102452239A CN 2011102707579 A CN2011102707579 A CN 2011102707579A CN 201110270757 A CN201110270757 A CN 201110270757A CN 102452239 A CN102452239 A CN 102452239A
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CN
China
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pattern
board
thing
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substrate
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CN2011102707579A
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梁民阳
康凤哲
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Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST
Original Assignee
Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST
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Abstract

本发明涉及图案转印方法和图案转印装置以及利用该方法制造的柔性显示面板、柔性太阳能电池、电子书、薄膜晶体管、电磁波屏蔽片、柔性印刷电路板。本发明提供的图案转印方法包括：在基板上形成图案形成物的第一步骤；将图案形成物固化为固体状态的第二步骤；向固化的图案形成物照射激光，以使图案形成物图案化的第三步骤；相互对接图案化的固体状态的图案形成物和柔性基板并施压，向图案形成物至柔性基板的方向或柔性基板至图案形成物的方向照射激光，利用图案形成物和柔性基板对接部位所产生的柔性基板的粘性力将图案形成物转印到柔性基板的第四步骤。

Description

图案转印方法和图案转印装置以及利用该方法制造的产品
技术领域
本发明涉及图案转印方法和图案转印装置以及利用该方法制造的柔性显示面板、柔性太阳能电池、电子书、薄膜晶体管、电磁波屏蔽片、柔性印刷电路板。
背景技术
最近，在光电子产业、显示器产业、半导体产业、生物产业中对于产品的薄膜化、高性能化的要求在增加。为符合这种要求，需要使构成各个部件的配线或功能性薄膜层形成更加小且均匀的图案。
通常，现有的制造微米以下的图案的方法有光刻(photolithography)，精细掩模沉积(Fine Mask Deposition，FMD)，印刷(printing)，纳米压印(NanoImprinting Lithography，NIL)，微接触印刷(Micro Contact Printing，MCP)，激光辅助图案转印(Laser Assisted Pattern Transfer，LAPT)，激光直接图形加工(Laser direct patterning)等。但是这些制造方法具有各自的工序上的限制。
第一，光刻(photolithography)具有如下问题。即，制造过程复杂、阴影掩模(shadow mask)制造困难、制造费用高，且由于掩模的扭曲导致精度下降。而且还具有掩模和目标物的对齐困难、工序变更，即图案(pattern)的大小及形状的变更困难的缺点。
第二，FMD具有光刻方法中的上述的与阴影掩模相关的问题和制造费用高的问题。而且，还具有材料方面受到限制和制造时间长的问题。
第三，在印刷(printing)中，喷墨(ink-jet)方式要求制造图案的材料为液态的溶液(solution)，因此无法使用多样的材料，且由于无法均匀地喷射液体，因此具有会产生不均匀的图案的缺点。而且，需要转印图案的基板为柔性基板时，油墨烧结时柔性基板可能会被热分解，因此烧结温度将受到限制，据此对于例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)的耐热性低的基板不适合采用喷墨方式。而且，还具有为了使液迹沾在基板上，基板需要进行表面处理的问题。
第四，印刷方式中的卷对卷(roll to roll)方式适用于图案的大小为30～40μm程度的相对大的图案的制造，虽然具有图案的制作速度快的优点，但是对于卷形态的模具来说，由于图案具有几何结构，因此模具的制作困难，且图案形成物残留于模具的槽内，导致转印效率降低。而且，为了提高转印效率，要求诸如表面处理的额外工序，由于图案形成物以液态转印，因此图案的边界不明确，并对于周围环境(温度，湿度等)的变化受到较大的影响。
第五，NIL方式由于通过使用光刻胶(photo resist，PR)的蚀刻进行图案化，因此不是直接图案化的方式，因产生残留光刻胶的问题，所以制造过程复杂，还需要进行表面处理，以容易使模具隔开。
第六，微接触印刷工序虽然可以制造出图案大小为数十μm～数十nm的宽范围的图案，但是需要柔性模具，据此需要用于制造柔性模具的额外工序，且加压时，柔性模具会产生变形。而且，难以形成大面积的均匀的图案，存在需要用于提高转印效率的附加工序(表面处理)的问题。
第七，LAPT中，由于图案仅形成于激光所经过的位置，因此对于制造大面积图案来说，制造时间较长，且由于图案的边界被激光切断时粒子飞散到基板，因此相对于其他工序具有图案的边界不均匀的问题。
最后，对于激光直接图形加工来说，若激光直接照射到柔性基板，则由于柔性基板的低耐热性，容易损坏基板，因此可适用的基板有限，且由于所有图案都要照射激光，因此不适用于图案的大量生产。另外，虽然有使用熔点低的由数nm的粒子构成的金属油墨并将激光直接照射到柔性基板而进行图形加工的例子，但是由于油墨非常昂贵，因此制造费用高，可使用的材料有限。
图1为示出根据现有技术的图案转印方法转印的图案的照片。另外，图1为使用LAPT转印的图案。
如图1所示，利用LAPT转印的图案中，边界被激光切断时，图案的周围将分散粒子。因此，由于在图案的周围飞散粒子，因此LAPT具有图案的边界不均匀的问题。
另外，不可能实现向柔性基板直接照射激光而进行图形加工。其原因在于，若向柔性基板直接照射激光，则由于柔性基板的低熔点特性，容易损坏基板。虽然有作为转印材料使用熔点低的由数nm的粒子构成的金属油墨(ink)直接将激光照射到柔性基板而进行图形加工的例子，但是此时使用的转印材料的种类有限，且由于这种金属油墨非常昂贵，因此制造费用高。
而且，将这种转印材料转印到基板时，其转印材料和基板之间的粘接力小，因此转印材料容易脱落或因柔性基板的移动形成断线。
发明内容
为了解决上述问题，本发明的目的在于提供一种通过相互对接在基板上图案化并固化成固体状态的图案形成物与柔性基板并施压，将激光照射到图案化的图案形成物和柔性基板对接的部位，并根据此时产生的柔性基板的粘性力，将固体状态的图案形成物转印到柔性基板，由此能够将图案转印到柔性基板，且被转印的图案的边界明确，并能够在大面积上均匀地形成图案的图案转印方法和图案转印装置以及利用该方法制造的柔性显示面板、柔性太阳能电池、电子书、薄膜晶体管、电磁波屏蔽片、柔性印刷电路板。
而且，本发明的目的在于提供一种通过利用柔性基板产生的粘性力将被图案化的图案形成物直接转印到柔性基板，由此没有专门的粘接层也可以制造出牢固地粘接到柔性基板的图案，并能够减少图案制造工序的图案转印方法和图案转印装置以及利用该方法制造的柔性显示面板、柔性太阳能电池、电子书、薄膜晶体管、电磁波屏蔽片、柔性印刷电路板。
而且，本发明的目的在于提供一种通过利用激光将移动基板并图案化于基板上的转印材料转印到卷绕于卷上的柔性基板上，由此能够执行连续的转印工序的图案转印方法和图案转印装置以及利用该方法制造的柔性显示面板、柔性太阳能电池、电子书、薄膜晶体管、电磁波屏蔽片、柔性印刷电路板。
而且，本发明的目的在于提供一种不使用掩模就能够迅速制造图案，并容易地变更制造工序的图案转印方法和图案转印装置以及利用该方法制造的柔性显示面板、柔性太阳能电池、电子书、薄膜晶体管、电磁波屏蔽片、柔性印刷电路板。
而且，本发明的目的在于提供一种通过将固体状态的图案形成物转印到柔性基板，能够制造出耐久性高的图案的图案转印方法和图案转印装置以及利用该方法制造的柔性显示面板、柔性太阳能电池、电子书、薄膜晶体管、电磁波屏蔽片、柔性印刷电路板。
而且，本发明的目的在于提供一种适合大量生产图案的图案转印方法。
而且，本发明的目的在于提供一种图案制造费用低廉且能够快速制造图案的图案转印方法。
而且，本发明的目的在于提供一种图案被转印的目标基板不会产生热变形的图案转印方法。
而且，本发明的目的在于提供一种能够在耐热性低的基板上实施图案化的图案转印方法。
而且，本发明的目的在于提供一种提高边界的均匀度的图案转印方法。
而且，本发明的目的在于提供一种图案的大小或品质不会随周围环境而变化的图案转印方法。
而且，本发明的目的在于提供一种能够容易地改变图案的厚度的图案转印方法。
而且，本发明的目的在于提供一种能够制造比激光的焦点的尺寸还小的图案的图案转印方法。
而且，本发明的目的在于提供一种不采用利用激光而直接在目标基板上图案化的方法，而采用选择性地涂覆油墨的表面模具在目标基板上执行图案化的方法，从而适合大量生产的图案转印方法。
作为第1发明的图案转印方法，包括：在基板上形成图案形成物的第一步骤；将图案形成物固化为固体状态的第二步骤；向固化的图案形成物照射激光，以使图案形成物图案化的第三步骤；相互对接图案化的固体状态的图案形成物和柔性基板并施压，向图案形成物至柔性基板的方向或柔性基板至图案形成物的方向照射激光，利用图案形成物和柔性基板对接部位所产生的柔性基板的粘性力将图案形成物转印到柔性基板的第四步骤。
由此，根据作为第1发明的图案转印方法，相互对接在基板上图案化并固化成固体状态的图案形成物与柔性基板并施压，将激光照射到图案化的图案形成物和柔性基板对接的部位，并根据此时产生的柔性基板的粘性力，将固体状态的图案形成物转印到柔性基板，由此能够利用激光将图案转印到柔性基板上，且被转印的图案的边界明确，并能够在大面积上均匀地形成图案。
作为第2发明的图案转印方法，包括：在由熔点高于玻璃的物质形成的基板上形成图案形成物的第一步骤；向图案形成物的预定区域照射激光，以将图案形成物的预定区域固化为固体状态的第二步骤；利用有机溶剂清除预定区域之外的图案形成物的第三步骤；将图案形成物的预定区域再次固化为固体状态的第四步骤；相互对接图案化的固体状态的图案形成物和柔性基板并施压，向图案形成物至柔性基板的方向或柔性基板至图案形成物的方向照射激光，利用图案形成物和柔性基板对接部位所产生的柔性基板的粘性力将图案形成物转印到柔性基板的第五步骤。
由此，根据作为第2发明的图案转印方法，相互对接固化为固体状态的图案形成物与柔性基板并施压，将激光照射到图案化的图案形成物和柔性基板对接的部位，并根据此时产生的柔性基板的粘性力，将固体状态的图案形成物转印到柔性基板，由此能够利用激光将图案转印到柔性基板上，且被转印的图案的边界明确，并能够均匀地形成图案。
作为第3发明的图案转印装置，包括：柔性基板，包括聚合物，一面卷绕于卷上；基板，布置为与柔性基板的下部相互对接并被施压，其上面形成的图案形成物被固化为固体状态之后，由激光被图案化；移动部，设置于基板的下面，以移动基板；激光照射部，向移动部至柔性基板的方向照射激光，其中，运行移动部以使基板移动时，柔性基板和基板相互对接并受压，根据由来自激光照射部的激光在图案形成物与柔性基板相对接的部位产生的柔性基板的粘性力，图案形成物转印到柔性基板。
由此，根据作为第3发明的图案转印装置，相互对接在基板上图案化并固化为固体状态的图案形成物与柔性基板并施压，将激光照射到图案化的图案形成物和柔性基板对接的部位，并根据此时产生的柔性基板的粘性力，将固体状态的图案形成物转印到柔性基板，由此能够利用激光将图案转印到柔性基板上，且被转印到柔性基板的图案的边界明确，并能够在大面积上均匀地形成图案。而且，根据该图案转印装置，由于在移动基板的同时将图案化于基板上的图案形成物利用激光转印到卷绕于卷上的柔性基板上，因此能够执行连续的转印工序。
作为第4发明的图案转印装置在作为第3发明的图案转印装置中，激光照射部以线光束照射激光。
由此，根据作为第4发明的图案转印装置，由于以线光束照射激光，因此能够仅将图案化的转印材料中的特定部位的转印材料转印到基板上。
作为第5发明的图案转印方法，包括：在基板上形成疏水性涂覆层之后，利用激光诱导等离子体选择性地清除疏水性涂覆层，以形成表面模具的第一步骤；在表面模具上载入图案形成物，进行干燥后进行高温烧结，以形成图案的第二步骤；通过相互对接表面模具和目标基板并施压，并向表面模具至目标基板的方向或者目标基板至表面模具的方向照射激光，利用表面模具上的图案形成物与目标基板相对接的部位所产生的目标基板的粘性力，使图案形成物转印到目标基板的第三步骤。
由此，根据作为第5发明的图案转印方法，由于使用激光诱导等离子体，因此能够制造比激光焦点更小的图案。而且，由于使用载入图案形成物的表面模具，因此仅依据将图案形成物涂覆于表面模具上，就能够得到与最终要转印的图案相同的图案，且图案制造费用低廉，图案制造速度快。并且，由于向表面模具至目标基板的方向或目标基板至表面模具的方向照射激光，因此也能够在耐热性低的目标基板进行图案化。而且，还有利于反复制造相同的图案。
作为第6发明的图案转印方法在作为第5发明的图案转印方法中，所述第一步骤包括：在基板上形成疏水性涂覆层的步骤；在所述疏水性涂覆层上涂覆等离子体诱发层的步骤；向所述基板至所述等离子体诱发层方向照射激光，以选择性地清除疏水性涂覆层的步骤；以及清除所述等离子体诱发层的步骤。
根据作为第6发明的图案转印方法，由于通过强的等离子羽辉(plume)瞬间清除疏水性涂覆层，因此能够通过调整等离子的大小以相比激光焦点尺寸(spot size)更微小的尺寸清除疏水性涂覆层。
作为第7发明的图案转印方法在作为第5发明的图案转印方法中，在第二步骤中使用的图案形成物为亲水性有机金属油墨。
由此，根据作为第7发明的图案转印方法，由于图案形成物更加容易粘结于亲水性的基板，可进一步提高图案的边界及均匀度。
作为第8发明的图案转印装置，包括：柔性基板，包括聚合物，一面卷绕于卷上；基板，上面形成的疏水性涂覆层被选择性地清除之后，涂覆有图案形成物，且布置为与柔性基板的下部相互对接并被施压；移动部，设置于基板的下面，以移动基板；以及激光照射部，向基板至柔性基板的方向或柔性基板至基板方向照射激光，其中，运行移动部以使基板移动时，柔性基板和基板相互对接并受压，根据由来自激光照射部的激光在图案形成物与柔性基板相对接的部位产生的柔性基板的粘性力，图案形成物转印到柔性基板。
由此，根据作为第8发明的图案转印装置，相互对接涂覆图案形成物的基板与柔性基板并施压，将激光照射到图案形成物和柔性基板对接的部位，并根据此时产生的柔性基板的粘性力，将图案形成物转印到柔性基板，由此能够利用激光将图案转印到柔性基板上，且被转印到柔性基板的图案的边界明确，并能够在大面积上均匀地形成图案。而且，根据该图案转印装置，由于在移动基板的同时将涂覆于基板上的图案形成物利用激光转印到卷绕于卷上的柔性基板上，因此能够执行连续的转印工序。
作为第9发明的柔性显示面板，包括根据作为第1、2、5发明的图案转印方法转印的图案所形成的电极。
由此，作为第9发明的柔性显示面板可提供电极配线的边界明确，并具有均匀的电极配线的柔性显示面板。
作为第10发明的柔性太阳能电池，包括根据作为第1、2、5发明的图案转印方法转印的图案所形成的电极。
由此，作为第10发明的柔性太阳能电池可提供电极配线的边界明确，并具有均匀的电极配线的柔性太阳能电池。
作为第11发明的电子书，包括根据作为第1、2、5发明的图案转印方法转印的图案所形成的电极。
由此，作为第11发明的电子书可提供电极配线的边界明确，并具有均匀的电极配线的电子书。
作为第12发明的电磁波屏蔽片，包括根据作为第1、2、5发明的图案转印方法转印的图案。
由此，作为第12发明的电磁波屏蔽片可提供被转印到电磁波屏蔽片用膜上的图案的边界明确，并具有均匀的图案的电磁波屏蔽片。
作为第13发明的薄膜晶体管，包括根据作为第1、2、5发明的图案转印方法转印的图案所形成的栅极、源极、漏极。
由此，作为第13发明的薄膜晶体管可提供电极配线的边界明确，并具有均匀的电极配线的薄膜晶体管。
作为第14发明的柔性印刷电路板，包括根据作为第1、2、5发明的图案转印方法转印的图案所形成的导电性配线。
由此，作为第14发明的柔性印刷电路板可提供导电性配线的边界明确，并具有均匀的导电性配线的柔性印刷电路板。
如上所述，根据本发明，通过相互对接在基板上图案化并固化成固体状态的图案形成物与柔性基板并施压，将激光照射到图案化的图案形成物和柔性基板对接的部位，并根据此时产生的柔性基板的粘性力，将固体状态的图案形成物转印到柔性基板，因此能够将图案转印到柔性基板，且被转印的图案的边界明确，并能够在大面积上均匀地形成图案。
而且，根据本发明，通过利用柔性基板产生的粘性力将被图案化的图案形成物直接转印到柔性基板，因此没有专门的粘接层也可以制造出牢固地粘接到柔性基板的图案，并能够减少图案制造工序。
而且，根据本发明，通过利用激光并移动基板的同时将图案化于基板上的转印材料转印到卷绕于卷上的柔性基板上，因此能够执行连续的转印工序。
而且，根据本发明，不使用掩模就能够迅速制造图案，并容易地变更制造工序。
而且，根据本发明，通过将固体状态的图案形成物转印到柔性基板，因此能够制造出耐久性高的图案。
而且，根据本发明，能够提供适合大量生产图案的图案转印方法。
而且，根据本发明，能够提供图案制造费用低廉且能够快速制造图案的图案转印方法。
而且，根据本发明，能够提供图案被转印的目标基板不会产生热变形的图案转印方法。
而且，根据本发明，能够提供能够在耐热性低的基板上实施图案化的图案转印方法。
而且，根据本发明，能够提供提高边界的均匀度的图案转印方法。
而且，根据本发明，能够提供图案的大小或品质不会随周围环境而变化的图案转印方法。
而且，根据本发明，能够提供能够容易地改变图案的厚度的图案转印方法。
而且，根据本发明，能够提供能够制造比激光的焦点的尺寸还小的图案的图案转印方法。
而且，根据本发明，能够提供不采用利用激光而直接在目标基板上图案化的方法，而采用选择性地涂覆油墨的表面模具在目标基板上执行图案化的方法，从而适合大量生产的图案转印方法。
如上所述的针对本发明的所要解决的技术问题、技术手段、技术效果之外的具体事项包含于下述的实施例及附图中。若与附图一起参照详细记载并后述的实施例，则会明确本发明的优点及特征以及实现优点及特征的方法。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的构成要素。
附图说明
图1为示出根据现有技术的图案转印方法而转印的图案的照片；
图2为示出本发明的第一实施例提供的图案转印方法的顺序的流程图；
图3a至图3d为表示图2的图案转印方法的各个步骤的图；
图4为示出本发明的第二实施例提供的图案转印方法的顺序的流程图；
图5a至图5e为表示图4的图案转印方法的各个步骤的图；
图6为示出利用图2的图案转印方法转印到柔性基板上的图案的图；
图7为示出根据本发明第三实施例的图案转印装置的图；
图8为示出根据本发明第四实施例的图案转印方法的顺序的流程图；
图9为示出本发明的第四实施例中转印图案的一系列过程的图；
图10为在本发明的第四实施例中详细区分构成第一步骤的步骤而示出转印图案的一系列过程的图；
图11为示出本发明的第四实施例中的图案形成物从基板转印至柔性基板的原理的图；
图12为利用本发明第四实施例的图案转印方法使得图案转印能够连续实现的图案转印装置的图。
附图标号说明
10：疏水性涂覆层            30：等离子体诱发层
31：等离子体诱发层的粒子    40：洗涤液
60：疏水性弱的物质          20、100：基板
50、110：图案形成物         111：图案形成物的预定区域
90、120：表面模具           80：目标基板
200：柔性基板               300：移动部
310：辊子                   400：激光照射部
500：激光光源               510：扫描器
R：卷                       A、B：辊子
具体实施方式
以下，参照附图详细说明本发明的实施例。但本领域具有一般知识的技术人员应知，对于附图的说明仅是为了进一步便于公开本发明的内容，因此本发明的范围并不局限于附图所示的范围。
图2为示出根据本发明的第一实施例的图案转印方法的顺序的流程图。图2中，为了图案化图案形成物110，在图案的开口不宽时使用接受激光的部分被剥离的正胶方式。另外，基板为例如为玻璃的基板，在照射激光时即使转印材料发生剥离，基板也不会因热而变形或者损伤(damage)，该基板共同应用于以下的本发明的第一至第三实施例。
如图2所示，本发明的第一实施例提供的图案转印方法包括：在基板上形成图案形成物110的第一步骤S100；将图案形成物110固化为固体状态的第二步骤S200；向固化的图案形成物110照射激光，以使图案形成物110图案化的第三步骤S300；相互对接图案化的固体状态的图案形成物110和柔性基板200并施压，向图案形成物110至柔性基板200的方向或柔性基板200至图案形成物110的方向照射激光，利用图案形成物110和柔性基板200对接部位所产生的柔性基板200的粘性力将图案形成物110转印到柔性基板200的第四步骤S400。
第一步骤S100为在基板上形成所述图案形成物110的步骤，是在诸如玻璃的硬质基板(以下称为基板)上涂覆液体状态的油墨(ink)或金属膏状物(paste)的步骤。此时，在第一步骤S100所采用的形成图案形成物110的方法包括旋转涂覆(spin coating)、刮刀涂覆(blading coating)、狭缝涂覆(slitcoating)、电镀法(electro plating)、沉积法(deposition)等。另外，在第一步骤S100中，根据转印材料的种类、转印材料与基板的粘接特征、转印材料的涂覆特性，在形成图案形成物110之前，也可以在基板上首先执行可剥离涂覆，然后形成转印材料。而且，当转印材料为液体状态时，采用以下方式固化该液体状态的转印材料，即利用100℃至200℃的热量仅使液体状态的溶剂蒸发，留下内部的固体状态的纳米粒子。或者，在大气环境中干燥液体状态的转印材料而进行固化。形成图案形成物的转印材料包括由纳米微粒子构成的金属膏状物。本发明中，以形成图案形成物110的转印材料为由纳米微粒子构成的金属膏状物为例进行说明，但并不局限于此，可以使用包含金属物质、有机物质、无机物质、陶瓷、蛋白质或者细胞等的生物材料等。而且，本发明的转印材料可以使用任何材料，只要该材料的导热率高于柔性基板的导热率即可。
第二步骤S200为将图案形成物110固化为固体状态的步骤。在第二步骤S200中，在大气环境中固化图案化于基板上的图案形成物110。而且，第二步骤S200中当图案化于基板上的形成图案形成物110的转印材料为液体状态时，可以采用以下方法使其固化为固体状态。即，给该液体状态的转印材料施加50℃至200℃的热量，仅使液体状态的溶剂蒸发，留下内部的固体状态的纳米粒子。
第三步骤S300为向第二步骤S200中固化的固体状态的图案形成物110照射激光，以使图案形成物110图案化的步骤。此时，激光使用脉冲激光。第三步骤S300中，使用脉冲激光剥离图案形成物110的特定部位(即，接受激光的部位)，以使图案形成物110图案化。对于正胶方式的更具体的说明将在涉及图3a至图3d的说明中进行。
第四步骤S400为如下的步骤。即，相互对接在第三步骤S300中图案化的固体状态的图案形成物110和柔性基板200并施压。然后，向图案形成物110至柔性基板200的方向或者柔性基板200至图案形成物110的方向照射未聚焦的激光，利用图案形成物110与柔性基板200对接的部位所产生的柔性基板200的粘性力将图案化的图案形成物110转印到柔性基板200。此时，柔性基板200包含聚合物。聚合物意指塑料(例如，PET)。根据转印材料和基板的特性，激光可以使用连续波(CW)激光(continuous wave laser)或者脉冲激光(pulsed laser)。
由此，根据本图案转印方法，由于利用柔性基板200的粘性力将固体状态的图案形成物110直接转印到柔性基板200，因此相对于将液体状态的转印材料直接转印之后固化的现有方法，可利用低能量的激光加热固化的固体状态的图案形成物110而转印。
图3a至图3d为示出图2的转印方法的各个步骤的图。另外，图3a至图3d示出使用正胶(positive)方式进行图案化的方式。在此，图3a对应于图2的第一步骤S100，图3b对应于图2的第二步骤S200及第三步骤S300，图3c对应于图2的第四步骤S400，图3d对应于通过图2的图案转印方法转印的图案。
如图3a所示，在基板100上形成图案形成物110。通过使用旋转涂覆(spincoating)、刮刀涂覆(blading coating)、狭缝涂覆(slit coating)、电镀法(electroplating)、沉积法(deposition)等，将诸如油墨或膏状物等转印材料形成在基板100上。此时，基板100可以使用诸如玻璃的硬且包含透明物质的基板。这种基板100相对于后述的柔性基板200熔点高，因此具有不会轻易被激光L损伤的特性。
如图3b所示，向图案形成物110照射激光L，以图案化图案形成物110。图3b示出当被转印的图案的开口不宽时，使用正胶方式剥离出接受激光L的图案形成物部位111的情况。此时，若构成图案形成物110的转印材料为液体状态，则利用大气或者热量使该转印材料固化成固体状态。然后，利用脉冲激光(pulse laser)使转印材料瞬间消融(ablation)，以剥离不需要的部分(即，激光所照射的部位)。此时，通过激光L的功率、传播速度、光束的大小、反复速度、脉冲宽度等调整剥离。另外，当图案形成物110通过电镀法、沉积法形成时，无需固化图案形成物110。
如图3c所示，相互对接被图案化的图案形成物110和柔性基板200并施压，向图案形成物110至柔性基板200的方向或者柔性基板至图案形成物110的方向照射激光L，利用在图案形成物110和柔性基板200相对接的部位产生的柔性基板200的粘性力，将被图案化的图案形成物110转印到柔性基板200。
更具体说明可知，向图案形成物110照射没有聚焦的激光L时，由于图案形成物110的导热率高，因此热量迅速向图案形成物110的厚度方向传递。此时，由于柔性基板200具有低的导热率，因此根据柔性基板200和图案形成物110的导热率的差异，热量将积蓄于柔性基板200与图案形成物110之间。据此，根据柔性基板200与图案形成物110之间的积热(accumulated heat)，仅柔性基板200的表面部分的温度瞬间上升至玻璃化转变温度。此时，若柔性基板200的表面温度达到玻璃化转变温度，则柔性基板200将具备高粘性。此时，由于柔性基板200所具有的高粘性，柔性基板200与图案形成物110之间的粘接力将大于基板100与图案形成物110之间的粘接力。根据柔性基板200与图案形成物110之间的较强的粘接力，图案形成物110转印到柔性基板200。之后，形成冷却，再次具备柔性基板210原有的特性。如此地被转印的图案具有与图案化于原先基板100的图案相同的形状。
图4为示出本发明的第二实施例提供的图案转印方法的顺序的流程图。图4中，为了图案化图案形成物110，在图案的开口较宽时，使用接受激光的部分留存的负胶方式。
如图4所示，根据本发明第二实施例的图案转印方法包括：在基板上形成图案形成物110的第一步骤S100；向图案形成物110的预定区域照射激光，以将图案形成物110的预定部位固化为固体状态的第二步骤S200；通过有机溶剂清除预定区域以外的图案形成物的第三步骤S300；将图案形成物的预定区域再次固化为固体状态的第四步骤S400；相互对接图案化的固体状态的图案形成物110和柔性基板200并施压，向图案形成物110至柔性基板200的方向或柔性基板200至图案形成物110的方向照射激光，利用图案形成物110和柔性基板200对接部位所产生的柔性基板200的粘性力将图案形成物110转印到柔性基板200的第五步骤S500。
第一步骤S100为在基板上形成所述图案形成物110的步骤，是在诸如玻璃的硬的基板(以下称为基板)上涂覆液体状态的油墨(ink)或金属膏状物(paste)的步骤。在此，有关于第一步骤S100中所使用的图案形成物的形成方法、形成图案形成物110的转印材料等的说明与对图2的第一步骤S100的说明重复，因此为了避免重复，进行省略。而且，虽然图中没有示出，第一步骤S100中还可以包括在基板上形成图案形成物110之前，在基板上形成脱模层的步骤。此时，脱模层具有协助基板上的图案形成物110脱离并转印到柔性基板200的作用。
第二步骤S200为向图案形成物的预定区域照射激光，以将图案形成物的预定区域固定成固体状态的步骤。在此，预定区域为接受激光而留存的区域。而且，激光使用CW(continuous wave)激光。第二步骤S200中，使用CW激光选择性地对图案形成物的预定区域进行热固化。
第三步骤S300为通过有机溶剂清除在第二步骤S200中被热固化的预定区域以外的图案形成物110的步骤。此时，有机溶剂包括液体状态的转印材料的溶剂或丙酮等物质。第三步骤S300为利用有机溶剂洗掉预定区域以外的图案形成物的步骤。即，洗涤过程。
第四步骤S400为将图案形成物的预定区域再次固化或干燥成固体状态的步骤。第四步骤S400中，在大气中将图案形成物的预定区域固化为固体状态。第四步骤S400中对于该预定区域进行再次固化或干燥的原因在于，通过第三步骤S300，有机溶剂浸透到图案形成物的预定区域中会使得图案形成物的预定区域的表面再次被液化。而且，在第四步骤S400中，当构成图案形成物110的转印材料为液体状态时，还可以通过以下方式将图案形成物110固化为固体状态。即，对此液体状态的转印材料施加50℃至200℃的热量，由此仅使液体状态的溶剂蒸发，内部留存固体状态的纳米粒子。
第五步骤S500为相互对接图案化的固体状态的图案形成物110和柔性基板200并施压，向图案形成物110至柔性基板200的方向或柔性基板200至图案形成物110的方向照射激光，利用图案形成物110和柔性基板200对接部位所产生的柔性基板200的粘性力将图案形成物110转印到柔性基板200的第五步骤S500。
图5a至图5e为表示图4的图案转印方法的各个步骤的图。另外，图5a至图5e示出使用负胶(negative)方式进行图案化的方式。在此，图5a对应于图4的第一步骤S100，图5b对应于图4的第二步骤S200，图5c对应于图4的第三步骤S300和第四步骤S400，图5d对应于图4的第五步骤S500，图5e示出通过图4的图案转印方法转印的图案。除了图5b及图5c的图案化方式之外，图5a至图5e中的其他内容与图3a至图3d重复，因此以下仅对图5b及图5c进行说明。
如图5b所示，向图案形成物的预定区域111照射激光L，以固化图案形成物的预定区域111。图5b示出当被转印的图案的开口宽时，使用负胶方式使接受激光L的图案形成物的预定区域111留存的情况。此时，若构成图案形成物110的转印材料为液体状态，则在进行固化之前利用CW激光对局部选择性地进行固化。然后，如图5c所示，利用专用的洗涤剂(即，有机溶剂)清洗除了选择性地固化的局部之外的部位，由此形成开口大的图案。此时，通过调节激光L的功率、传播速度、光束的大小等调节固化。
根据本图案转印方法，相互对接在基板100上图案化的固体状态的图案形成物110和柔性基板200并施压，且照射激光L，利用图案形成物110和柔性基板200对接部位所产生的柔性基板200的粘性力将被图案化的图案形成物110转印到柔性基板200，因此转印到柔性基板200的图案的边界明确，能够均匀地形成图案，并能够实施大面积的图案转印。
图6为示出利用图2的转印方法转印到柔性基板200上的图案的图。图6表示利用图2的转印方法转印到柔性基板200上的银油墨(Ag ink)图案。
如图6所示，可知通过图2的图案转印方法制造出的油墨图案边界明确，且均匀地形成该图案。
图7为示出根据本发明的第三实施例的图案转印装置的图。
如图7所示，根据本发明的第三实施例的图案转印装置包括柔性基板200、基板100、移动部300、激光照射部400。图7将利用正胶方式图案化图案形成物110作为一例示出。
柔性基板200由聚合物物质构成，其一面被卷绕在卷R上。柔性基板200的两侧被两个辊子A、B卷绕，可沿箭头方向移动。而且，卷R和柔性基板200的一面之间可夹入填充材料或缓冲材料，以提高柔性基板200和基板100的接触。
基板100被布置为与柔性基板200的下部相互对接并受压，其上面形成的图案形成物110在大气中固化为固体状态。而且，若构成形成于基板100上的图案形成物110的转印材料为液体状态，则采用以下方式将图案形成物110固化为固体状态。即，对此液体状态的转印材料施加50℃至200℃的热量，由此仅使液体状态的溶剂蒸发，内部留存固体状态的纳米粒子。然后，图案形成物100通过由激光光源500及扫描器510所照射的激光L1图案化。图案化于基板100上的图案形成物110通过移动部300的移动被转印到柔性基板200上。另外，基板100优选为诸如玻璃的透明基板，以使所照射的激光L1透射。此时，激光L1以CW激光方式和脉冲激光方式照射。
移动部300布置于基板100的下面，用以移动基板100。此时，移动部300移动基板100，以相互对接柔性基板200和基板100并施压。在移动部300的下部底面设置有用于使移动方便的辊子310，以使操作者容易地移动移动部300。本图案转印装置利用移动部300移动基板100并转印图案，因此能够实现大面积的图案转印。
激光照射部400向图案形成物110至柔性基板200的方向或者柔性基板200至图案形成物110的方向照射线束形态的激光L2。此时，基板100被移动部300移动，根据由激光L2的照射引起的、在图案形成物110和柔性基板200相互对接的部位产生的柔性基板的粘性力，固体状态的被图案化的图案形成物110被转印至柔性基板200。此时，由激光照射部400所照射的激光L2仅对柔性基板200和基板100相互对接部位的、图案化于基板100上的转印材料进行加热。如此，导热率高的转印材料与导热率相对低的柔性基板200之间将积蓄热量。此时，当柔性基板200的温度根据积蓄于柔性基板200与基板100相互对接的部位的热量上升至玻璃化转变温度时，柔性基板200将具有高粘性，因此依据柔性基板200所具有的高粘性，转印材料被转印到柔性基板200。另外，激光照射部400向柔性基板200与基板100相互对接的部位照射线束激光。而且，可根据转印材料的特性，调节激光L2的功率、照射面积、移动部300的移动速度。
另外，本图案转印装置可以将CW(continuous wave)激光作为激光L2的照射方式。CW激光方式为在激光器内部的谐振器(resonator)通过粒子数反转(population inversion)放出激光的方式。
如此，根据本图案转印方法，由于使转印材料在固体状态直接转印，因此可提高图案的边界，且能够实现高的细长比(slenderness radio)。而且，本图案转印装置能够将转印材料转印至柔性基板200，且这种工序能够连续进行，因此能够快速廉价地制造出如上的产品，且能够将电极配线的密度制造得相对于以往更加稠密。
通过如上的图案转印方法或图案转印装置转印的图案能够适用于形成柔性显示器的电极配线、触控面板的电极配线、柔性太阳能电池的电极配线、诸如电子书(e-book)的便携式设备的电极配线、电磁波屏蔽片的图案、薄膜晶体管的栅极、源极、漏极、柔性印刷电路板的导电性配线。
图8为示出根据本发明的第四实施例的图案转印方法的顺序的流程图，图9为示出本发明的第四实施例中转印图案的一系列过程的图，图10为示出在本发明的第四实施例中图案形成物50从基板20转印到柔性基板的原理的图。
另外，基板20优选为容易涂覆疏水性涂覆层，且耐热性和光透射性优良的诸如玻璃的基板。但是，并不局限于此，还可以是能够使高温的激光很好地透射的包含透明材料的其他材质的基板20。
参照图8至图11说明图案转印方法。
参照图8，本发明第四实施例的图案转印方法包括：在基板20上形成疏水性涂覆层10之后，利用激光诱导等离子体选择性地清除疏水性涂覆层10，以形成表面模具90的第一步骤；在表面模具90上载入图案形成物50，进行干燥后进行高温烧结，以形成图案的第二步骤；通过相互对接表面模具90和目标基板80并施压，并向表面模具90至目标基板80的方向或者目标基板80至表面模具90的方向照射激光，利用表面模具90上的图案形成物50与目标基板80相对接的部位所产生的目标基板80的粘性力，使图案形成物50转印到目标基板的第三步骤。
在第一步骤，首先在诸如玻璃的硬质基板20形成疏水性(hydrophobic)自组装膜(self-assembled monolayers，SAM，以下称为SAM)。为了针对疏水性涂覆层10进行说明而以SAM层为例进行说明，因此以下说明中的附图标记10命名为SAM层。SAM层可通过液相制造或气相沉积方式形成，通常表现为十三氟-1，1，2，2-四氢辛基三氯硅烷(tridecafluoro-1，1，2，2-tetrahydrooctyltrichlorosilane，FOTS)。其次，利用激光诱导等离子体选择性地清除涂覆于基板20上的SAM层，以形成表面模具90。
SAM层10一般是透明的，不会与一般的激光反应，因此无法利用一般的激光清除SAM层10。不顾这种困难，为了制造表面模具90，本发明的第四实施例使用利用激光诱导等离子体清除SAM层10的方式。更加具体地说明可知，是指利用激光照射到特定材料时产生的等离子选择性地清除涂覆于基板20上的SAM层10的方式。参照图9b就能够更容易知道利用激光诱导等离子体清除SAM层10的方式。在涂覆有SAM层10的基板10上保留预定的间隔布置等离子体诱发层30之后，在涂覆有SAM层10的面的相对侧的基板10的面侧照射激光，激光依次通过基板20和SAM层10并到达等离子体诱发层30。此时，当激光到达等离子体诱发层30之后，在SAM层10和等离子体诱发层30之间产生等离子，由该等离子SAM层10被选择性地清除。此时，可以根据SAM层10与等离子体诱发层30的间隔、激光焦点的大小、激光的功率、脉冲宽度、脉冲重复频率(plus repetition rate)、激光焦点的传播速度，改变清除SAM层而剥离的区域。由于SAM层由强烈的等离子羽辉(plume)瞬间被清除，因此可通过调节等离子的大小和间隔以相对激光焦点尺寸(spot size)更细小的尺寸清除SAM层。此时，使用的激光包括CW激光或脉冲激光等，且等离子体诱发层30通常由金属构成，但只要与激光反应时能产生等离子的材料，则任何材料都可以构成等离子体诱发层30，并不一定是金属。
当产生激光诱导等离子体时，等离子体诱发层30被粒子化而飞散。当等离子体诱发层30为金属时，将会有金属粒子飞散。若不处理金属粒子，则表面模具90变得粗糙，表面模具90的均匀度和品质下降，因此有必要清除金属粒子。因此，第一步骤优选包括清除飞散到基板20上的等离子体诱发层的粒子31的步骤。参照图9d，示出用于清除金属粒子的简单的方法，即在氯化氢(HCI)等酸性溶液中浸泡涂覆有SAM层10的基板20。根据所使用的酸的种类和浓度，浸泡的时间范围在数秒～数十秒之间。
作为清除等离子体诱发层的粒子31的方法，举例了利用酸性溶液的方法，除此之外，只要能够清除等离子体诱发层的粒子31的方法，则任何方法都可以使用。例如，可进行超声波洗涤或喷射洗涤液40清除等离子体诱发层的粒子31，采用其中的任何一种方式都可以。另外，所属领域的技术人员容易知道可进行超声波洗涤或喷射洗涤液40清除等离子体诱发层的粒子31。
在清除等离子体诱发层的粒子31之前，为防止形成于基板20上的SAM层10的损伤，优选地将形成有SAM层10的基板20在高温下退火(annealing)，此步骤参照图9(c)就更容易了解。
但是，根据激光照射条件，也可能不存在粒子，此时，第一步骤无需包括清除诱发层的粒子31的步骤。
总结所述第一步骤，第一步骤包括以下的4种步骤。即，在诸如玻璃的硬质基板20通过液相制造或者气相沉积方式形成可实现为十三氟-1，1，2，2-四氢辛基三氯硅烷的SAM层10的步骤；在SAM层10上涂覆由诸如金属等在与激光反应时能够产生等离子的材料构成的等离子体诱发层30的步骤；朝向基板至等离子体诱发层30的方向照射激光以产生等离子，并由等离子选择性地清除形成于预定区域的SAM层10的步骤；以及以将粘接胶带35粘贴于等离子体诱发层30并撤去的方式利用结合力的差清除并没有与SAM层10牢固地结合的等离子体诱发层30的步骤。
图10为表示第一步骤由上述四种步骤构成的图。在此，形成SAM层10的步骤对应于图10的(a)，涂覆等离子体诱发层30的步骤对应于图10的(b)，选择性地清除SAM层10的步骤对应于图10的(c)，利用结合力的差清除等离子体诱发层30的步骤对应于图10的(d)。可以认为，图10的除了(b)～(d)的其余部分与图9相同。
第二步骤为在表面模具90上载入图案形成物50，对图案形成物50进行干燥之后，进行高温烧结而形成图案的步骤。若图案形成物50以液体状态转印到图案最终要转印到的目标基板80，则图案的边界将不明确，因此优选为图案形成物50以固体状态转印到目标基板80。特别是，当目标基板80为柔性基板时，由于柔性基板的耐热性低，因此烧结图案形成物50的温度存在上限，优选为将图案形成物50高温烧结变成固体状态之后，将固体状态的图案形成物50最终转印到目标基板80。
在装有图案形成物50的储藏槽内浸泡表面模具90并取出时，图案形成物50将仅载入于清除了SAM层10的部分。将此图案形成物50进行干燥并高温烧结。对图案形成物50进行干燥的方法包括使用加热灯、热板(hot plate)或者对流烤箱(convection oven)的方法。
利用加热灯加热表面模具90时，载入于表面模具90的图案形成物50被烧结，而利用加热灯进行加热的方式是利用辐射热。这种方式虽然难以设定所需的温度之后维持该温度持续加热，但是与使用热板或对流烤箱的加热方式相比，能够实现连续的工序，且以均匀的温度加热方面更具优势。
使用热板加热基板20的方式是利用导热(conduction)的方式，使用对流烤箱加热基板20的方式是利用对流的方式。这些方式虽然难以实现连续的工序和以均匀的温度加热，但与由利用辐射热的加热灯加热的方式相比，优势在于设定所需的温度，并维持该温度持续加热。
优选地，图案形成物50为亲水性的有机金属油墨。而且，可反复多次执行在表面模具90上载入图案形成物50、对图案形成物50进行干燥、高温烧结，以调整图案形成物50的厚度。若要使图案的厚度更厚，则增加反复的次数即可。利用这种简单的方式就能够调整图案的厚度。图9(e)示出仅在清除SAM层10的部分载入图案形成物50，且图案形成物50被干燥、高温烧结的状态。
若图案形成物50针对表面模具90的粘接力过大，则将图案转印到图案最终要转印到的目标基板80时，存在转印效率会下降的问题。因此，有必要有意识地降低图案形成物50针对表面模具90的粘接力。将亲水性的有机金属油墨作为图案形成物50时，优选为将疏水性较弱的诸如六甲基二硅胺脘(HMDS)或十八烷基三氯硅烷(OTS)等物质涂覆到表面模具之后，在表面模具90上载入亲水性的有机金属油墨，并实施干燥和高温烧结。如此，通过将疏水性弱的物质涂覆于表面模具90上，图案将更加容易地转印到图案最终要转印到的目标基板80上，具有能够提高最终的图案的品质的效果。
第三步骤为如下的步骤。即，相互对接表面模具90和目标基板80并施压，通过向表面模具90至目标基板80的方向或目标基板80至表面模具90的方向照射激光，图案形成物50通过表面模具90上的图案形成物50和目标基板80相对接的部位产生的目标基板80的粘性力被转印至目标基板的步骤。
参照图9(f)可知，图案最终要转印到的目标基板80与基板20的转印有图案形成物50的面接触，表面模具90和目标基板80相互对接的状态下被施压。在此，表面模具90是指基板上转印有图案形成物50的基板。在此状态下，朝向与基板的转印有图案形成物50的面相反面至目标基板80方向照射激光。换句话说，朝向表面模具90至目标基板80的方向照射激光。但是，与图9(f)所示不同，朝向目标基板80至表面模具90的方向照射激光也可以。当照射激光时，从表面模具90上的图案形成物50和目标基板80相互对接的部位朝向目标基板80产生粘性力，根据该目标基板80的粘性力，图案形成物50被转印到目标基板80。
参照图11更加详细的说明通过目标基板80的粘性力，图案形成物50被转印到目标基板80的过程。在转印有图案形成物50的基板20与目标基板80接触且相互受压的状态下，若没有聚焦的激光朝向基板20至目标基板80方向照射时，由于图案形成物50的导热率高，因此热量迅速传递至图案形成物50的深度方向。但是，由于目标基板80具有低的导热率，因此根据目标基板80和图案形成物50的导热率差，热量将积蓄于基板80和图案形成物50之间。由此，根据目标基板80和图案形成物50之间的积热(accumulatedheat)，仅目标基板80的表面部分的温度瞬间上升至玻璃化转变温度(材料从柔性急剧变换为脆性的温度)。此时，当目标基板80的表面温度达到玻璃化转变温度时，目标基板80将具备高粘性。此时，由于目标基板所具有的高粘性，目标基板80与图案形成物50之间的粘接力大于基板20与图案形成物50之间的粘接力。根据这种目标基板80与图案形成物50之间的高粘性，图案形成物50将被转印至目标基板80。之后，形成冷却，目标基板80再次具备原有的特性。如此地被转印的图案具有与图案化于原先基板20的形状相同的形状。转印完成后目标基板80上形成有图案的状态的最终结果表示在图9(g)。转印完成之后表面模具90不是被废弃而是能够再次使用。
图12为利用本发明第四实施例的图案转印方法使得图案转印能够连续实现的图案转印装置的图。
如图12所示，利用本发明的第四实施例使得图案转印能够连续实现的图案转印装置包括柔性基板、基板20、移动部300、激光照射部400。
柔性基板由聚合物物质构成，其一面被卷绕在卷R上。柔性基板的两侧被两个辊子A、B卷绕，可沿箭头方向移动。而且，卷R和柔性基板的一面之间可夹入填充材料或缓冲材料，以提高柔性基板和基板20的接触。
基板20被布置为与柔性基板的下部相互对接并受压，其上面在选择性地清除SAM层10之后涂覆有图案形成物50，且该图案形成物50处于被干燥、高温烧结的状态。然后，朝向基板20至柔性基板方向或者柔性基板至基板20方向照射激光，由此图案形成物50被转印至柔性基板。涂覆于基板20上的图案形成物50通过移动部300的移动连续被转印到柔性基板上。另外，基板20优选为诸如玻璃的透明基板，以使所照射的激光透射。
移动部300布置于基板20的下面，用以移动基板20。此时，移动部300移动基板20，以相互对接柔性基板和基板20并施压。在移动部300的下部底面设置有用于使移动方便的辊子310，以使操作者容易地移动移动部300。本图案转印装置利用移动部300移动基板20并转印图案，因此能够实现大面积的图案转印。
激光照射部400向图案形成物50至柔性基板的方向或者柔性基板至图案形成物50的方向照射线束形态的激光。此时，基板20被移动部300移动，根据由激光的照射引起的、在图案形成物50和柔性基板相互对接的部位产生的柔性基板的粘性力，图案形成物50被转印至柔性基板。此时，由激光照射部400所照射的激光仅对柔性基板和基板20相互对接部位的基板20上的图案形成物50进行加热。如此，导热率高的图案形成物50与导热率相对低的柔性基板之间将积蓄热量。此时，当柔性基板的温度根据积蓄于柔性基板与基板20相互对接的部位的热量上升至玻璃化转变温度时，柔性基板将具有高粘性，因此依据柔性基板所具有的高粘性，图案形成物50被转印到柔性基板。而且，可根据图案形成物50的特性，调节激光的功率、照射面积、移动部300的移动速度。
另外，本图案转印装置可以将CW(continuous wave)激光方式和脉冲激光(pulsed laser)方式作为激光的照射方式。在此，CW激光方式为在激光器内部的谐振器(resonator)通过粒子数反转(population inversion)放出激光的方式。
如此，根据本图案转印装置，由于使图案形成物50在固体状态直接转印，因此可提高图案的分界，且能够实现高的细长比(slenderness radio)。而且，本图案转印装置能够将图案形成物50转印至柔性基板，且这种工序能够连续进行，因此能够快速廉价地制造出如上的产品，且能够将电极配线的密度制造的相对于以往更加稠密。
以上说明的图案转印方法在目标基板80为柔性基板时其适用度高。通常，柔性基板采用聚合物材料制成，例如采用PI(聚酰亚胺)薄膜制作，这种聚合物材料大部分在350℃左右的温度下被熔化，因此给柔性基板施加大量热量的图案转印方法不能适用于柔性基板。因此，根据本发明第四实施例的图案转印方法尤其对柔性基板的适用度高。而且，在图案形成物50被干燥、烧结的状态下执行转印过程，因此，通过本发明第四实施例的图案转印方法制造出的图案的大小或品质等不会受制于湿度、温度等周围环境的变化。
对于适用本发明第四实施例提供的图案转印方法的例进行说明。
电磁波屏蔽片用于防止电磁波释放到电子设备的外部，原因在于从各种电子设备释放出的电磁波对人体有害。但是，在电磁波屏蔽片产品中，用于显示器，特别是PDP用电磁波屏蔽片粘贴于画面，因此既要有光透射性，电磁波屏蔽性能也要突出。为此，需要在薄膜上以格子状设置金属图案，一般间隔为300μm，图案宽度为10μm左右。厚度可以根据要求的电磁波屏蔽性能变化，一般范围为数μm～数十μm。这种罩至今为止利用溅射法(sputtering)，但由于该方法属于真空工序，不仅工序难度大，且大面积地、廉价地制造电磁波屏蔽片存在上限。而且，虽然努力利用膏状物的卷对卷(roll to roll)工序制造电磁波屏蔽片，但是在实现30μm以下的图案宽度上存在很多问题。而本发明第四实施例可使用于以连续的工序高产量地制造这种电磁波屏蔽片。
而且，还可以适用为显示器/太阳能电池面板的电极配线。尤其是在诸如PET的聚合物材料表面形成电极，由此适用于形成柔性显示器或柔性太阳能电池的电极配线。而且，还可以适用于形成薄膜晶体管(TFT)的栅极、源极、漏极，且还可以适用于形成电子书的电极。
而且，还可以适用于诸如柔性印刷电路板(FPCB)、射频识别(RFID、radio-frequency identification)天线、移动电话天线的导电性配线。由于在柔性基板上也能够形成导电性配线，且能够通过连续的工序制造，因此能够廉价又快速地制造出上述产品。且由于能够实现相比现有的配线密度更加稠密的制造，因此能够提高产品的性能。除此之外，还能够廉价地制造其他导电性/非导电性物质的微米级图案。
而且，能够适用本发明第四实施例的图案转印方法的如上的产品还可以采用利用本发明的第四实施例的图案转印方法可使得图案转印连续实现的图案转印装置制造。
如此，对于上述本发明的技术构成，本领域技术人员应知，在不改变本发明的技术思想或必要特征的前提下，也可以以其他具体方式实施。
因此，以上记述的各实施例在各个方面都是示例性的，而不是限制性的，本发明的范围体现在权利要求书而不是上述的具体实施方式，权利要求书的意义和范围以及从其等价概念导出的所有的变更或变形的方式应解释为属于本发明的范围之内。

Claims (14)

1.一种图案转印方法，包括：
在基板上形成图案形成物的第一步骤；
将所述图案形成物固化为固体状态的第二步骤；
向固化的固体状态的所述图案形成物照射激光，以使所述图案形成物图案化的第三步骤；
相互对接图案化的固体状态的所述图案形成物和柔性基板并施压，向所述图案形成物至所述柔性基板的方向或所述柔性基板至所述图案形成物的方向照射激光，利用所述图案形成物和柔性基板对接部位所产生的所述柔性基板的粘性力将所述图案形成物转印到所述柔性基板的第四步骤。
2.一种图案转印方法，包括：
在基板上形成图案形成物的第一步骤；
向所述图案形成物的预定区域照射激光，以将所述图案形成物的预定区域固化为固体状态的第二步骤；
利用有机溶剂清除预定区域之外的所述图案形成物的第三步骤；
将所述图案形成物的预定区域再次固化为固体状态的第四步骤；以及
相互对接再次固化的固体状态的所述图案形成物和柔性基板并施压，向所述图案形成物至所述柔性基板的方向或所述柔性基板至所述图案形成物的方向照射激光，利用所述图案形成物和所述柔性基板对接部位所产生的所述柔性基板的粘性力将所述图案形成物转印到所述柔性基板的第五步骤。
3.一种图案转印装置，包括：
柔性基板，包括聚合物，一面卷绕于卷上；
基板，布置为与所述柔性基板的下部相互对接并被施压，其上面形成的图案形成物被固化为固体状态之后，由激光被图案化；
移动部，设置于所述基板的下面，以移动所述基板；以及
激光照射部，向所述移动部至所述柔性基板的方向照射激光，其中，
运行所述移动部以使所述基板移动时，所述柔性基板和所述基板相互对接并受压，
根据由来自所述激光照射部的激光在所述图案形成物与所述柔性基板相对接的部位产生的所述柔性基板的粘性力，所述图案形成物被转印到所述柔性基板。
4.根据权利要求3所述的图案转印装置，其特征在于，所述激光照射部以线光束照射激光。
5.一种图案转印方法，包括：
在基板上形成疏水性涂覆层之后，利用激光诱导等离子体选择性地清除疏水性涂覆层，以形成表面模具的第一步骤；
在所述表面模具上载入图案形成物，进行干燥后进行高温烧结，以形成图案的第二步骤；
通过相互对接所述表面模具和目标基板并施压，并向所述表面模具至所述目标基板的方向或者所述目标基板至所述表面模具的方向照射激光，利用所述表面模具上的所述图案形成物与所述目标基板相对接的部位所产生的所述目标基板的粘性力，使所述图案形成物转印到所述目标基板的第三步骤。
6.根据权利要求5所述的图案转印方法，其特征在于，所述第一步骤包括：
在基板上形成疏水性涂覆层的步骤；
在所述疏水性涂覆层上涂覆等离子体诱发层的步骤；
向所述基板至所述等离子体诱发层方向照射激光，以选择性地清除疏水性涂覆层的步骤；以及
清除所述等离子体诱发层的步骤。
7.根据权利要求5所述的图案转印方法，其特征在于，在所述第二步骤中使用的所述图案形成物为亲水性有机金属油墨。
8.一种图案转印装置，包括：
柔性基板，包括聚合物，一面卷绕于卷上；
基板，上面形成的疏水性涂覆层被选择性地清除之后涂覆有图案形成物，且布置为与所述柔性基板的下部相互对接并被施压；
移动部，设置于所述基板的下面，以移动所述基板；以及
激光照射部，向所述基板至所述柔性基板的方向或所述柔性基板至所述基板方向照射激光，
运行所述移动部以使所述基板移动时，所述柔性基板和所述基板相互对接并受压，其中，
根据由来自所述激光照射部的激光在所述图案形成物与所述柔性基板相对接的部位产生的所述柔性基板的粘性力，所述图案形成物被转印到所述柔性基板。
9.一种包括根据权利要求1、2、5中的任一项所述的图案转印方法转印的图案所形成的电极的柔性显示面板。
10.一种包括根据权利要求1、2、5中的任一项所述的图案转印方法转印的图案所形成的电极的柔性太阳能电池。
11.一种包括根据权利要求1、2、5中的任一项所述的图案转印方法转印的图案所形成的电极的电子书。
12.一种包括根据权利要求1、2、5中的任一项所述的图案转印方法转印的图案的电子屏蔽片。
13.一种包括根据权利要求1、2、5中的任一项所述的图案转印方法转印的图案所形成的栅极、源极、漏极的薄膜晶体管。
14.一种包括根据权利要求1、2、5中的任一项所述的图案转印方法转印的图案所形成的导电性配线的柔性印刷电路板。
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