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CN102197005B - 玻璃基板层叠装置及层叠玻璃基板的制造方法 - Google Patents

玻璃基板层叠装置及层叠玻璃基板的制造方法 Download PDF

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CN102197005B CN200980142448.4A CN200980142448A CN102197005B CN 102197005 B CN102197005 B CN 102197005B CN 200980142448 A CN200980142448 A CN 200980142448A CN 102197005 B CN102197005 B CN 102197005B
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Abstract

本发明涉及一种玻璃基板层叠装置，该玻璃基板层叠装置用于层叠2张玻璃基板，具备：构成为吸附支承上方的玻璃基板的上方基板支承单元；构成为载置支承下方的玻璃基板的下方基板支承单元；构成为使包含所述上方基板支承单元和所述下方基板支承单元之间的空间为气密状态的密封单元；及构成为对由所述上方基板支承单元、所述下方基板支承单元及所述密封单元包围的所述空间内进行减压的减压单元，所述上方基板支承单元的下表面具有下述(A)、(B)及(C)中的任一种形状的基板吸附单元：(A)矩形框形状的基板吸附单元；(B)由矩形框和将构成该矩形的4条边中的相对的1组或2组边分别连接的直线或曲线构成的形状的基板吸附单元；及(C)由彼此交叉的多条直线或曲线构成的形状的基板吸附单元。

Description

玻璃基板层叠装置及层叠玻璃基板的制造方法
技术领域
本发明涉及玻璃基板层叠装置及层叠玻璃基板的制造方法。
背景技术
在液晶显示装置(LCD)、有机EL显示装置(OLED)、特别是移动装置、手机等便携式显示装置的领域中，显示装置的轻量化、薄型化成为重要的课题。
为了应对该课题，希望使显示装置所使用的玻璃基板的板厚进一步变薄。作为使板厚变薄的方法，一般进行如下方法：在玻璃基板的表面形成显示装置用部件之前或之后，使用氢氟酸等对玻璃基板进行蚀刻处理，根据需要进一步进行物理研磨而使之变薄。
然而，在玻璃基板的表面形成显示装置用部件之前进行蚀刻处理等而使玻璃基板变薄时，玻璃基板的强度降低，挠曲量也变大。因此产生不能通过现有的生产线进行处理的问题。
另外，在玻璃基板的表面形成显示装置用部件后进行蚀刻处理等而使玻璃基板变薄时，在玻璃基板的表面形成显示装置用部件的过程中，存在在玻璃基板的表面形成的微细的损伤表面化的问题，即存在产生侵蚀孔的问题。
因此，以解决这样的问题为目的，提出了如下的方法等：使板厚薄的玻璃基板(以下也称为“薄板玻璃基板”)与其他的支承玻璃基板贴合而作为层叠体，在该状态下实施用于制造显示装置的规定处理，然后，将薄板玻璃基板和支承玻璃基板分离。
例如在专利文献1中，记载了一种将薄板玻璃基板和支承玻璃基板层叠而构成的薄板玻璃层叠体，其特征在于，将所述薄板玻璃基板和所述支承玻璃基板经由具有易剥离性及非粘接性的有机硅树脂层而层叠。并且，这样的玻璃层叠体能够使用滚轧、冲压而压接，或采用真空层压法、真空冲压法而进行制造。
专利文献1：国际公开第2007/018028号小册子
发明内容
在形成专利文献1中记载的玻璃层叠体的情况下，通常应用真空层叠冲压法，即如下方法：在将支承玻璃基板和薄板玻璃基板经由树脂层而暂时层叠的状态下设置冲压机，抽成真空后进行冲压。
但是，存在即使进行冲压也会在薄板玻璃基板和树脂层之间残留气泡而不能完全去除的问题。特别是薄板玻璃基板的尺寸较大时变得显著。
作为上述情况的对策，可考虑如下方法：例如将薄板玻璃基板吸附于上侧的加压单元而保持，在支承玻璃基板和薄板玻璃基板之间保持间隙，在该状态下使两基板存在的空间为真空，然后使两基板接触而进行冲压。
但是，该情况下，利用真空吸附法不能使薄板玻璃基板吸附于加压单元而保持。因此虽然利用静电吸附法进行保持，但基于以往提出的静电吸附法的基板保持方法，是使用面形状的静电吸附垫保持玻璃基板的方法，这样的静电吸附元件向玻璃基板面的接触遍及较广的范围。因此，存在对该玻璃基板面产生损伤等的可能性。在后工序中在该玻璃基板面上形成显示器的器件，但若存在损伤等则形成困难。
本发明鉴于上述的问题而做出。即，其目的在于，提供一种装置，该装置能够抑制因向玻璃基板间混入的气泡、尘埃等异物导致的玻璃缺陷的产生，并且不产生侵蚀孔而通过现有的生产线进行处理，能够简单且经济地制造在薄板玻璃基板的显示器件形成面上几乎不存在阻碍该显示器件的形成的损伤、污垢等的层叠玻璃基板。另外，其目的在于提供一种使用了该装置的层叠玻璃基板的制造方法。
本发明人为了解决上述课题反复进行了认真研究，完成了本发明。
本发明涉及以下的(1)～(11)。
(1)一种玻璃基板层叠装置，用于层叠两张玻璃基板，具备：构成为吸附支承上方的玻璃基板的上方基板支承单元；构成为载置支承下方的玻璃基板的下方基板支承单元；构成为使包含所述上方基板支承单元和所述下方基板支承单元之间的空间为气密状态的密封单元；及构成为对由所述上方基板支承单元、所述下方基板支承单元及所述密封单元包围的所述空间内进行减压的减压单元，所述上方基板支承单元的下表面具有下述(A)、(B)及(C)中的任一种形状的基板吸附单元：
(A)矩形框形状的基板吸附单元；
(B)由矩形框和将构成该矩形的四条边中的相对的1组或2组边分别连接的直线或曲线构成的形状的基板吸附单元；
(C)由彼此交叉的多条直线或曲线构成的形状的基板吸附单元。
(2)如上述(1)所述的玻璃基板层叠装置，还具有构成为朝向下方对上方的玻璃基板的上表面喷吹压缩空气的压缩空气供给单元。
(3)如上述(1)或(2)所述的玻璃基板层叠装置，所述基板吸附单元的宽度为20mm以下。
(4)如上述(1)～(3)中任一项所述的玻璃基板层叠装置，所述基板吸附单元具有静电吸附元件或粘接部件。
(5)如上述(4)所述的玻璃基板层叠装置，所述静电吸附元件的电极保持用基材为聚酰亚胺类薄膜。
(6)一种层叠玻璃基板的制造方法，使用上述(1)～(5)中任一项所述的玻璃基板层叠装置，将薄板玻璃基板及支承玻璃基板这2张玻璃基板层叠，使利用所述上方基板支承单元具有的所述基板吸附单元吸附的所述薄板玻璃基板和载置于所述下方基板支承单元上且在上表面具有树脂层的所述支承玻璃基板相对，利用所述减压单元对由所述上方基板支承单元、所述下方基板支承单元及所述密封单元包围的空间内进行减压，然后，使所述薄板玻璃基板和所述支承玻璃基板接触，通过加压使2张玻璃基板隔着所述树脂层而层叠。
(7)如上述(6)所述的层叠玻璃基板的制造方法，使所述薄板玻璃基板和所述支承玻璃基板接触后，利用所述压缩空气供给单元朝向下方对所述薄板玻璃基板的上表面喷吹压缩空气。
(8)如上述(6)或(7)所述的层叠玻璃基板的制造方法，使所述薄板玻璃基板和所述支承玻璃基板接触后，在由所述上方基板支承单元、所述下方基板支承单元及所述密封单元包围的所述空间内或其他的加压装置内进行0.1～1MPa的范围的加压处理。
(9)如上述(6)～(8)中任一项所述的层叠玻璃基板的制造方法，设所述薄板玻璃基板的上表面面积为S0、所述基板吸附单元和所述薄板玻璃基板之间的接触面积为S1时，满足关系式0.02≤S1/S0≤0.1。
(10)如上述(6)～(9)中任一项所述的层叠玻璃基板的制造方法，所述基板吸附单元具有静电吸附元件，所述静电吸附元件相对于所述薄板玻璃基板的吸附力在施加电压1kV下为40mN/cm2以上。
(11)如上述(6)～(10)中任一项所述的层叠玻璃基板的制造方法，所述树脂层由选自丙烯酸类树脂、聚烯烃类树脂、聚氨酯类树脂及有机硅类树脂中的至少一种构成。
发明效果
根据本发明，能够提供一种装置，该装置能够抑制因向玻璃基板间混入的气泡、尘埃等异物导致的玻璃缺陷的产生，并且不产生侵蚀孔而通过现有的生产线进行处理，能够简单且经济地制造在薄板玻璃基板的显示器件形成面上几乎不存在阻碍该显示器件的形成的损伤、污垢等的层叠玻璃基板。另外，能够提供使用了该装置的层叠玻璃基板的制造方法。
附图说明
图1(a)～(c)是本发明的层叠装置的优选实施例的剖面图。
图2是本发明的层叠装置的优选实施例的一部分的俯视图。
图3(a)～(c)是本发明的层叠装置的优选实施例的静电吸附元件的俯视图。
图4是比较例的静电吸附元件的俯视图。
具体实施方式
以下对本发明进行详细说明。
首先对本发明的层叠装置进行说明，然后对本发明的制造方法进行说明。
以下对本发明的层叠装置进行说明。
本发明的层叠装置是用于层叠两张玻璃基板的玻璃基板层叠装置，具备：构成为吸附支承上方的玻璃基板的上方基板支承单元；构成为载置支承下方的玻璃基板的下方基板支承单元；构成为使包含上述上方基板支承单元和上述下方基板支承单元之间的空间为气密状态的密封单元；及构成为对由上述上方基板支承单元、上述下方基板支承单元及上述密封单元包围的上述空间内进行减压的减压单元，上述上方基板支承单元的下表面具有特定形状的基板吸附单元。
列举本发明的层叠装置的优选实施例，使用附图进行说明。
图1、图2是表示作为本发明的层叠装置的优选实施例的层叠装置10的图。图1(a)～(c)是剖面图，图2是从下侧仅观察作为上方基板支承单元的上平台12(未吸附薄板玻璃基板24的状态)看到的图。在图2中将与支柱13及密封件16的连接部分省略。
在图1中，层叠装置10具备：作为上方基板支承单元的上平台12；作为下方基板支承单元的下平台14；及作为密封单元的密封件16，还具备未图示的减压单元。
另外，在图1中，上平台12吸附薄板玻璃基板24，下平台14将支承玻璃基板20固定。支承玻璃基板20的上表面具有树脂层22，下表面与下平台14接触。
为了便于说明，将上平台12吸附的玻璃基板作为“薄板玻璃基板24”，但上平台12对于不是“板厚薄的玻璃基板”的玻璃基板也能够吸附。
对层叠装置10的下平台14进行说明。
下平台14是能够将玻璃基板在大致水平的状态下进行保持的工作台，下平台14自身设置为大致水平。另外，下平台14能够在其上表面固定玻璃基板。使下平台14和上平台12靠近而将两张玻璃基板压接时，对载置于工作台上的玻璃基板施加力，但此时下平台14能够以玻璃基板不动的程度固定保持玻璃基板。
图1(a)～(c)表示在下平台14的上表面固定保持具有树脂层22的支承玻璃基板20的状态。
在此，下平台14的与支承玻璃基板20接触的面、即载置支承玻璃基板20的下平台14的上表面优选不是水平面而是例如梨皮状的面。
另外，在层叠装置10中，用于使由上平台12、下平台14及密封件16包围的空间30减压的减压孔145形成于下平台14。
对层叠装置10的上平台12进行说明。
上平台12由支柱13支承，在下平台14的上侧以与下平台14相对的方式大致水平地设置。另外，上平台12能够经由支柱13以保持为与下平台14相对的状态沿上下方向移动。图1(b)是表示从图1(a)的状态使上平台12向下方向移动而密封件16的下端与下平台14相接的状态。另外，图1(c)表示从图1(b)的状态进一步使上平台12向下方向移动而使薄板玻璃基板24和支承玻璃基板20经由树脂层22紧贴的状态。
在图1所示的实施方式中，仅使上平台12沿上下方向移动而使薄板玻璃基板24和支承玻璃基板20经由树脂层22紧贴，但本发明不限于此，也可以仅使下平台14沿上下方向移动而紧贴，也可以使上平台12及下平台14两者沿上下方向移动而紧贴。
上平台12在其下表面的一部分具有作为基板吸附单元的静电吸附元件121，能够利用未图示的装置对静电吸附元件121施加电压。施加电压后能够利用静电力将玻璃基板(薄板玻璃基板24)吸附于静电吸附元件121的下表面。在此，能够将薄板玻璃基板24保持为与在下平台14的上表面载置的支承玻璃基板20大致平行的状态进行吸附。
另外，吸附于静电吸附元件121的薄板玻璃基板24存在挠曲的情况，因此如图1所示，优选在薄板玻璃基板24的上表面和上平台12的下表面之间形成空间123。存在空间123的情况下，需要在上平台12上形成连接空间123和后述的空间30的通气孔125。这是因为，可与空间30同样地在空间123内也形成减压状态。
静电吸附元件121的电极保持用基材只要能够吸附玻璃基板就没有限制，例如能够使用以往公知的基材。例如能够使用有机薄膜类、陶瓷类。另外，在使薄板玻璃基板24和支承玻璃基板20紧贴时对静电吸附元件121施加压缩应力，因此优选有机薄膜类，优选聚酰亚胺类薄膜。
另外，静电吸附元件121的形状被限定，例如为如图2所示的矩形框状的形状。这样的矩形框状的静电吸附元件121在薄板玻璃基板24的显示器件形成面(即，不与树脂层紧贴的主面)上几乎不形成阻碍该显示器件的形成的损伤、污垢等。这是因为在玻璃基板的表面形成显示器件时，通常在玻璃基板的最外壳部分不形成显示器件。为这样的矩形框状时，即使薄板玻璃基板24为较大的基板(例如1000mm×1000mm、厚度0.4mm的玻璃板)，也能够利用静电吸附元件进行吸附。
本发明的层叠装置的上方基板支承单元及下方基板支承单元优选为能够层叠这样的大小的2张玻璃基板的大小。
另外，静电吸附元件121的宽度(图2中用“x”表示的长度)优选为20mm以下，较优选为1mm～15mm，进一步优选为3mm～8mm，更优选为5mm左右。为这样的宽度时，静电吸附元件121能够比较容易地吸附薄板玻璃基板24。另外，为这样的宽度时，由于能够从薄板玻璃基板切出的显示器等的数量较多，故而优选。
另外，静电吸附元件121的形状除了图2所示的矩形框状的形状外也可以为例如图3(a)～(c)所示的形状。图3(a)是由矩形框和将构成该矩形的4条边中的相对的1组边的中央连接的直线构成的形状。图3(b)是由矩形框和将构成该矩形的4条边中的相对的2组边的各中央连接的直线构成的形状。图3(c)是由彼此正交的两条直线构成的形状。
在此，在本发明的层叠装置中，对于静电吸附元件121的形状，也可以是图3(a)中的“将1组边的中央连接的直线”不是“中央”的形状，另外也可以为不是“直线”而是“曲线”的形状。另外，在图3(b)、(c)中也同样。另外，图3(c)中的“2条直线”也可以为3条以上的直线，也可以不是“2条直线正交”而是“两条直线交叉”的形状。切出薄板玻璃基板而形成的显示器等的形状为矩形的情况下，与“曲线”相比优选“直线”。这是因为能够切出的显示器等的数量较多。显示器等的形状不是矩形的情况下，存在优选“曲线”的情况。
在本发明的层叠装置中基板吸附单元除了上述静电吸附元件外也可以是粘接部件。作为粘接部件，具体可列举有机硅树脂制粘接部件、丙烯酸树脂制粘接部件、聚氨酯树脂制粘接部件、天然橡胶类粘接部件等。
对层叠装置10的密封件16进行说明。
密封件16存在于上平台12及下平台14的侧面侧。从而，能够通过上平台12、下平台14、密封件16形成气密空间30。空间30为包含上平台12和下平台14之间部分的空间的空间。
在层叠装置10中，密封件16的上端固定在上平台12上，通过使上平台12靠近下平台14，能够使密封件16的下端与下平台14相接而形成气密空间30。在图1(a)中，没有形成空间30，但使上平台12从图1(a)的状态向下方向移动而密封件16的下端与下平台14相接时，如图1(b)所示形成空间30。另外，如图1(b)所示，能够保持吸附于上平台12的静电吸附元件121的薄板玻璃基板24和树脂层22分离的状态而直接形成气密空间30。
如图1(b)所示，形成空间30后，能够经由减压孔145利用减压单元使空间30的内部减压。使空间30的内部形成减压状态后，经由通气孔125使空间123的内部也形成相同程度的减压状态。
作为本发明的层叠装置的优选实施例，可列举上述的层叠装置10。
本发明的层叠装置优选还具备构成为朝向下方对上方的玻璃基板的上表面喷吹压缩空气的压缩空气供给单元。
例如在具有上述图2所示的形状的基板吸附单元的层叠装置10中，上平台12具有压缩空气供给单元时，例如在图1(c)的状态下，通过从上方朝向下方对薄板玻璃基板24的上表面的重心附近喷吹压缩空气，能够使薄板玻璃基板24和树脂层22更加紧贴，因此优选。
上方基板支承单元具有多个压缩空气供给单元(未图示)，优选能够向上方的玻璃基板的上表面的多个部位喷吹压缩空气。
构成本发明的层叠装置的各部分的材质、大小等没有特别限定，例如可以与以往公知的真空冲压装置同样。
接着，对本发明的制造方法进行说明。
本发明的制造方法是使用上述本发明的层叠装置来将薄板玻璃基板及支承玻璃基板这两张玻璃基板层叠的层叠玻璃基板的制造方法，其中，使利用上述上方基板支承单元具有的上述基板吸附单元吸附的上述薄板玻璃基板和载置于上述下方基板支承单元上且在上表面具有树脂层的上述支承玻璃基板相对，利用上述减压单元对由上述上方基板支承单元、上述下方基板支承单元及上述密封单元包围的空间内进行减压，然后，使上述薄板玻璃基板和上述支承玻璃基板接触，通过加压使2张玻璃基板隔着上述树脂层而层叠。
在本发明的制造方法中，优选首先将薄板玻璃基板吸附于上方基板支承单元具有的基板吸附单元。吸附的方法没有限定，但若例如为使用作为优选实施例的层叠装置10的情况，则可列举如下方法：首先将薄板玻璃基板24载置于下平台14的上表面，接着使上平台12下降，使静电吸附元件121和薄板玻璃基板24紧贴，施加静电吸附元件121而吸附薄板玻璃基板24后，使上平台12上升。在此，载置薄板玻璃基板24的下平台14的表面的水平度及平滑度较高时，薄板玻璃基板24和下平台14的表面紧贴，难以利用静电吸附元件121保持吸附薄板玻璃基板24的状态直接使上平台12上升，因此不优选。因此，优选下平台14的上表面为梨皮状，或在上表面的一部分具有槽。
另外，优选静电吸附元件121相对于薄板玻璃基板24的吸附力在施加电压1kV下为40mN/cm2以上。这是因为吸附变得更牢固。
另外，静电吸附元件的吸附能力是按照导体＞半导体＞＞绝缘体的顺序能力降低，特别是无碱玻璃比钠钙玻璃的吸附能力更低，如上所述吸附能力在施加电压1kV下为40mN/cm2以上、优选60mN/cm2以上、进而优选80mN/cm2以上时，即使薄板玻璃基板24为无碱玻璃也能够利用上方基板支承单元容易地进行保持，因此优选。
薄板玻璃基板自身的特性、制造方法等如后所述。
在本发明的制造方法中，优选如上所述将薄板玻璃基板吸附于基板吸附单元后，在下方基板支承单元上载置支承玻璃基板。在此，预先在支承玻璃基板的上表面形成树脂层，载置时以树脂层成为上侧的方式将支承玻璃基板载置在下方基板支承单元上。并且，如图1(a)所示，使薄板玻璃基板和支承玻璃基板相对。
树脂层及支承玻璃基板自身的特性、制造方法等如后所述。
在本发明的制造方法中，如上所述使薄板玻璃基板和支承玻璃基板相对后，利用上方基板支承单元、下方基板支承单元及密封单元形成气密空间。例如如图1(b)所示，通过使上平台12下降而使密封件16的下端紧贴于下平台14的上表面，而能够形成气密空间30。在此气密空间是指以空气不从外部进入内部的程度进行密闭的空间。
接着，利用减压单元，对由上方基板支承单元、下方基板支承单元及密封单元包围的空间内进行减压。例如在图1(b)所示的状态下，经由减压孔145利用公知的减压装置对空间30的内部进行减压。在此，空间123也经由通气孔125减压。由此，薄板玻璃基板24能够保持大致水平状态。由于若不存在通气孔125则产生空间123和空间30之间的气压差，因此薄板玻璃基板24存在变形的可能性。
接着，使薄板玻璃基板和支承玻璃基板接触并进行加压。例如能够如图1(c)所示通过使上平台12下降而进行。
在此，设薄板玻璃基板的上表面面积为S0、设基板吸附单元和薄板玻璃基板的接触面积为S1时，优选满足关系式0.02≤S1/S0≤0.1，更优选满足0.025≤S1/S0≤0.08，进一步优选满足0.03≤S1/S0≤0.06。这是因为，若为这样的范围，则能够比较容易地利用基板吸附单元吸附薄板玻璃基板，另外，能够从薄板玻璃基板切出的显示器等的数量较多。
在此，优选在使薄板玻璃基板和支承玻璃基板接触后，利用压缩空气供给单元，朝向下方对薄板玻璃基板的上表面喷吹压缩空气。即，优选对薄板玻璃基板和支承玻璃基板进行加压的同时，或在加压后，利用压缩空气供给单元朝向下方对薄板玻璃基板的上表面喷吹压缩空气。这是因为基于基板吸附单元的薄板玻璃基板的吸附变得更牢固。
另外，本发明的制造方法，优选使上述气密空间30为加压状态，促进薄板玻璃基板24和树脂层22的紧贴。另外，也可以不使上述气密空间30为加压状态，而是暂时从层叠装置10取出使薄板玻璃基板24和树脂层22紧贴而成的层叠玻璃基板，向另外的加压装置内放入该层叠玻璃基板，对该加压装置内进行加压，从而促进薄板玻璃基板24和树脂层22的紧贴。施加的压力优选为0.1～1MPa，更优选为0.1～0.6MPa。施加的压力小于0.1MPa时不能充分获得促进紧贴的效果，故而不优选。另外，施加的压力超过1MPa时需要新设置大型的加压装置，因而不经济。
另外，优选在树脂层的表面紧贴薄板玻璃基板时，充分地清洗薄板玻璃基板的表面，在清洁度高的环境下进行层叠。即使在树脂层和薄板玻璃基板之间混入异物，由于树脂层变形，因此也不会对薄板玻璃基板的表面的平坦性造成影响，但清洁度越高则所述平坦性变得越良好，故而优选。
利用这样的本发明的制造方法，能够获得将2张玻璃基板经由树脂层层叠而成的层叠玻璃。在以下将这样的层叠玻璃也称为“本发明的层叠玻璃基板”。
对本发明的层叠玻璃基板进行说明。
本发明的层叠玻璃基板中，薄板玻璃基板和树脂层通过非常接近的相对的固体分子间的范德瓦耳斯力引起的力、即紧贴力而与树脂层紧贴。该情况下，能够保持为使支承玻璃基板和薄板玻璃基板层叠的状态。
另外，本发明的层叠玻璃基板是利用本发明的制造方法进行制造的，因此使薄板玻璃基板和固定有树脂层的支承玻璃基板不含有气泡地层叠。
另外，本发明的层叠玻璃基板在薄板玻璃基板的显示器件形成面上几乎不存在阻碍该显示器件的形成的损伤、污垢等。
对本发明的层叠玻璃基板的薄板玻璃基板进行说明。
薄板玻璃基板的厚度、形状、大小、物理性质(热收缩率、表面形状、耐化学品性等)、组成等没有特别限定，例如可以与以往的LCD、OLED等显示装置用的玻璃基板相同。薄板玻璃基板优选为TFT阵列用玻璃基板。
薄板玻璃基板的厚度优选小于0.7mm，更优选为0.5mm以下，进而优选为0.4mm以下。另外，优选为0.05mm以上，更优选为0.07mm以上，进一步优选为0.1mm以上。
薄板玻璃的形状没有限定，但优选为矩形。
薄板玻璃的大小没有限定，但例如在矩形的情况下可以为100～2000mm×100～2000mm，更优选为500～1000mm×500～1000mm。
薄板玻璃的厚度及大小中，厚度以使用激光聚焦位移计测定面内9个点得到的值的平均值表示，大小是指使用钢尺分别计测短边/长边得到的值。后述的支承玻璃基板的厚度及大小也同样。
即使是这样的厚度及大小，本发明的层叠玻璃基板也能够容易地剥离薄板玻璃基板和支承玻璃基板。
薄板玻璃基板的热收缩率、表面形状、耐化学品性等特性也没有特别限定，根据制造的显示装置的种类而不同。
另外，优选薄板玻璃基板的热收缩率较小。具体而言，优选使用作为热收缩率的指标的线膨胀系数为200×10-7/℃以下的薄板玻璃基板。更优选所述线膨胀系数为100×10-7/℃以下，进而优选为45×10-7/℃以下。其理由是因为热收缩率较大时不能制成高精细的显示装置。
在本发明中线膨胀系数是指由JIS R3102(1995年)规定的内容。
薄板玻璃基板的组成例如与碱性玻璃、无碱玻璃同样即可。其中，由于热收缩率较小，优选为无碱玻璃。
对本发明的层叠玻璃基板的支承玻璃基板进行说明。
支承玻璃基板经由树脂层支承薄板玻璃基板，加强薄板玻璃基板的强度。
支承玻璃基板的厚度、形状、大小、物理性质(热收缩率、表面形状、耐化学品性等)、组成等没有特别限定。
支承玻璃基板的厚度没有特别限定，但优选为能够通过现有的生产线处理的厚度。例如优选为0.1～1.1mm的厚度，更优选为0.3～0.8mm，进一步优选为0.4～0.7mm。
例如，现有的生产线设计为处理厚度0.5mm的基板，薄板玻璃基板的厚度为0.1mm的情况下，使支承玻璃基板的厚度和树脂层的厚度之和为0.4mm。另外，最一般的情况是现有的生产线设计为处理厚度0.7mm的玻璃基板，但例如薄板玻璃基板的厚度若为0.4mm，则使支承玻璃基板的厚度和树脂层的厚度之和为0.3mm。
支承玻璃基板的厚度优选比所述薄板玻璃基板厚。
支承玻璃基板的形状没有限定，但优选为矩形。
支承玻璃基板的大小没有限定，但优选为与上述薄板玻璃基板相同程度，优选比上述玻璃基板稍大(纵方向或横方向分别为0.05～10mm程度的大小)。理由是因为容易保护上述薄板玻璃基板的端部不与显示装置用面板制造时的定位销等定位装置接触、及能够更容易地进行薄板玻璃基板和支承玻璃基板的剥离。
支承玻璃基板可以是线膨胀系数与上述薄板玻璃基板实质上相同，也可以不同。如果实质上相同，则对本发明的层叠玻璃基板进行热处理时，在薄板玻璃基板或支承玻璃基板上难以产生翘曲，故而优选。
薄板玻璃基板和支承玻璃基板的线膨胀系数之差优选为300×10-7/℃以下，更优选为100×10-7/℃以下，进一步优选为50×10-7/℃以下。
支承玻璃基板的组成例如与碱性玻璃、无碱玻璃同样即可。其中，由于热收缩率较小，优选为无碱玻璃。
对本发明的层叠玻璃基板的树脂层进行说明。
在本发明的层叠玻璃基板中，树脂层固定于上述支承玻璃基板的一个主面(以下称为支承玻璃基板的“第一主面”。另外，存在将另一个主面称为“第二主面”的情况。)。并且，树脂层虽然与上述薄板玻璃基板的一个主面(以下称为薄板玻璃基板的“第一主面”。另外，存在将另一个主面称为“第二主面”的情况。)紧贴，但能够容易地剥离。即树脂层相对于上述薄板玻璃基板具有易剥离性。
在本发明的层叠玻璃基板中，认为树脂层与薄板玻璃基板不是利用粘接剂具有的粘接力附着，认为是利用固体分子间的范德瓦耳斯力引起的力、即紧贴力附着。
树脂层的厚度没有特别限定。优选为1～100μm，更优选为5～30μm，进一步优选为7～20μm。这是因为树脂层的厚度为这样的范围时，薄板玻璃基板和树脂层的紧贴变得充分。
另外，这是因为即使夹有气泡、异物，也能够抑制薄板玻璃基板的歪斜缺陷的产生。另外，树脂层的厚度过厚时，形成需要时间及材料，因此不经济。
在此，树脂层的厚度是指使用激光聚焦位移计测定面内9点得到的值的平均值。
树脂层也可以由2层以上构成。该情况下，“树脂层的厚度”是指全部的层的总计厚度。
另外，树脂层由2层以上构成的情况下，形成各层的树脂的种类也可以不同。
对于树脂层，优选树脂层的表面相对于上述薄板玻璃基板的第一主面的表面张力为30mN/m以下，更优选为25mN/m以下，进一步优选为22mN/m以下。这是因为，如果为这样的表面张力，则能够更容易地与薄板玻璃基板剥离，同时与薄板玻璃基板的紧贴也变得充分。
另外，树脂层优选由玻璃转移点比室温(25℃左右)低的材料或不具有玻璃转移点的材料构成。这是因为，可成为非粘接性的树脂层，更具有易剥离性，能够更容易地与薄板玻璃基板剥离，同时与薄板玻璃基板的紧贴也充分。
另外，树脂层优选具有耐热性。这是因为，例如在上述薄板玻璃基板的第二主面上形成显示装置用部件的情况下，将具有树脂层的层叠玻璃基板供于热处理。
另外，树脂层的弹性模量过高时与薄板玻璃基板的紧贴性变低，故而不优选。另外，弹性模量过低时易剥离性变低，因此不优选。
形成树脂层的树脂的种类没有特别限定。例如可列举丙烯酸树脂、聚烯烃类树脂、聚氨酯树脂及有机硅树脂。也可混合使用两种类的树脂。其中优选有机硅树脂。这是因为有机硅树脂耐热性优良且相对于薄板玻璃基板的易剥离性优良。有机硅树脂层例如即使在400℃左右下处理1小时左右，易剥离性也几乎不劣化，从这一方面也优选。另外，这是因为，有机硅树脂与支承玻璃基板表面的硅烷醇基发生缩合反应，因此容易将有机硅树脂层固定在支承玻璃基板的表面(第一主面)上。
另外，树脂层即使在有机硅树脂中也优选由剥离纸用有机硅构成，优选为其固化物。剥离纸用有机硅以在分子内包含有直链状的聚二甲基硅氧烷的有机硅为主剂。使用催化剂、光聚合引发剂等使包含该主剂和交联剂的组成物固化于上述支承玻璃基板的表面(第一主面)而形成的树脂层具有优良的易剥离性，故而优选。另外，由于柔软性较高，因而即使在薄板玻璃基板和树脂层之间混入气泡、尘埃等异物，也能够抑制薄板玻璃基板的歪斜缺陷的产生，故而优选。
这样的剥离纸用有机硅根据其固化机理分类成缩合反应型有机硅、加成反应型有机硅、紫外线固化型有机硅及电子束固化型有机硅，但都能够使用。这其中优选加成反应型有机硅。这是因为固化反应容易进行，形成树脂层时易剥离性的程度良好，耐热性也高。
另外，剥离纸用有机硅在形式上存在溶剂型、乳剂型及无溶剂型，任何类型均可使用。这其中优选无溶剂型。这是因为在生产率、安全性、环境特性方面优良。另外，由于在形成树脂层时的固化时，即在加热固化、紫外线固化或电子束固化时，不含有产生发泡的溶剂，因此在树脂层中难以残留气泡。
另外，作为剥离纸用有机硅，具体而言作为市场出售的商品名或型号，列举KNS-320A、KS-847(均为信越有机硅公司制)、TPR6700(GE东芝有机硅公司制)、乙烯基聚硅氧烷“8500”(荒川化学工业株式会社制)和聚甲基聚硅氧烷“12031”(荒川化学工业株式会社制)的组合、乙烯基有机硅“11364”(荒川化学工业株式会社制)和聚甲基聚硅氧烷“12031”(荒川化学工业株式会社制)的组合、乙烯基硅“11365”(荒川化学工业株式会社制)和聚甲基聚硅氧烷“12031”(荒川化学工业株式会社制)的组合等。KNS-320A、KS-847及TPR6700为预先含有主剂和交联剂的有机硅。
另外，形成树脂层的有机硅树脂优选具有有机硅树脂层中的成分难以向薄板玻璃基板转移的性质，即具有低有机硅转移性。
在支承玻璃基板的表面(第一主面)上形成树脂层的方法没有特别限定。例如可列举将薄膜状的树脂粘接在支承玻璃基板的表面上的方法。具体而言，可列举如下方法：为了给予与薄膜的表面之间的高粘接力，对支承玻璃基板的表面进行表面改性处理(底涂处理)，从而粘接于支承玻璃基板的第一主面。例如，可例示出提高硅烷偶联剂之类的化学上的紧贴力的化学方法(底涂剂处理)、如火焰处理那样使表面活性基增加的物理方法、如喷砂处理那样通过使表面的粗糙度增加而增加拉伸的机械性处理方法等。
另外，可列举例如利用公知的方法将作为树脂层的树脂组成物涂敷于支承玻璃基板的第一主面上的方法。作为公知的方法，可列举喷涂法、模涂法、旋涂法、浸涂法、辊涂法、棒涂法、网版印刷法、凹版涂布法。可从这些方法中根据树脂组成物的种类适宜选择。
例如，在将无溶剂型的剥离纸用有机硅作为树脂组成物使用的情况下，优选模涂法、旋涂法或网版印刷法。
另外，将树脂组成物涂敷于支承玻璃基板的第一主面上的情况下，其涂敷量优选为1～100g/m2，更优选为5～20g/m2。
例如形成由加成反应型有机硅构成的树脂层的情况下，将包括在分子内含有直链状的聚二甲基硅氧烷的有机硅(主剂)、交联剂及催化剂的树脂组成物通过上述的网版印刷法等公知的方法涂敷在支承玻璃基板上，然后进行加热固化。加热固化条件也根据催化剂的配合量而不同，例如在相对于主剂及交联剂的100质量份的总计量配合2质量份的铂系催化剂的情况下，使其在大气中在50℃～250℃下反应，优选在100℃～200℃下反应。另外，该情况下的反应时间为5～60分钟，优选为10～30分钟。为了形成具有低有机硅转移性的有机硅树脂层，优选以在有机硅树脂层中不残留未反应的有机硅成分的方式尽可能进行固化反应。为上述的反应温度及反应时间时，可在有机硅树脂层中不残留未反应的有机硅成分，故而优选。在比上述反应时间过长或反应温度过高的情况下，有机硅树脂的氧化分解同时产生，生成低分子量的有机硅成分，有机硅转移性可能变高。以在有机硅树脂层中不残留未反应的有机硅成分的方式尽可能地进行固化反应，能够使加热处理后的剥离性良好，故而也优选。
另外，例如在使用剥离纸用有机硅制造树脂层的情况下，将涂敷在支承玻璃基板上的剥离纸用有机硅加热固化而形成有机硅树脂层之后，利用使用了本发明的层叠装置的本发明的制造方法，在支承玻璃基板的有机硅树脂形成面上层叠薄板玻璃基板。通过使剥离纸用有机硅加热固化，有机硅树脂固化物与支承玻璃基板的表面化学性结合。另外，通过锚固效果使有机硅树脂层与支承玻璃基板的表面结合。通过这些作用将有机硅树脂层牢固地固定在支承玻璃基板上。
能够使用这样的本发明的层叠玻璃基板制造带支承体的显示装置用面板。
该带支承体的显示装置用面板在本发明的层叠玻璃基板的所述薄板玻璃基板的第二主面上还具有显示装置用部件。
该带支承体的显示装置用面板能够通过在本发明的层叠玻璃基板的所述薄板玻璃基板的第二主面上形成显示装置用部件而获得。通过本发明的制造方法获得的本发明的层叠玻璃基板在薄板玻璃基板的显示器件形成面上基本不存在阻碍该显示器件的形成的损伤、污垢等，因此能够没有问题地形成显示装置用部件。
显示装置用部件是指以往的LCD、OLED等显示装置用玻璃基板在其表面上具有的发光层、保护层、阵列、彩色滤光片、液晶、由ITO构成的透明电极、空穴注入层、空穴输送层、发光层、电子输送层等各种电路图案等。
所述带支承体的显示装置用面板优选在本发明的层叠玻璃基板的薄板玻璃基板的第二主面上形成TFT阵列(以下仅称为“阵列”)。
所述带支承体的显示装置用面板中还包括，例如在薄板玻璃基板的第二主面上形成有阵列的带支承体的显示装置用面板上还贴合了形成有彩色滤光片的其他玻璃基板(例如0.3mm以上程度的厚度的玻璃基板)的情况。
另外，能够从这样的带支承体的显示装置用面板获得显示装置用面板。从带支承体的显示装置用面板剥离固定于薄板玻璃基板和支承玻璃基板上的树脂层，能够获得具有显示装置用部件及薄板玻璃基板的显示装置用面板。
另外，能够从这样的显示装置用面板获得显示装置。作为显示装置可列举LCD、OLED。作为LCD可列举TN型、STN型、FE型、TFT型、MIM型。
形成这样的显示装置的方法没有特别限定，可以与以往公知的方法相同。
例如制造TFT-LCD作为显示装置时，可以与以往公知的在玻璃基板上形成阵列的工序、形成彩色滤光片的工序、将形成有阵列的玻璃基板和形成有彩色滤光片的玻璃基板贴合的工序(阵列/彩色滤光片贴合工序)等各种工序相同。更具体而言，作为通过这些工序实施的处理，例如可以列举纯水清洗、干燥、成膜、抗蚀剂涂布、曝光、显影、蚀刻及抗蚀剂去除。进而，作为在实施了阵列/彩色滤光片贴合工序后进行的工序，存在液晶注入工序及在实施了该处理后进行的注入口的密封工序，可列举通过这些工序实施的处理。
另外，以制造OLED的情况为例时，作为用于在薄板玻璃基板的第二主面上形成有机EL结构体的工序，包括形成透明电极的工序、蒸镀空穴注入层/空穴输送层/发光层/电子输送层等的工序、密封工序等各种工序，作为通过这些工序实施的处理，具体而言例如可列举成膜处理、蒸镀处理、密封板的粘接处理等。
实施例
(实施例1)
首先对纵720mm、横600mm、板厚0.4mm、线膨胀系数38×10-7/℃的支承玻璃基板(旭硝子株式会社制、商品名“AN100”)进行纯水清洗、UV清洗而使表面清洁化。
接着，作为用于形成树脂层的树脂，使用在两末端具有乙烯基的直链状聚有机硅氧烷(荒川化学工业株式会社制、商品名“8500”)、及在分子内具有氢硅烷基的聚甲基聚硅氧烷(荒川化学工业株式会社制、商品名“12031”)。并且，将其与铂系催化剂(荒川化学工业株式会社制、商品名“CAT12070”)混合而调制成混合物，以纵715mm、横595mm的尺寸通过网版印刷机涂敷在上述支承玻璃基板上(涂敷量20g/m2)，在180℃下在大气中加热固化30分钟而形成厚度20μm的有机硅树脂层。在此，以氢硅烷基和乙烯基的摩尔比为1/1的方式调整直链状聚有机硅氧烷和聚甲基聚硅氧烷的混合比。铂系催化剂相对于直链状聚有机硅氧烷和聚甲基聚硅氧烷的总计100质量份添加5质量份。
接着，对纵720mm、横600mm、板厚0.3mm、线膨胀系数38×10-7/℃的薄板玻璃基板(旭硝子株式会社制、商品名“AN100”)的第一主面(在后面为与有机硅树脂层接触一侧的面)进行纯水清洗、UV清洗而使之清洁化。
并且，使用真空加热加压装置制造层叠玻璃基板。以下表示具体的方法。在此真空加热加压装置如图1、图2所示，为将与米卡多特谷诺斯(MIKADO TECHNOS)公司制的真空加热加压装置(MKP-200TV-WH-ST)的“基板吸附单元”相当的部分变更为特定形状的部件后的真空加热加压装置。
使用图1、图2说明利用了真空加热加压装置的具体的层叠玻璃基板的制造方法。
在实施例1中使用的真空加热加压装置(层叠装置10)的静电吸附元件(121)的形状为如图2所示的矩形框状，宽度(X)为5mm。并且框的外形与薄板玻璃基板的外形大致一致。另外，该静电吸附元件(巴川制纸公司制)为聚酰亚胺薄膜基体的静电吸附元件，向薄板玻璃基板的吸附性为50mN/cm2/1kV。此时薄板玻璃基板的上表面面积S0和基板吸附单元与所述薄板玻璃基板的接触面积S1之比即S1/S0的值为0.03。
使用这样的真空加热加压装置在室内(常温下、常压下)如下所述地制造层叠玻璃基板。首先，在下平台(14)的规定位置以第二主面向上的方式设置上述薄板玻璃基板(24)。
接着，使附着有上述静电吸附元件(121)的上平台(12)下降，在静电吸附元件(121)与薄板玻璃基板(24)的第二主面相接时停止下降，对静电吸附元件(121)施加2kV的电压。然后，使吸附静电吸附元件(121)和薄板玻璃基板(24)吸附。
接着，以施加电压的状态使上平台(12)上升20mm。然后，将具有树脂层(22)的支承玻璃基板(20)以树脂层(22)成为上侧的方式设置在规定的位置。
接着，再次使上平台(12)下降，在树脂层(22)和薄板玻璃基板(24)的第一主面的间隔为3mm的状态下停止。在该状态下密封件(16)的下端与下平台(14)的上表面相接，在上下的平台间形成气密空间(30)。
然后，将空间(30)的内部抽成真空直到-100kPa为止。
接着，到薄板玻璃基板(24)和静电吸附元件(121)接触为止，使上平台(12)下降。在该状态下，在薄板玻璃基板(24)的第二主面上仅与静电吸附元件(121)相接。另外，在薄板玻璃基板(24)的第二主面上从静电吸附元件(121)施加300kN/m2的压力。将该状态保持10秒后，切断施加电压而破坏真空，使上平台(12)上升，取出获得的层叠玻璃基板(“层叠玻璃基板1”)。
在层叠玻璃基板1中，薄板玻璃基板(24)及支承玻璃基板(20)经由有机硅树脂层(22)不产生气泡地紧贴，没有凸状缺陷，平滑性也良好。
另外，在层叠玻璃基板1中，从支承玻璃基板(20)剥离薄板玻璃基板(24)，在暗室中照射高亮度灯而观察薄板玻璃基板(24)的第二主面时，确认为外周部5mm以外的面内为完全没有损伤/污垢等的良好的表面状态。
(比较例1)
取代在实施例1中使用的图2的形状的静电吸附元件(121)，除使用图4所示的形状的静电吸附元件之外进行与实施例1同样的操作，获得层叠玻璃基板(“层叠玻璃基板01”)。此时薄板玻璃基板的上表面面积S0和基板吸附单元与所述薄板玻璃基板的接触面积S1之比即S1/S0的值为0.97。
在比较例1中使用的静电吸附元件如图4所示，安装四个纵295mm、横355mm的矩形的静电吸附元件。各间隔均设定为5mm。该静电吸附元件(巴川制纸公司制)为聚酰亚胺薄膜基体的静电吸附元件，向无碱玻璃的吸附性为10mN/cm2/1kV。
在层叠玻璃基板01中，薄板玻璃基板及支承玻璃基板经由有机硅树脂层不产生气泡地紧贴，没有凸状缺陷，平滑性也良好。
然而，在层叠玻璃基板01中，将薄板玻璃基板从支承玻璃基板剥离，在暗室中照射高亮度灯而观察薄板玻璃基板的第二主面时，确认在面内存在薄的擦伤划痕这样的损伤。
(比较例2)
除了将在实施例1中使用的图2的形状的静电吸附元件(121)的宽度从5mm减细至3mm以外，进行与实施例1同样的操作，尝试制作层叠玻璃基板02。此时薄板玻璃基板的上表面面积S0和基板吸附单元与所述薄板玻璃基板的接触面积S1之比即S1/S0的值为0.018。
首先，使上平台(12)下降，在静电吸附元件(121)与薄板玻璃基板(24)的第二主面相接时停止下降，对静电吸附元件(121)施加2kV的电压。然后，使静电吸附元件(121)和薄板玻璃基板(24)吸附。接着，在施加电压的状态下使上平台(12)上升20mm时，吸附力不足，薄板玻璃基板(24)落下，不能继续进行层叠工序。
(比较例3)
除了将在实施例1中使用的图2的形状的静电吸附元件(121)的宽度从5mm增宽至20mm以外，进行与实施例1同样的操作，获得层叠玻璃基板03。此时薄板玻璃基板的上表面面积S0和基板吸附单元与所述薄板玻璃基板的接触面积S1之比即S1/S0的值为0.12。
(实施例2)
在实施例2中，使用通过实施例1获得的层叠玻璃基板1制造LCD。
准备两张层叠玻璃基板1，分别在从层叠玻璃基板的端部进入内部10mm的区域形成器件。一张供于阵列形成工序而在薄板玻璃基板的第二主面上形成阵列。剩余的一张供于彩色滤光片形成工序而在薄板玻璃基板的第二主面上形成彩色滤光片。使形成有阵列的层叠玻璃基板和形成有彩色滤光片的层叠玻璃基板经由密封部件贴合后，逐个单面地对各层叠体的端部喷吹压缩空气和水的混合流体，然后将各支承玻璃基板分离。在分离后的薄板玻璃基板的表面上没有发现与强度降低相关联的损伤。
接着，通过化学蚀刻处理使各薄板玻璃基板的厚度为0.15mm。在化学蚀刻处理后的薄板玻璃基板的表面上没有发现产生光学上成为问题的侵蚀孔。
之后，切断薄板玻璃基板，分割成纵51mm×横38mm的168个单元后，实施液晶注入工序及注入口的密封工序而形成液晶单元。实施在形成的液晶单元上贴附偏光板的工序，接着实施模块形成工序而获得LCD。这样获得的LCD在特性上不产生问题。
(比较例4)
在比较例4中，使用通过比较例3获得的层叠玻璃基板03来制造LCD。
准备两张层叠玻璃基板03，分别在从层叠玻璃基板的端部进入内部25mm的区域形成器件。之后的方法是以与实施例2相同的方法制作液晶单元，但纵51mm×横38mm的单元只能制成132个，与在实施例2中制成的168个相比，可从相同尺寸的基板制成的LCD的效率降低20％以上。
(实施例3)
在实施例3中，使用在实施例1中获得的层叠玻璃基板1、厚度0.7mm的无碱玻璃基板(旭硝子株式会社制、商品名“AN-100”)来制造LCD。
准备层叠玻璃基板1，将从层叠玻璃基板1的端部进入内部10mm的区域供于彩色滤光片形成工序，在层叠玻璃基板1的薄板玻璃基板的第二主面上形成彩色滤光片。另一方面，无碱玻璃基板供于阵列形成工序而在一个主面上形成阵列。
使形成有彩色滤光片的层叠玻璃基板1、形成有阵列的无碱玻璃基板经由密封部件贴合后，对层叠玻璃基板1侧的端部喷吹压缩空气和水的混合流体，然后使支承玻璃基板分离。在分离后的薄板玻璃基板表面上没有发现与强度降低相关联的损伤。
接着，使用激光切割器或划线切断法将分离了支承玻璃基板后的基板分割成纵51mm×横38mm的168个单元。然后，实施液晶注入工序及注入口的密封工序而形成液晶单元。实施在形成了的液晶单元上贴附偏光板的工序，接着实施模块形成工序而获得LCD。这样获得的LCD在特性上没有问题。
(实施例4)
在实施例4中，使用通过实施例1获得的层叠玻璃基板1来制造OLED。
对于从层叠玻璃基板1的端部进入内部10mm的区域，供于形成透明电极的工序、形成辅助电极的工序、蒸镀空穴注入层/空穴输送层/发光层/电子输送层等的工序、及将它们密封的工序，在层叠玻璃基板1的薄板玻璃基板上形成有机EL结构体。接着对层叠体的端部喷吹压缩空气和水的混合流体，然后将支承玻璃基板分离。在分离后的薄板玻璃基板的表面上没有发现与强度降低相关联的损伤。
接着，使用激光切割器或划线切断法切断薄板玻璃基板，分割为纵41mm×横30mm的288个单元后，组装形成有有机EL结构体的玻璃基板和相对基板，实施模块形成工序而制成OLED。这样获得的OLED在特性上没有问题。
参照特定的实施方式对本发明详细地进行了说明，但在不脱离本发明的精神和范围的情况下能够进行各种变更和修正，这对于本领域技术人员来说是显而易见的。
本申请基于2008年10月23日申请的日本专利申请2008-273081，在此将其内容作为参照引入。
工业实用性
根据本发明，可提供一种能够简单且经济地制造层叠玻璃基板的装置，对于该层叠玻璃基板，能够抑制因向玻璃基板间混入的气泡、尘埃等异物导致的玻璃缺陷的产生并不产生侵蚀孔地通过现有的生产线进行处理，在薄板玻璃基板的显示器件形成面上几乎不存在阻碍该显示器件的形成的损伤、污垢等。另外，能够提供一种使用了该装置的层叠玻璃基板的制造方法。
标号说明
10层叠装置
12上平台
121静电吸附元件
123空间
125通气孔
13支柱
14下平台
145减压孔
16密封件
20支承玻璃基板
22树脂层
24薄板玻璃基板
30空间
X静电吸附元件的宽度

Claims (6)

1.一种层叠玻璃基板的制造方法，使用玻璃基板层叠装置将薄板玻璃基板及支承玻璃基板这2张玻璃基板层叠，所述玻璃基板层叠装置具备：
构成为以使上方的玻璃基板的显示器件形成面为上表面的方式吸附支承上方的玻璃基板的上方基板支承单元；
构成为载置支承下方的玻璃基板的下方基板支承单元；
构成为使包含所述上方基板支承单元和所述下方基板支承单元之间的空间为气密状态的密封单元；及
构成为对由所述上方基板支承单元、所述下方基板支承单元及所述密封单元包围的空间内进行减压的减压单元，
所述上方基板支承单元的下表面具有下述（A）、（B）及（C）中的任一种形状的基板吸附单元：
（A）矩形框形状的基板吸附单元；
（B）由矩形框和将构成该矩形的四条边中的相对的1组或2组边分别连接的直线或曲线构成的形状的基板吸附单元；
（C）由彼此交叉的多条直线或曲线构成的形状的基板吸附单元，
使利用所述上方基板支承单元具有的基板吸附单元吸附的所述薄板玻璃基板和载置于所述下方基板支承单元上且在上表面具有树脂层的所述支承玻璃基板相对，其中，所述薄板玻璃基板以使其显示器件形成面为上表面的方式进行吸附支承，
利用所述减压单元，在支承玻璃基板和薄板玻璃基板之间保持有间隙的状态下，对由所述上方基板支承单元、所述下方基板支承单元及所述密封单元包围的空间内进行减压至真空状态，
然后，在上述真空状态下使所述薄板玻璃基板和所述支承玻璃基板接触，通过加压使2张玻璃基板隔着所述树脂层而层叠。
2.如权利要求1所述的层叠玻璃基板的制造方法，使所述薄板玻璃基板和所述支承玻璃基板接触后，利用压缩空气供给单元朝向下方对所述薄板玻璃基板的上表面喷吹压缩空气。
3.如权利要求1或2所述的层叠玻璃基板的制造方法，
使所述薄板玻璃基板和所述支承玻璃基板接触后，在由所述上方基板支承单元、所述下方基板支承单元及所述密封单元包围的空间内或其他的加压装置内进行0.1～1MPa的范围的加压处理。
4.如权利要求1或2所述的层叠玻璃基板的制造方法，
设所述薄板玻璃基板的上表面面积为S0、所述基板吸附单元和所述薄板玻璃基板之间的接触面积为S1时，满足关系式0.02≤S1/S0≤0.1。
5.如权利要求1或2所述的层叠玻璃基板的制造方法，
所述基板吸附单元具有静电吸附元件，所述静电吸附元件相对于所述薄板玻璃基板的吸附力在施加电压1kV下为40mN/cm2以上。
6.如权利要求1或2所述的层叠玻璃基板的制造方法，
所述树脂层由选自丙烯酸类树脂、聚烯烃类树脂、聚氨酯类树脂及有机硅类树脂中的至少一种构成。
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