CN102163006A - 一种全自动步进数字化光刻装置 - Google Patents
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Abstract
一种全自动步进数字化光刻装置,工控机分别连接SLM驱动器、数字图像采集卡和数字控制卡,数字控制卡连接程控开关控制器,程控开关控制器分别连接程控紫外光源和程控三维精密工件台控制器,程控紫外光源连接SLM,SLM分别连接SLM驱动器和分束镜,分束镜分别连接CCD和精缩透镜,精缩透镜连接程控三维精密工件台,CCD连接数字图像采集卡。本发明的技术效果是:该装置把人为因素的影响降到了最低,并且设计的精度高、稳定性好。
Description
技术领域
本发明涉及一种步进数字化光刻装置,尤其涉及一种全自动步进数字化光刻装置。
背景技术
在微光学技术迅速发展的今天,越来越多的科学研究和应用实践依赖于数字化的方法来实现,这已成为当前紧迫的技术难题,成为科研生产的一个亟待解决的瓶颈问题。随着计算机控制技术的快速发展,基于数字化光刻系统及控制方法,已被证实具有很高的器件制作精度和效率,且减少了人为不利因素的影响。可以利用全自动步进数字化光刻系统来进行光刻的实验制作。
发明内容
本发明的目的在于提供了一种全自动步进数字化光刻装置,该装置是通过计算机编程控制光刻系统的各个部件,提高了系统的稳定性、可靠性,及微光学器件制作的精度和性能。当进行光刻实验时,我们将要进行实验的数字掩模图形由工控机经SLM(空间光调制器)驱动器输出到SLM上,采用程控紫外光源来实现对曝光时间的设定,使得曝光时间的精度更高。使用高分辨率CCD(电荷耦合器件)使得观察要曝光对准的数字掩模图形的清晰度更高,从而曝光光刻图形效果更好。利用程控三维精密工件台控制器控制程控三维精密工件台的精密定位,有效提高了器件制作的精度和效率。
本发明是这样来实现的,它包括工控机、数字控制卡、程控开关控制器、SLM驱动器、程控紫外光源、程控三维精密工件台控制器、数字图像采集卡、SLM、分束镜、精缩透镜、程控三维精密工件台、CCD,其特征是工控机分别连接SLM驱动器、数字图像采集卡和数字控制卡,数字控制卡连接程控开关控制器,程控开关控制器分别连接程控紫外光源和程控三维精密工件台控制器,程控紫外光源连接SLM,SLM分别连接SLM驱动器和分束镜,分束镜分别连接CCD和精缩透镜,精缩透镜连接程控三维精密工件台,CCD连接数字图像采集卡。
本发明的技术效果是:该装置把人为因素的影响降到了最低,并且设计的精度高、稳定性好。主要体现在以下几点: 1、使用高精度程控紫外光源,明显消除了曝光光源不稳定对光刻系统的影响。2、采用积木式模块化设计,系统硬件的各个组成部分均采用高精度的部件,最大限度降低了部件对系统性能的影响。3、使用高性能工控机,实现了对系统各部件更有效控制。4、采用高灵敏CCD作为监视成像器件可以获得高分辨率的像,从而使调焦成像更精确。5采用高精密的程控三维精密工件台,使得光刻系统的平稳性精度更高,从而使器件制的定位更精确、精度更高。
附图说明
图1为本发明的原理图。
在图中,1、工控机 2、数字控制卡 3、程控开关控制器 4、SLM驱动器 5、程控紫外光源 6、程控三维精密工件台控制器 7、数字图像采集卡 8、SLM 9、分束镜 10、精缩透镜 11、程控三维精密工件台 12、CCD。
具体实施方式
如图1所示,本发明是这样实现的,一种全自动步进数字化光刻装置,工控机(1)分别连接SLM驱动器(4)、数字图像采集卡(7)和数字控制卡(2),数字控制卡(2)连接程控开关控制器(3),程控开关控制器(3)分别连接程控紫外光源(5)和程控三维精密工件台控制器(6),程控紫外光源(5)连接SLM (8),SLM (8)分别连接SLM驱动器(4)和分束镜(9),分束镜(9)分别连接CCD(12)和精缩透镜(10),精缩透镜(10)连接程控三维精密工件台(11),CCD(12)连接数字图像采集卡(7)。该控制方法是:工控机(1)发出控制指令给数字控制卡(2),启动程控开关控制器(3),开启程控紫外光源(5)和程控三维精密工件台控制器(6)。由工控机(1)预设的数字掩模图经SLM驱动器(4)输出到SLM(8),SLM(8)在程控紫外光源(5)照射下,经分束镜(9)、精缩透镜(10),将数字掩模图形转印到程控三维精密工件台(11)上涂有光刻胶的基片上。工控机(1)控制程控三维精密工件台控制器(6),在CCD(12)监视下来调整程控三维精密工件台(11)精密定位,使基片上投影图形更清晰,然后由程控紫外光源(5)按照程序设定的时间完成曝光实验,从而实现全自动步进数字化投影曝光光刻实验制作的目的。
Claims (1)
1.一种全自动步进数字化光刻装置,它包括工控机(1)、数字控制卡(2)、程控开关控制器(3)、SLM驱动器(4)、程控紫外光源(5)、程控三维精密工件台控制器(6)、数字图像采集卡(7)、SLM (8)、分束镜(9)、精缩透镜(10)、程控三维精密工件台(11)、CCD(12),其特征是工控机(1)分别连接SLM驱动器(4)、数字图像采集卡(7)和数字控制卡(2),数字控制卡(2)连接程控开关控制器(3),程控开关控制器(3)分别连接程控紫外光源(5)和程控三维精密工件台控制器(6),程控紫外光源(5)连接SLM (8),SLM (8)分别连接SLM驱动器(4)和分束镜(9),分束镜(9)分别连接CCD(12)和精缩透镜(10),精缩透镜(10)连接程控三维精密工件台(11),CCD(12)连接数字图像采集卡(7)。
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20010033996A1 (en) * | 1998-10-19 | 2001-10-25 | Vanguard International Semiconductor Corporation | Electronically controlled universal phase-shifting mask for stepper exposure method and system |
| WO2003023494A1 (en) * | 2001-09-12 | 2003-03-20 | Micronic Laser Systems Ab | Improved method and apparatus using an slm |
| WO2010044307A1 (ja) * | 2008-10-15 | 2010-04-22 | 株式会社ニコン | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
| CN201654453U (zh) * | 2010-03-23 | 2010-11-24 | 南昌航空大学 | 光纤端面微光学器件数字光刻的装置 |
| US20100296068A1 (en) * | 2007-12-17 | 2010-11-25 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20010033996A1 (en) * | 1998-10-19 | 2001-10-25 | Vanguard International Semiconductor Corporation | Electronically controlled universal phase-shifting mask for stepper exposure method and system |
| WO2003023494A1 (en) * | 2001-09-12 | 2003-03-20 | Micronic Laser Systems Ab | Improved method and apparatus using an slm |
| US20100296068A1 (en) * | 2007-12-17 | 2010-11-25 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
| WO2010044307A1 (ja) * | 2008-10-15 | 2010-04-22 | 株式会社ニコン | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
| CN201654453U (zh) * | 2010-03-23 | 2010-11-24 | 南昌航空大学 | 光纤端面微光学器件数字光刻的装置 |
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