CN102138033B - 具有移动适配部分的用以耦接o形环的狭缝化tssl阀门 - Google Patents
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Abstract
在此公开的实施方式与一种用于密封腔室中的开口的狭缝阀门装置有关。当狭缝阀门开口收缩时,压向所述腔室以密封狭缝阀开口的狭缝阀门与所述腔室一起移动,使得受压于所述狭缝阀门与所述腔室之间的O形环与所述狭缝阀门和所述腔室一起移动。因此,O形环对腔室发生摩擦的情形会较少。由于较少摩擦,产生的颗粒可较少,因而可延长O形环的使用寿命。由于O形环的使用寿命较长,基板处理量即可增加。
Description
技术领域
本发明的实施方式一般与用于密封腔室中的开口的狭缝阀门(slit valvedoor)有关。
背景技术
为了将基板引入腔室中,一般需开启一道门,而基板插置穿过一开口而至腔室的内部空间中。接着关闭这道门并抽取(draw)真空。在抽取真空时,腔室本身会压缩,因此所述开口会因为腔室移动而收缩。当腔室通气时,腔室便回到正常状态。
当所述门对腔室密封时,这道门保持静止,这是因为所述门并非腔室壁体的一部分。密封机构(一般为O形环)受压于这道门与所述腔室壁体之间。因此,当腔室压缩或通气时,所述腔室将相对于这道门及O形环而移动,并对O形环(且有可能对门)产生摩擦。因为腔室对O形环摩擦,O形环会受损且密封会被破坏而损害腔室的真空完整性。此外,也会因摩擦而产生颗粒。
因此,本技术领域中需要一种腔室与门装置,以避免颗粒的产生且同时保持真空完整性。
发明内容
本文中所揭露的实施方式一般与用于密封腔室中开口的狭缝阀门装置有关。当狭缝阀门开口收缩时,压向所述腔室以密封狭缝开口的狭缝阀门与腔室一起移动,使得受压于所述狭缝阀门与所述腔室之间的O形环可与所述狭缝阀门和所述腔室一起移动。因此,O形环对腔室发生摩擦的情形会较少。由于较少摩擦,产生的颗粒可较少,因而可延长O形环的使用寿命。由于O形环的使用寿命较长,基板处理量即可增加。
在一个实施方式中,狭缝阀门包括门体,所述门体具有第一主体、第二主体与第三主体。所述第二主体与第三主体各可耦接至所述第一主体于所述第一主体的边缘处,并与所述第一主体分隔于所述第一主体的中央区域。狭缝阀门也可包括一或多个伸缩囊(bellow),所述伸缩囊耦接于所述第一主体以及所述第二主体和所述第三主体中的至少一个主体之间,使得所述第二主体上的密封与所述第三主体上的密封之间的距离可随着狭缝阀门的宽度变化而改变。
在另一个实施方式中,狭缝阀门包括第一主体、第二主体,以及第一伸缩囊,所述第二主体与所述第一主体分隔,所述第一伸缩囊耦接于所述第二主体和所述第一主体的第一表面之间。所述狭缝阀门也可包括第二伸缩囊,所述第二伸缩囊耦接于所述第二主体以及所述第一主体的第二、第三、第四与第五表面之间,使得在第一主体、第二主体、第一伸缩囊与第二伸缩囊之间存在气囊(air pocket)。
在另一个实施方式中,负载锁定腔室包括负载锁定腔室主体。至少一个开口可形成穿过所述负载锁定腔室主体的表面。所述负载锁定腔室还可包括狭缝阀门。所述狭缝阀门可包括门体(door body),所述门体具有第一主体、第二主体与第三主体。所述第二主体与第三主体各可耦接至所述第一主体于所述第一主体的边缘处,并与所述第一主体分隔于所述第一主体的中央区域。狭缝阀门也可包括一或多个伸缩囊,以及狭缝阀门致动器,所述伸缩囊耦接于所述第一主体以及所述第二主体和所述第三主体中的至少一个主体之间,所述狭缝阀门致动器与所述狭缝阀门及所述腔室主体耦接。
在另一个实施方式中,负载锁定腔室包括负载锁定腔室主体,所述负载锁定腔室主体具有至少一个开口,所述开口形成穿过所述负载锁定腔室主体的表面。所述负载锁定腔室也包括狭缝阀门。所述狭缝阀门包括第一主体,所述第一主体具有第二表面、第三表面、第四表面、第五表面、第六表面与第七表面。所述狭缝阀门也包括第二主体,以及第一伸缩囊,所述第二主体与第一主体分隔,所述第一伸缩囊耦接于所述第二主体与所述第七表面之间。所述狭缝阀门也包括第二伸缩囊,所述第二伸缩囊耦接于所述第二主体与负载锁定腔室主体的第二、第三、第四及第五表面之间,使得在第一主体、第二主体、第一伸缩囊与第二伸缩囊之间存在气囊。所述负载锁定腔室也可包括狭缝阀门致动器,所述狭缝阀门致动器与所述狭缝阀门及所述腔室主体耦接。
在另一个实施方式中,揭露了一种狭缝阀门。所述狭缝阀门包括第一主体以及第二主体,所述第二主体与所述第一主体耦接于所述第一主体的边缘处并与所述第一主体分隔,使得在第一主体与第二主体之间存在第一狭缝。所述狭缝阀门也包括第一轴承板、第一伸缩囊,以及第一夹钳(clamp),所述第一轴承板耦接于所述第一主体与所述第二主体之间,所述第一伸缩囊耦接于所述第一主体与所述第二主体之间,且所述第一伸缩囊位于所述第一狭缝上方,所述第一夹钳耦接至所述第一伸缩囊、所述第一主体与所述第二主体。
在另一个实施方式中,揭露了一种排空腔室的方法。所述方法包括:压缩狭缝阀门与腔室主体之间的O形环,其中所述狭缝阀门具有第一部分与第二部分;在所述腔室主体内抽取真空;以及相对于所述第二部分而移动所述腔室主体、所述O形环与所述第一部分。
附图说明
为了更详细理解本发明的上述特征,通过参考实施方式可获得简要概述如上的本发明的更具体描述,一些实施方式在附图中示出。然而应注意,附图仅为说明本发明的典型实施方式之用,因此不应视为限定本发明的范畴,本发明也允许其它等效实施方式。
图1A为腔室100在移除狭缝阀门而进行排空前的示意前视图。
图1B为图1A所示的腔室100在移除狭缝阀门而呈真空的示意前视图。
图2A至2F为狭缝阀门的示意截面图,所述狭缝阀门在腔室主体在真空下偏斜时用于与腔室主体一起偏斜。
图3A与图3B为根据一个实施方式的狭缝阀门的等角视图。
图3C为狭缝阀门350的示意截面图。
图4A为在排空腔室前的狭缝阀门前视图。
图4B为另一个狭缝阀门在排空腔室前的前视图。
图4C为具有两个独立空间、在排空其中一个空间前的装置截面图。
图4D为已经耦接至经排空腔室的狭缝阀门的前视图。
图4E为已经耦接至经排空腔室的相邻腔室的狭缝阀门前视图。
图4F为腔室示意截面图,所述腔室示意截面图绘示了与大气腔室空间相邻的经排空腔室。
图5A至5C为根据一个实施方式的狭缝阀门的截面图。
图5D与图5E为根据另一个实施方式的狭缝阀门的等角视图。
图5F至5J为根据另一个实施方式的狭缝阀门的等角视图。
图6A为根据另一个实施方式的狭缝阀门的等角视图。
图6B为图6A的狭缝阀门的放大视图。
图7为根据一个实施方式的组合工具(cluster tool)的示意顶视图。
为增进理解,图中使用了相同的元件符号来代表相同的元件。应知一个实施方式中所揭露的元件可有利地用于其它实施方式,而无须进一步详述。
具体实施方式
本文中所揭露的实施方式一般与用于密封腔室中的开口的狭缝阀门装置有关。当狭缝阀门开口收缩时,压向所述腔室以密封狭缝开口的狭缝阀门与腔室一起移动,使得受压于所述狭缝阀门与所述腔室之间的O形环与所述狭缝阀门与所述腔室一起移动。因此,O形环对腔室发生摩擦的情形会较少。由于较少摩擦,产生的颗粒可较少,因而可延长O形环的使用寿命。由于O形环的使用寿命较长,基板处理量即可增加。
负载锁定腔室中的一个主要问题是负载锁定的密封表面与门体之间的相对移动。适配表面(mating surface)为负载锁定腔室,所述负载锁定腔室经过真空循环、产生可观移动量。因为门体十分坚固且刚硬,且因为O形环会受到明显的磨损/腐蚀机制,因此会产生大量的颗粒,导致在短时间内对密封产生不良影响。本文所述的实施方式提供了门体的O形环沟道区域(groove area)与移动部分相配的弹性,以将相对移动减至最低。可藉由提供穿过门体长度的两个长形沟槽(slot)、接着对沟槽覆以弹性密封衬垫(例如隔膜)以维持真空完整性而实现所述弹性。为了维持门体的机械完整性,弹性区域可通过一系列的接脚(pin)与轴衬(bushing)而耦接至门体的刚性部分,这一耦接允许垂直移动并限制侧向移动。
以下将参照AKT America,Inc.(加州圣克拉拉的应用材料公司(AppliedMaterials,Inc.,Santa Clara,California)的子公司)的三沟槽负载锁定腔室来说明本文所述的实施方式。虽以负载锁定腔室来进行实施方式的说明,但应了解实施方式也可实行于其它真空腔室中,包括由其它制造商所生产的那些真空腔室。
图1A是腔室100在移除狭缝阀门而进行排空前的示意前视图。腔室100可为负载锁定腔室、处理腔室,或任何可被排空的一般腔室。腔室100包括腔室主体102,所述腔室主体具有狭缝阀门开口104,狭缝阀门开口104穿过腔室主体102的一或多个壁体。狭缝阀门开口104具有由箭头“A”所示的高度。然而,当腔室100被排空时,狭缝阀门开口104会收缩。
图1B为图1A所示的腔室100在移除狭缝阀门而呈真空的示意前视图。如图所示,狭缝阀门开口104已狭缩(pinch)于中间部分,因为腔室主体102已从线106、108、112、110所示的正常位置移动如箭头“B”所示的一段距离。腔室主体102在狭缝阀门开口104的中央狭缩较多,因为当腔室主体102在真空下偏移时,在狭缝阀门开口104的中央区域并无任何支撑。对于大区域的腔室(例如用于处理面积大于约一平方米的基板的腔室)而言,这种偏移会相当显著。因为腔室移动,如果狭缝阀门未移动,狭缝阀门(未示出)会摩擦腔室主体102,并产生颗粒。
图2A至2F为狭缝阀门的示意截面图,所述狭缝阀门在腔室主体在真空下偏斜时用于与腔室主体一起偏斜。在图2A示出的实施方式中,狭缝阀门200会受沿着旋转把手208的旋转轴的旋转而致动。旋转把手208可藉由耦接把手210而耦接于狭缝阀门200的中心主体202。
狭缝阀门200包括第一主体202、第二主体204与第三主体206。在一个实施方式中,第一主体202与第二及第三主体204、206包含个别构件,所述构件末端耦接在一起,且所述构件于所述构件的中央区域处分隔。在另一个实施方式中,第一主体202以及第二与第三主体204、206包含单一材料构件,所述单一材料构件分隔于所述单一材料构件的中央区域处。杆件(rod)214可耦接在各第二与第三主体204、206以及第一主体202之间。如果需要的话,在杆件214上方的第二与第三主体204、206上可具有盖体部分218。杆件214可固定地耦接至第一主体202,但以滑动方式耦接至第二与第三主体204、206,使得当第二与第三主体204、206相对于第一主体202而移动时,杆件214可相对于第二与第三主体204、206保持静止。第二与第三主体204、206可相对于第一主体202滑动与移动,使得当真空抽取至腔室中时,第二与第三主体204、206移动靠近第一主体202。第二与第三主体204、206可移动,因为与第二与第三主体耦接的O形环220压抵腔室壁体以密封腔室。当腔室相对于所述腔室的正常位置而移动或偏移时,O形环220也会如此,且因而耦接至腔室壁体的第二与第三主体204、206也会如此。因此,杆件214虽保持静止,但第二与第三主体204、206会相对于第一主体202而滑动与移动,并且靠近或进一步远离第一主体202。图2A示出了当第二与第三主体204、206已经压缩靠近第一主体202时的狭缝阀门200。图2D示出了当第二与第三主体204、206未压缩靠近第一主体202时的狭缝阀门200。在第二与第三主体204、206和杆件214之间可存在轴衬216,以使第二与第三主体204、206以尽可能低的摩擦力移动。在一个实施方式中,轴衬216可包括聚四氟乙烯。杆件214可沿着狭缝阀门200而分隔。在一个实施方式中,第一主体202、第二与第三主体204、206、杆件214与盖体218各包含金属材料。在另一个实施方式中,第一主体202、第二与第三主体204、206、杆件214与盖体218包含铝。
为了确保狭缝阀门200可密封处理腔室,在狭缝阀门200面对真空环境的侧边上可存在伸缩囊212。伸缩囊212可如第二与第三主体204、206般压缩,并移动靠近第一主体202。类似地,伸缩囊212可如第二与第三主体204、206般膨胀,并自第一主体202移动远离。伸缩囊212可为真空伸缩囊,所述真空伸缩囊可保持真空,使真空环境不受伸缩囊212影响。真空侧上的伸缩囊212将杆件214与轴衬216自真空环境隔离,因此,可避免由轴衬216与杆件214摩擦而产生的颗粒抵达真空环境而可能污染基板。
在运作期间,狭缝阀门200旋转至相对于腔室的位置,藉以使O形环220接触真空腔室。接着在真空腔室中抽取真空。在抽取真空时,O形环220以及第二与第三主体204、206会与真空腔室主体一起相对于第一主体而移动。在这样的移动中,第二与第三主体204、206可相对于第一主体202与杆件214而移动。此外,伸缩囊212会压缩。因此,第二与第三主体204、206、轴衬216以及盖体部分218都会相对于第一主体202而移动。当真空腔室通气时,第二与第三主体204、206再次相对于第一主体202与杆件214而移动。然而,在通气期间,第二与第三主体204、206、轴衬216与盖体部分218都从第一主体202与杆件214移动离开。此外,伸缩囊212会膨胀。之后,狭缝阀门200可自真空腔室移动离开。在图2B所示的实施方式中,伸缩囊232、234存在于狭缝阀门230的真空侧与另一侧上。图2B示出了当第二与第三主体已经压缩靠近第一主体时的狭缝阀门230。图2E示出了当末端构件未压缩靠近第一主体时的狭缝阀门230。
在图2C中,狭缝阀门250、第一主体252藉由空气间隙264而与第二及第三主体254、256分隔开来,空气间隙264由狭缝阀门250两侧上的伸缩囊258、260予以限定。当第二与第三主体254、256向第一主体252压缩时,存在于空气间隙264中的空气藉由过滤器262而排出空气间隙264。类似地,当第二与第三主体254、256自所述第一主体252膨胀离开时,过滤器262可使空气进入空气间隙264中。图2C示出了当第二与第三主体254、256已经压缩靠近第一主体252时的狭缝阀门250。图2F示出了当第二与第三主体254、256未压缩靠近第一主体252时的狭缝阀门250。
图3A与图3B为根据一个实施方式的狭缝阀门300的等角视图。狭缝阀门300耦接至轴杆(shaft)302与支撑架/固定架304。轴杆302沿所述轴杆旋转轴而旋转,以枢转狭缝阀门300。耦接把手耦接至轴杆302与狭缝阀门的第一主体306。因此,当第二与第三主体308、310向第一主体306压缩及膨胀离开第一主体306时,支撑架/固定架304与中央主体306保持静止。第二与第三主体308、310在边缘312、314处耦接至第一主体306,使得第一主体306及第二与第三主体308、310包含单一材料构件。在一个实施方式中,所述单一材料构件包含铝。在第二与第三主体308、310可在排空和通气(venting)期间会相对于第一主体306压缩及/或膨胀的区域中,第二与第三主体308、310可与第一主体306分隔空间316、318。在沿着狭缝阀门300的位置上具有数个杆件320。
图3C为狭缝阀门350的示意截面图,所述狭缝阀门具有上下沟槽352,以在腔室主体偏移时,使部分的狭缝阀门350与腔室主体一起移动。伸缩囊354可置于沟槽352上方,并由夹钳356支承定位。夹钳356与伸缩囊354可面向腔室内部或远离腔室内部。
图4A为在排空腔室前的狭缝阀门400的前视图。图4B为另一个狭缝阀门416在排空腔室前的前视图。图4C为负载锁定装置404在排空负载锁定装置404前的截面图,负载锁定装置404具有两个独立、环境隔离空间420、422。图4D为狭缝阀门400的前视图,狭缝阀门400已经耦接至经排空腔室空间420。图4E为狭缝阀门416的前视图,狭缝阀门416已经耦接至经排空腔室空间420的相邻腔室空间422。图4F为装置404在排空空间420后的截面图。如图4A所示,中央构件与末端构件(亦即与中央构件分隔的构件)之间的间隙402由箭头“E”加以表示。间隙402在整个间隙402的末端构件与中央构件之间产生了实质均匀的距离。在排空之前,门体400的伸缩囊414位于中间位置。类似地,用于密封空间422的门体416的伸缩囊418也位于中间位置。
图4B中所示的狭缝阀门416与图4A所示的狭缝阀门400相似。末端构件与中央构件之间的间隙424、426以箭头“I”予以表示。间隙424、426在整个间隙424、426的末端构件与中央构件之间产生了实质均匀的距离。
当狭缝阀门400耦接至经排空的装置404与空间420时,负载锁定腔室404的壁体406、408从如线“G”、“H”所示的壁体406、408的正常位置压缩,并使狭缝阀门400的间隙402以箭头“F”所示方式压缩,使得末端构件与中央构件之间的距离会从间隙402的边缘410逐渐向间隙402的中央412减少。门体400的伸缩囊414如图4F方式压缩。因为壁体408向经排空的空间420偏移,门体416会膨胀,并因而膨胀伸缩囊418至图4E所示的拉伸状态。
对于大气空间422而言,狭缝阀门416会膨胀并因而拉伸上间隙424的伸缩囊418,如箭头“J”所示;而下间隙426则相对保持为未改变,如箭头“K”所示。然而,间隙426可与间隙424同等拉伸。在一个实施方式中,间隙426可比间隙424拉伸得少。在一个实施方式中,间隙426保持未改变,使得间隙426分开如箭头“K”所示的距离,此距离实质上与箭头“I”所示的距离相等。间隙424会膨胀,因为所述间隙424与偏移腔室壁体直接相邻,而间隙426直接与不偏移的壁体相邻。间隙402、424、426的压缩或膨胀意味末端构件相对于中央构件而移动。同样地,O形环428、430、432、434相对于中央构件而移动。O形环428、430、432、434成形为与间隙402、424、426实质相同、但稍微较大。因此,O形环428、430、432、434形状与间隙402、424、426的形状极为相似。间隙402、424、426发生最大移动的区域也就是O形环428、430、432、434相对于中央构件产生最大移动的区域。O形环428、430、432、434与偏移的腔室壁体以及狭缝阀门400、416的移动部分一起移动,使得O形环428、430、432、434并不相对于偏移的腔室壁体或狭缝阀门400、416的移动部分而移动。因此,在间隙402、424、426产生最少移动量的位置,或未发生移动的位置,将经历O形环428、430、432、434的最少移动量或不移动。换句话说,O形环428、430、432、434的长侧会移动,而O形环428、430、432、434的短侧几乎不移动,或完全未移动。
图5A至5C为根据一个实施方式的狭缝阀门500的截面图。狭缝阀门500可包含第一主体502与第二主体504。O形环506可耦接于第二主体504以使狭缝阀门500密封至腔室。第二主体504可包含独立于第一主体502的个别构件,所述个别构件可相对于第一主体502而移动。当压抵腔室时,第二主体504可与腔室一起相对于第一主体502而移动。因此,O形环506可相对于腔室保持静止(但相对于第一主体而移动),且狭缝阀门500的部件与腔室都不会对彼此摩擦。由于第二主体504与腔室一起移动,即可减少可污染基板的颗粒的产生量。
第二主体504可沿着轴承514而滑动,所述轴承514位于第二主体504与第一主体502之间。在一个实施方式中,轴承514可包含聚醚醚酮(poly etherether ketone)。在另一个实施方式中,轴承514可包括聚四氟乙烯。
移动的第二主体504会产生可污染基板的颗粒,这是因为所述移动的第二主体504相对于第一主体502而移动。因此,狭缝阀门500的位置(会因移动部分而产生颗粒的任何处)受密封以避免暴露至基板与真空环境。会产生颗粒的一个此种区域位于第二主体504与轴承514之间的交界面处。所形成的颗粒会落到第二主体504与第一主体502之间的空腔518中。因此,伸缩囊510可锁固至第二主体504以及第一主体502,以隔绝空腔518与狭缝阀门500的密封侧。伸缩囊510可藉由一或多个锁固机构516而耦接至第二主体504与第一主体502。
为提供第二主体504对第一主体502的其它耦接,第二伸缩囊508可沿着狭缝阀门500的上部耦接于第二主体504与第一主体502之间。可使用一或多个锁固机构512来将伸缩囊508耦接至第一主体502与第二主体504。
空腔518可维持为与狭缝阀门500的压力侧几乎相同的压力。在一个实施方式中,狭缝阀门500的压力侧的压力可为大气压力。藉由使空腔518保持于与狭缝阀门500的压力侧几乎相同的压力,即使在狭缝阀门500所密封的腔室被通气或排空时,第二主体504可保持第二主体504相对于第一主体502的位置。第二主体504上的主要压力可来自O形环506与腔室上的密封表面的接触。为达相同的压力条件,上伸缩囊508可包含微孔隙材料。在一个实施方式中,孔隙度(porosity)可约为1微米。孔隙度可于含有由移动部分所产生的任何颗粒时,使空腔518透气。在一个实施方式中,上伸缩囊508可包含固态弹性体,而可透气性过滤插塞件(breathable filter plug)可自压力侧连接至空腔518。
图5B示出了锁固机构(fastening mechanism)520,锁固机构520通过轴承514而将第二主体504耦接至第一主体502。锁固机构520可配置于沟槽522中,沟槽522在第二主体504中形成。当腔室排空、且角落构件移动时,锁固机构520相对于第二主体504保持静止,而沟槽522相对于锁固机构520而移动。图5C示出了在替换条件中的第二主体504。如图所示,沟槽522相对于锁固机构520而移动。
图5D与图5E为根据一个实施方式的狭缝阀门530的等角视图。图5D示出了在轴杆532与支撑架/固定架534座落处的狭缝阀门530的非密封侧。狭缝阀门530可绕着轴杆532而旋转,以使狭缝阀门530对腔室定位并远离腔室。支撑架/固定架534使轴杆532耦接至第一主体536。
图5E示出了狭缝阀门530的密封侧。如图所示,第二主体538可跨越第一主体536的一侧边的可观长度。应知第二主体538可跨越第一主体536的整个侧边。此外,第二主体538可跨越当腔室移动时狭缝阀门530的预期移动区域。由图5E可知,O形环540横越了第二主体538与第一主体536两者。在第二主体538跨越少于第一主体536的整个侧边长度的情形中,在第二主体538与第一主体536的垂直交界面处会分别需要其它的伸缩囊。在一个实施方式中,垂直交界面处的伸缩囊与伸缩囊统一。
图5F至5J为根据另一个实施方式的狭缝阀门550的等角视图。狭缝阀门550可绕杆件552旋转或枢转,以使O形环554压抵密封表面。狭缝阀门550包括门体576,所述门体576内形成有两个实质平行的狭缝578,以在狭缝阀门550所密封的腔室移动时,使部分的狭缝阀门550移动。在一个实施方式中,面对腔室内部的表面上的狭缝578覆以伸缩囊558、560,所述伸缩囊558、560由夹钳556、562予以支承定位。与上述伸缩囊相同,伸缩囊558、560可避免因狭缝阀门550移动而产生的颗粒进入处理区域内并污染基板。
狭缝阀门主体的上表面580也可具有伸缩囊564,所述伸缩囊564覆以夹钳566以支承轴承板568,所述轴承板568位于移动表面之间的狭缝582内。轴承板568具有的厚度可自轴承板568的边缘向中央改变,以形成弧形。当狭缝阀门550对腔室密封时,第二主体586相对于第一主体584而移动,并沿着轴承板568而移动。第二主体586在第一主体584的边缘处耦接至第一主体584。第一主体584具有覆盖体570,所述覆盖体570用于以多孔性介质572来覆盖中央环,多孔性介质572使空气或气体可进入或离开路径574,颗粒在所述路径574中产生。颗粒会被捕集于空腔内部,且空腔内部的压力可保持与门体的压力侧相同。这是上述可透气式过滤插塞件的一个实例。
图6A为根据一个实施方式的狭缝阀门600的等角视图。图6B为图6A的狭缝阀门600的放大视图。狭缝阀门600包含第一主体602、密封盖体606、O形环610、密封盖体612,以及滑动垫616,密封盖体606用于耦接第二主体608与第一主体602之间的伸缩囊604,O形环610用于使狭缝阀门600对腔室密封,密封盖体612用于耦接第一主体602与第二主体608之间的伸缩囊,滑动垫616用于使第二主体608在腔室排空时相对于第一主体602而移动。在一个实施方式中,滑动垫616可包含聚醚醚酮。另一个实施方式中,滑动垫616可包含聚四氟乙烯。一或多个滑动垫可于第一主体602以及第二主体608之间分隔开来。
图7为示例处理系统700(例如线性或组合工具)的平面图,所述示例处理系统700具有真空转移腔室706、一或多个负载锁定腔室704与多个处理腔室708。工厂接口(factory interface)702由负载锁定腔室704耦接至转移腔室706,且工厂接口702包括了多个基板储存卡匣(substrate storage cassette)714与一个大气自动控制装置(atmospheric robot)712。所述大气自动控制装置712促使基板716在卡匣714与负载锁定腔室704之间转移。
基板处理腔室708耦接至转移腔室706。基板处理腔室708可经装配以执行以下至少一种工艺:化学气相沉积工艺、物理气相沉积工艺、蚀刻工艺或其它适用于制造平面显示器、太阳电池或其它装置的大面积基板生产工艺。一般而言,大面积基板具有至少为1平方米的平面面积,且可由玻璃或聚合板所构成。
负载锁定腔室704一般包括至少一个环境隔绝空腔,所述环境隔绝空腔具有限定于所述环境隔绝空腔中的一或多个基板储存沟槽。在部分实施方式中,可提供有多个环境隔绝空腔,各环境隔绝空腔具有一或多个限定于所述环境隔绝空腔中的基板储存沟槽。负载锁定腔室704在工厂接口702的外界或大气环境及转移腔室706中所维持的真空环境之间运作以转移基板716。
真空自动控制装置710置于转移腔室706中,以帮助基板716在负载锁定腔室704与处理腔室708之间转移。真空自动控制装置710可为任何一种适用于在真空条件下转移基板的自动控制装置。在图7所示的实施方式中,真空自动控制装置710是极坐标型(polar)或蛙脚式(frog-leg)自动控制装置,所述真空自动控制装置710一般包括安放一或多个马达(未示出)的自动控制装置基座760,用以控制端效器(end effector)762的位置。端效器762藉由连杆(linkage)764而耦接至基座760。此处所讨论的负载锁定腔室门体可用以自转移腔室710密封负载锁定腔室704,也可自工厂接口702密封负载锁定腔室704。
应知本发明虽以垂直走向的狭缝阀门加以说明,然而本发明也可等效应用于水平走向的狭缝阀门,所述水平走向的狭缝阀门处于密封位置时实质上与地面平行。
当腔室排空及/或通气时,使狭缝阀门的一部分与腔室一起移动可减少产生于狭缝阀门与腔室之间的颗粒量,因而可减少基板污染。
虽然前文与本发明的实施方式有关,然而亦可在不背离本发明的基本范畴下得出其它和进一步的实施方式;本发明的范畴由下述权利要求书决定。
Claims (4)
1.一种狭缝阀门,包含:
第一主体;
第二主体,耦接至所述第一主体于所述第一主体的边缘处,且所述第二主体与所述第一主体分隔,使得在所述第一主体与所述第二主体之间存在第一狭缝;
第一轴承板,耦接于所述第一主体与所述第二主体之间;
第一伸缩囊,耦接于所述第一主体与所述第二主体之间,且在所述第一狭缝上方;
第一夹钳,耦接至所述第一伸缩囊、所述第一主体与所述第二主体;
第三主体,耦接至所述第一主体于所述第一主体的边缘处,且所述第三主体与所述第一主体分隔,使得在所述第一主体与所述第三主体之间存在第二狭缝;
第二轴承板,耦接于所述第一主体与所述第三主体之间;
第二伸缩囊,耦接于所述第一主体与所述第三主体之间,且在所述第二狭缝上方;以及
第二夹钳,耦接至所述第二伸缩囊、所述第一主体与所述第三主体。
2.如权利要求1所述的狭缝阀门,更包含:
第三伸缩囊,耦接于所述第一主体与所述第二主体之间,且在第三狭缝上方,所述第三狭缝实质上垂直于所述第一狭缝并形成于所述狭缝阀门的上表面中;以及
第三夹钳,耦接至所述第三伸缩囊、所述第一主体与所述第二主体。
3.如权利要求2所述的狭缝阀门,更包含:
第四伸缩囊,耦接于所述第一主体与所述第三主体之间,且在第四狭缝上方,所述第四狭缝实质上垂直于所述第二狭缝并形成于所述狭缝阀门的下表面中;以及
第四夹钳,耦接至所述第四伸缩囊、所述第一主体与所述第三主体。
4.如权利要求3所述的狭缝阀门,其中所述第一轴承板与所述第二轴承板各包含一种选自由聚醚醚酮与聚四氟乙烯所构成的群组的材料,其中所述第一主体中具有开口,所述开口延伸至所述第一狭缝与所述第二狭缝,所述狭缝阀门更包含O形环,所述O形环耦接至所述第一主体、所述第二主体与所述第三主体。
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| WO2018039055A1 (en) * | 2016-08-22 | 2018-03-01 | Applied Materials, Inc. | Door seal for vacuum chamber |
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| GB2573110A (en) * | 2018-04-23 | 2019-10-30 | Emerson & Renwick Ltd | Load Lock |
| DE102019133555A1 (de) | 2019-12-09 | 2021-06-10 | Vat Holding Ag | Vakuumventil oder Vakuumtür |
| KR20250119108A (ko) | 2024-01-31 | 2025-08-07 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 도어 밸브 장치, 로드락 장치, 성막 장치, 성막 방법 및 전자 디바이스 제조방법 |
| KR20250119115A (ko) | 2024-01-31 | 2025-08-07 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 도어 밸브 장치, 로드락 장치, 성막 장치, 성막 방법 및 전자 디바이스 제조방법 |
| KR102682885B1 (ko) * | 2024-04-22 | 2024-07-09 | 주식회사 에이치앤이루자 | 로드락 챔버의 도어 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4381100A (en) * | 1981-01-02 | 1983-04-26 | Fairchild Industries, Inc. | Valve and valving apparatus |
| US5356113A (en) * | 1992-09-30 | 1994-10-18 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Isolation valve for single crystal pulling apparatus |
| CN1755175A (zh) * | 2004-06-14 | 2006-04-05 | 应用材料股份有限公司 | 曲状狭缝阀门 |
| CN1788175A (zh) * | 2003-05-13 | 2006-06-14 | 应用材料股份有限公司 | 密封-处理室-开口的方法与装置 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH582842A5 (zh) * | 1974-07-15 | 1976-12-15 | Vat Ag | |
| JPS60136671A (ja) * | 1983-12-26 | 1985-07-20 | Fuji Seikou Kk | ゲ−トバルブのシ−ル構造 |
| JPS61124778A (ja) * | 1984-11-21 | 1986-06-12 | Fuji Seiko Kk | 真空用バルブのシ−ル方法 |
| JPS63254275A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Irie Koken Kk | 高真空用無しゆう動ゲ−トバルブ |
| JPH05215275A (ja) * | 1992-02-03 | 1993-08-24 | Ebara Corp | 弁装置及び開閉装置における可動要素構造 |
| US6390448B1 (en) * | 2000-03-30 | 2002-05-21 | Lam Research Corporation | Single shaft dual cradle vacuum slot valve |
| JP3425938B2 (ja) * | 2000-12-14 | 2003-07-14 | 入江工研株式会社 | ゲート弁 |
| JP4280249B2 (ja) * | 2004-06-02 | 2009-06-17 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | チャンバをシールするための方法及び装置 |
| US8648977B2 (en) * | 2004-06-02 | 2014-02-11 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for providing a floating seal having an isolated sealing surface for chamber doors |
| US7497414B2 (en) * | 2004-06-14 | 2009-03-03 | Applied Materials, Inc. | Curved slit valve door with flexible coupling |
| US7802772B2 (en) * | 2005-12-20 | 2010-09-28 | Vat Holding Ag | Pendulum and slide gate vacuum valve |
| TWI388754B (zh) * | 2006-06-16 | 2013-03-11 | Vat Holding Ag | 真空閥 |
| US7822324B2 (en) * | 2006-08-14 | 2010-10-26 | Applied Materials, Inc. | Load lock chamber with heater in tube |
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4381100A (en) * | 1981-01-02 | 1983-04-26 | Fairchild Industries, Inc. | Valve and valving apparatus |
| US5356113A (en) * | 1992-09-30 | 1994-10-18 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Isolation valve for single crystal pulling apparatus |
| CN1788175A (zh) * | 2003-05-13 | 2006-06-14 | 应用材料股份有限公司 | 密封-处理室-开口的方法与装置 |
| CN1755175A (zh) * | 2004-06-14 | 2006-04-05 | 应用材料股份有限公司 | 曲状狭缝阀门 |
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