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CN101945564A - 导电性层积体的制造方法 - Google Patents

导电性层积体的制造方法 Download PDF

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CN101945564A
CN101945564A CN2010102934544A CN201010293454A CN101945564A CN 101945564 A CN101945564 A CN 101945564A CN 2010102934544 A CN2010102934544 A CN 2010102934544A CN 201010293454 A CN201010293454 A CN 201010293454A CN 101945564 A CN101945564 A CN 101945564A
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CN
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oxide
film
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argon gas
conductive
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Application number
CN2010102934544A
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森本保
宮澤英明
賦舩昌宏
神田幸一
中釜晋
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AGC Inc
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Asahi Glass Co Ltd
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Abstract

本发明提供一种导电性层积体的制造方法，所述的导电性层积体具有基体和形成于基体上的导电膜，在基体表面上通过以下工序形成导电膜：(A)使用氧化钛粉末和氧化锌粉末制造的靶材，通过溅射法形成氧化物层的工序，(B)使用银靶材或银合金靶材，通过溅射法形成金属层的工序，重复前述(A)、(B)的工序计2n次，n为1以上的整数，最后由(A)工序形成氧化物层，从而形成为自基体侧总计交错层积了(2n+1)层氧化物层和金属层的多层结构体的导电膜。

Description

导电性层积体的制造方法
本申请是国际申请号为PCT/JP2005/020042，国际申请日为2005年10月31日的PCT国际申请进入中国阶段后国家申请号为200580040719.7的标题为“导电性层积体、等离子显示器用的电磁波屏蔽膜及保护板”的中国专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及导电性层积体、为了保护等离子显示板(以下简称PDP)本体而设置于PDP的观察者侧的具有屏蔽由PDP产生的电磁噪声的电磁波屏蔽能力的等离子显示器用电磁波屏蔽膜及等离子显示器用保护板。
背景技术
具有透明性的导电性层积体被用作液晶显示元件等的透明电极、汽车挡风玻璃、热镜、电磁波屏蔽窗玻璃等。例如，专利文献1揭示了在透明基板上设有交错层积了由氧化锌形成的透明氧化物层和银层的总计(2n+1)层(n为1以上的整数)的涂层的导电性层积体。该导电性层积体被认为具有充分的导电性(电磁波屏蔽性)和可见光透射性。但是，为了使导电性层积体的导电性(电磁波屏蔽性)进一步提高而增加层积数n和银层的数量的情况下，存在可见光透射性下降的问题。
此外，导电性层积体也被用作等离子显示器用电磁波屏蔽膜。电磁波被从PDP的正面放出，因此为了屏蔽该电磁波，在PDP的观察者侧配置在塑料膜等基体上形成了导电膜的电磁波屏蔽膜。
例如，专利文献2中记载了具有交错层积了氧化物层和金属层的层积体作为导电膜的等离子显示器用保护板。
对于电磁波屏蔽膜，要求在整个可见光区域中透射率高且反射率低，即透射·反射带宽，还要求在近红外区域中屏蔽性高。为了使透射·反射带变宽，可以增加氧化物层和金属层的层积数即可。但是，如果增加层积数，则电磁波屏蔽膜中的内部应力增加，产生该膜卷曲或导电膜破裂而电阻值升高等问题。此外，如果增加层积数，则可见光透射性可能下降。因此，以往导电膜中的氧化物层和金属层的层积数存在极限，还未曾发现即使减少层积数透射·反射带也宽且导电性(电磁波屏蔽性)和可见光透射性良好的电磁波屏蔽膜。
专利文献1：日本专利特公平8-32436号公报
专利文献2：国际公开第98/13850号文本
发明的揭示
本发明的目的在于提供即使减少层积数透射·反射带也宽且导电性(电磁波屏蔽性)、可见光透射性和近红外线屏蔽性良好的导电性层积体、等离子显示器用电磁波屏蔽膜及等离子显示器用保护板。
本发明的导电性层积体的制造方法中，所述的导电性层积体具有基体和形成于基体上的导电膜，其特征在于，在基体表面上通过以下工序形成导电膜：
(A)使用氧化钛粉末和氧化锌粉末制造的靶材，通过溅射法形成氧化物层的工序，
(B)使用银靶材或银合金靶材，通过溅射法形成金属层的工序，
重复前述(A)、(B)的工序计2n次，n为1以上的整数，最后由(A)工序形成氧化物层，从而形成为总计交错层积了(2n+1)层氧化物层和金属层的多层结构体的导电膜。
优选前述(A)的工序中导入混合了氧气的氩气进行溅射。
优选前述(B)的工序中导入氩气进行溅射。
优选前述氧化物层中，钛相对于钛和锌的总和的比例是1～50原子％。
优选前述氧化物层含有90质量％以上的氧化钛和氧化锌。
优选还包括在最后形成的氧化物层上进一步形成保护膜的工序。
本发明的导电性层积体即使减少层积数，透射·反射带也宽，而且导电性(电磁波屏蔽性)、可见光透射性和近红外线屏蔽性良好。
本发明的等离子显示器用电磁波屏蔽膜即使减少层积数，透射·反射带也宽，而且导电性(电磁波屏蔽性)、可见光透射性和近红外线屏蔽性良好。
本发明的等离子显示器用保护板的电磁波屏蔽能力良好，透射·反射带宽，可见光透射率高，近红外线屏蔽性良好。
附图的简单说明
图1为表示本发明的导电性层积体的一种实施方式的截面图。
图2为表示本发明的导电性层积体的另一种实施方式的截面图。
图3为表示本发明的保护板的第1实施方式的截面图。
图4为表示本发明的保护板的第2实施方式的截面图。
图5为表示本发明的保护板的第3实施方式的截面图。
图6为表示实施例1、2和比较例1、2的保护板的反射图谱的图。
图7为表示实施例1、2和比较例1、2的保护板的透射图谱的图。
符号的说明
1、2、3：保护板，10：导电性层积体，11：基体，12：导电膜，12a：氧化物层，12b：金属层，12c：阻挡层，12d：保护膜，20：支承基体，30：着色陶瓷层，40：防飞散膜，70：粘接剂层，50：电极，80：导电网格膜，90：电极。
实施发明的最佳方式
“导电性层积体”
对本发明的导电性层积体的一种实施方式(以下称为实施方式)进行说明。
图1中表示本实施方式的导电性层积体10。该导电性层积体10具有基体11和导电膜12。
<基体>
作为基体11的材料，可以例举玻璃板(包括风冷强化玻璃、化学强化玻璃等强化玻璃)和聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、三乙酰基纤维素(TAC)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等透明塑料材料等。
<导电膜>
导电膜12为自基体11侧总计交错层积了(2n+1)层[n为1以上的整数]氧化物层12a和金属层12b的多层结构体。
导电膜12中，金属层较好是设有2～8层，更好是设有2～6层。如果金属层在2层以上，可以充分降低电阻值，如果在8层以下，可以进一步抑制导电性层积体10的内部应力增加。
导电膜12中，为了充分确保电磁波屏蔽能力，电阻值较好是0.4～3.5Ω，更好是0.5～2.5Ω，特别好是0.5～1.5Ω。
[氧化物层]
导电膜12中的氧化物层12a为含有折射率在2.3以上的高折射率金属氧化物和氧化锌作为主要成分的层。氧化物层12a较好是总计含有90质量％以上的折射率在2.3以上的高折射率金属氧化物和氧化锌，更好是含有95质量％以上，特别好是含有99质量％以上。
折射率在2.3以上的高折射率金属氧化物中，因为可以使反射带进一步变宽，较好是氧化钛(折射率2.5)和/或氧化铌(折射率2.4)。本发明中，“折射率”是指波长550nm处的折射率。
通过高折射率金属氧化物的存在，可以提高氧化物层12a的折射率，可以使导电膜12的透射·反射带变宽。氧化物层12a中，高折射率金属氧化物的金属相对于该金属和锌的总和的比例较好是1～50原子％，特别好是5～20原子％。通过使其在该范围内，不仅可以保持透射·反射带较宽，而且可以获得耐湿性良好的导电膜。其理由并不清楚，但认为通过使其在该范围内，可以在保持氧化锌的良好的物性状态下，缓解氧化物层12a和金属层12b的应力。
氧化物层12a可以在不损害物性的范围内含有除氧化锌、氧化钛和氧化铌以外的金属氧化物。例如，为了赋予导电性，可以混合氧化镓、氧化铟、氧化铝、氧化镁、氧化锡等。
氧化物层12a的几何学膜厚(以下简称膜厚)理想的是，最接近基体的氧化物层和离基体最远的氧化物层为20～60nm(特别好是30～50nm)，除此以外的氧化物层为40～120nm(特别好是40～100nm)。
[金属层]
金属层12b为含有银或银合金作为主要成分的层。通过由银或银合金形成金属层12b，可以降低导电膜12的电阻值。
从降低导电膜12的电阻值的角度来看，金属层12b较好是由纯银形成的层。本发明中的“纯银”是指金属层12b(100质量％)中含有99.9质量％以上的银。
从抑制银的扩散而提高耐湿性的角度来看，金属层12b较好是由含有金和/或铋的银合金形成的层。为了使电阻率在4.5μΩcm以下，金和铋的总和在金属层12b(100质量％)中较好是0.2～1.5质量％。
金属层12b的总膜厚在例如将得到的导电性层积体10的电阻值的目标设为1.5Ω的情况下较好是25～60nm(特别好是25～50nm)，在将电阻值的目标设为0.9Ω的情况下较好是35～80nm(特别好是35～70nm)。各金属层的膜厚由前述总膜厚按金属层数适当分配得到。另外，如果金属层的数量增加，各金属层的电阻率上升，所以为了降低电阻，存在总膜厚增加的倾向。
[导电膜的形成方法]
向基体11上的导电膜12(氧化物层12a、金属层12b)的形成方法没有限定，可以使用例如溅射法、真空蒸镀法、离子镀法、化学气相沉积法等。其中，因为品质、特性的稳定性良好，较好是溅射法。作为溅射法，可以例举脉冲溅射法、AC溅射法等。
采用溅射法的导电膜12的形成例如可以如下进行。首先，使用由氧化锌和高折射率金属氧化物构成的靶材(以下称为ZnO混合靶材)，导入混合了氧气的氩气，进行脉冲溅射，在基体11表面形成氧化物层12a。
接着，使用银靶材或银合金的靶材，导入氩气，进行脉冲溅射，形成金属层12b。通过重复该操作，最后以与前述同样的方法形成氧化物层12a，从而形成多层结构体的导电膜12。
ZnO混合靶材可以通过混合各成分的高纯度(通常99.9％)粉末，使用热压法或HIP(热等静压)法进行烧结来制造。采用热压法的情况下，具体通过将含有高折射率金属氧化物的氧化锌粉末在真空或惰性气体气氛中于最高温度1000～1200℃的温度下进行热压来制造。该ZnO混合靶材较好是气孔率在5.0％以下，电阻率不到1Ωcm。
[保护膜]
本实施方式的导电膜12中，最上层的氧化物层12a上设有保护膜12d。保护膜12d保护氧化物层12a和金属层12b不受水分侵害，可以保护氧化物层12a不受在表面的氧化物层12a上粘接任意的树脂膜(防湿膜、防飞散膜、防反射膜、近红外线屏蔽用等的保护膜、近红外线吸收膜等功能性膜等)时的粘接剂(特别是碱性粘接剂)侵害。另外，该保护膜12d在本发明中是任选的构成要素，可以略去。
作为保护膜12d，具体可以例举Sn、In、Ti、Si等金属的氧化物膜和氮化物膜等，特别好是铟-锡氧化物(ITO)膜。
保护膜12d的膜厚较好是2～30nm，更好是3～20nm。
[阻挡层]
如图2所示，导电膜12中，氧化物层12a和金属层12b交错层积，在氧化物层12a和金属层12b间设有阻挡层12c。如果在金属层12b上设置阻挡层12c，如上所述，在氧气氛下形成氧化物层12a的情况下，可以防止金属层12b的氧化。作为阻挡层12c，可以例举能够在不存在氧的条件下形成的层，作为材质，可以使用例如掺铝氧化锌、掺锡氧化铟等。
本发明的导电性层积体的可见光透射率较好是在55％以上，更好是在60％以上。此外，本发明的导电性层积体的波长850nm处的透射率较好是在5％以下，特别好是在2％以下。
[用途]
本发明的导电性层积体的导电性(电磁波屏蔽性)、可见光透射性和近红外线屏蔽性良好，而且层积于玻璃等支承基体的情况下，透射·反射带变宽，所以可用作等离子显示器用电磁波屏蔽膜。
此外，本发明的导电性层积体可以用作液晶显示元件等的透明电极。该透明电极由于表面电阻低，因此应答性好，反射率被抑制到玻璃的水平，因此辨识性好。
此外，本发明的导电性层积体可以用作汽车挡风玻璃。该汽车挡风玻璃通过给导电膜通电，可以发挥防雾或融冰的功能，而且电阻低，所以通电所需的电压低，反射率被抑制到玻璃的水平，因此不会损害驾驶者的辨识性。
此外，本发明的导电性层积体的红外线区域内的反射率非常高，因此可以用作设置于建筑物的窗等的热镜。
此外，本发明的导电性层积体的电磁波屏蔽效果好，因此可以用作防止从电气·电子设备放射的电磁波漏到室外且防止影响电气·电子设备的电磁波从室外侵入到室内的电磁波屏蔽窗玻璃。
“等离子显示器用保护板”
以下，对将本发明的导电性层积体用作等离子显示器用保护板(以下称为保护板)的电磁波屏蔽膜的例子进行说明。
(第1实施方式)
图3中表示第1实施方式的保护板。该保护板1具有支承基体20、设于支承基体20上的上述导电性层积体10、设于支承基体20中的导电性层积体10侧的面的周缘部的着色陶瓷层30、粘合于支承基体20中的与导电性层积体10侧相反侧的面的防飞散膜40、以导电性层积体10的导电膜12的周缘部电连接的电极50和设于导电性层积体10上的保护膜60。
在导电性层积体10和支承基体20之间、导电性层积体10和保护膜60之间、支承基体20和防飞散膜40之间设有粘接剂层70。
此外，该保护板1中，导电性层积体10设于支承基体20的PDP侧。
<支承基体>
保护板1中的支承基体20为刚性比导电性层积体10的基体11高的透明基体。通过设置支承基体20，导电性层积体10的基体11的材料即使是PET等塑料，也不会因与PDP侧的表面相反侧产生的温度差而发生翘曲。
作为支承基体20的材料，可以例举与上述的导电性层积体10的基体11的材料同样的材料等。
<着色陶瓷层>
着色陶瓷层30为用于隐蔽电极50而使其无法直接从观察者侧看到的层。着色陶瓷层30可以通过例如印刷于支承基体20上或粘贴着色带来形成。
<防飞散膜>
防飞散膜40为用于防止支承基体20损伤时的支承基体20碎片的飞散的层。作为防飞散膜40，没有特别限定，可以使用一般用于保护板的材料。
防飞散膜40可以具有防反射功能。已知各种兼具防飞散功能和防反射功能的膜，只要是该种膜，可以任意使用。例如，可以例举旭硝子公司制的ARCTOP(商品名)。ARCTOP(商品名)为在具有自我修复性和防飞散特性的聚氨酯类软质树脂膜的一面形成由非结晶性的含氟聚合物构成的低折射率的防反射层而实施防反射处理的膜。此外，还可以例举在由PET等塑料形成的膜上以湿法或干法形成了低折射率的防反射层的膜等。
<电极>
电极50与导电膜12电连接地设置，使导电性层积体10的导电膜12的电磁波屏蔽效果得到发挥。
为了确保导电膜12的电磁波屏蔽效果，电极50较好是设于导电膜12的整个周缘部。
作为电极50的材质，从电磁波屏蔽能力的角度来看，优选电阻低的材质。例如，优选使用涂布银(Ag)糊料(含有Ag和玻璃料的糊料)或铜(Cu)糊料(含有Cu和玻璃料的糊料)并烧结得到的材质。
<保护膜>
保护膜60为保护导电性层积体10的导电膜12的膜。具体来说，在保护导电膜12不受水分侵害的情况下，设置防湿膜。作为防湿膜，没有特别限定，可以使用一般用于保护板的膜，可以例举例如PET、聚偏氯乙烯等塑料制的膜等。
此外，作为保护膜60，可以使用上述的防飞散膜。
<粘接剂层>
作为粘接剂层70的粘接剂，可以使用市售的粘接剂。作为优选的具体例子，可以例举丙烯酸酯共聚物、聚氯乙烯、环氧树脂、聚氨酯、乙酸乙烯酯共聚物、苯乙烯-丙烯酸共聚物、聚酯、聚酰胺、聚烯烃、苯乙烯-丁二烯共聚物类橡胶、丁基橡胶、有机硅树脂等粘接剂。因为可以获得良好的耐湿性，特别好是丙烯酸类粘接剂。
此外，该粘接剂层70中可以掺入紫外线吸收剂等具有各种功能的添加剂。
(第2实施方式)
图4中表示第2实施方式的保护板。该保护板2具有支承基体20、设于支承基体20的一面的导电性层积体10、设于导电性层积体10上的防飞散膜40、以周缘部电连接于导电性层积体10的导电膜12的电极50、设于支承基体20中的与导电性层积体10侧相反侧的面的周缘部的着色陶瓷层30。此外，防飞散膜40设于电极50的内侧。
另外，本实施方式中，对于与第1实施方式相同的结构，标注与图3同样的符号，略去说明。
该第2实施方式的保护板2中，导电性层积体10设于支承基体20的观察者侧。
(第3实施方式)
图5中表示第3实施方式的保护板。该保护板3具有支承基体20、通过粘接剂层70粘合于支承基体20表面的导电性层积体10、通过粘接剂层70粘合于导电性层积体10表面上的防飞散膜40、设于与导电性层积体10相反侧的支承基体20表面的周缘部的着色陶瓷层30、以导电网格膜80的周缘部与着色陶瓷层30重叠的状态通过粘接剂层70粘合于支承基体20表面的导电网格膜80、以电连接导电性层积体10的导电膜12和导电网格膜80的导电性网眼层(图示略)的状态设于保护板3的周边部的电极90。保护板3为导电性层积体10设于支承基体20的观察者侧，导电网格膜80设于支承基体20的PDP侧的例子。
另外，第3实施方式中，对于与第1实施方式相同的结构，标注与图3同样的符号，略去说明。
导电网格膜80为在透明膜上形成由铜构成的导电性网眼层而得的膜。通常通过在透明膜上粘合铜箔后，加工成网眼状来制造。
铜箔可以是压延铜、电解铜中任一种，根据需要适当使用公知的材料即可。铜箔可以进行各种表面处理。作为表面处理，可以例举铬酸盐处理、粗化处理、酸洗、铬酸锌处理等。铜箔的厚度较好是3～30μm，更好是5～30μm，特别好是7～10μm。通过使铜箔的厚度在30μm以下，可以缩短蚀刻时间，通过使其在3μm以上，电磁波屏蔽性升高。
导电性网眼层的开口率较好是在60～95％，更好是65～90％，特别好是70～85％。
导电性网眼层的开口部的形状为正三角形、正四边形、正六边形、圆形、长方形、菱形等。开口部较好是形状一致且排列于面内。
开口部的尺寸较好是1边或直径为5～200μm，更好是10～150μm。通过使开口部的1边或直径在200μm以下，电磁波屏蔽性提高，通过使其在5μm以上，对PDP图像的影响少。
除开口部以外的金属部的宽度较好是5～50μm。即，开口部的排列间距较好是10～250μm。通过使金属部的宽度在5μm以上，加工变得容易，通过使其在50μm以下，对PDP图像的影响少。
如果导电性网眼层的面电阻过低，则膜变厚，变得无法充分确保开口部，对保护板3的光学性能等产生不良影响。另一方面，如果导电性网眼层的面电阻过高，则变得无法得到足够的电磁波屏蔽性。因此，导电性网眼层的面电阻较好是0.01～10Ω/□，更好是0.01～2Ω/□，特别好是0.05～1Ω/□。
导电性网眼层的面电阻使用比开口部的1边或直径大5倍以上的电极以开口部的排列间隔的5倍以上的电极间隔通过4端子法测定即可。例如，开口部为1边100μm的正方形，隔着20μm的金属部的宽度规则地排列的情况下，将直径1mm的电极以1mm间隔排列测定即可。或者，可以将导电网格膜加工成长方形，将电极设于其长边方向的两端，测定其电阻R，由长边方向的长度a、短边方向的长度b根据下述求得。
面电阻＝R×b/a
将铜箔层叠于透明膜上时，使用透明的粘接剂。作为粘接剂，可以例举丙烯酸类粘接剂、环氧类粘接剂、聚氨酯类粘接剂、有机硅类粘接剂、聚酯类粘接剂等。作为粘接剂的类型，较好是2液型或热固化型。此外，作为粘接剂，较好是耐药品性良好的粘接剂。
作为将铜箔加工成网眼状的方法，可以例举光刻法。印刷法中，通过丝网印刷进行开口部的图形形成。光刻法中，通过辊涂法、旋涂法、整面印刷法、转印法等将光致抗蚀材料形成于铜箔上，通过曝光、显影、蚀刻形成开口部的图形。作为形成导电性网眼层的其它方法，可以例举通过丝网印刷等印刷法形成开口部的图形的方法。
电极90电连接导电性层积体10的导电膜12和导电网格膜80的导电性网眼层。作为电极90，可以例举导电性带等。通过电连接导电性层积体10的导电膜12和导电网格膜80的导电性网眼层，可以进一步降低整体的面电阻值，因此可以使电磁波屏蔽效果进一步提高。
保护板1～3设置于PDP的正面，较好是可见光透射率在40％以上，使PDP的图像易于观看。此外，可见光反射率较好是不到6％，特别好是不到3％。此外，波长850nm处的透射率较好是在5％以下，特别好是在2％以下。
以上说明的第1实施方式～第3实施方式的保护板1～3具有支承基体20、设于支承基体20上的导电性层积体10、与导电性层积体10的导电膜12的电极50或电极90。另外，如上所述，导电性层积体10的导电膜12为自基体11侧总计交错层积了(2n+1)层[n为1以上的整数]氧化物层12a和金属层12b的多层结构体，氧化物层12a含有折射率在2.3以上的高折射率金属氧化物和氧化锌作为主要成分，金属层12b含有银或银合金作为主要成分。这样的导电性层积体10中，由于导电膜12的氧化物层12a含有高折射率金属氧化物，所以可以使透射·反射带变宽。因此，即使不增加层积数，也可以得到透射·反射带宽的保护板。另外，通过不增加层积数，可以提高可见光透射性。而且，由于氧化物层12a所含的氧化锌具有结晶性，因此形成于氧化物层12a上的金属层12b中的金属也容易结晶化，不易发生迁移。其结果，保护板的导电性高，电磁波屏蔽能力强。
另外，本发明的保护板并不局限于上述的实施方式。例如，上述的实施方式中，设置粘接剂层70来层积膜，但也可以不使用粘合剂或粘接剂，进行采用加热的粘合。
此外，本发明的保护板中，根据需要可以具有防反射膜或作为低折射率薄膜的防反射层。作为防反射膜，没有特别限定，可以使用一般用于保护板的膜。特别是如果使用含氟树脂类的膜，防反射性更好。
因为得到的保护板的反射率变低，得到理想的反射色，所以对于该防反射层本身，可见光区域内的反射率达到最低的波长较好是500～600nm，特别好是530～590nm。
此外，可以使保护板具有近红外线屏蔽功能。作为使其具有近红外线屏蔽功能的方法，可以例举使用近红外线屏蔽膜的方法、使用近红外线吸收基体的方法、在膜层积时使用添加了近红外线吸收剂的粘接剂的方法、在防反射树脂膜等中添加近红外线吸收剂而使其同时具有近红外线吸收功能的方法、使用具有近红外线反射功能的导电膜的方法等。
实施例
(实施例1)
将高纯度的氧化锌粉末和氧化钛粉末以氧化锌∶氧化钛＝80∶20(质量比)的条件用球磨机进行混合，调制混合粉末。将该混合粉末填充于碳制的热压用模具，以在氩气气氛中于1100℃保持1小时的条件实施热压，得到氧化锌和氧化钛混合靶材。热压的压力为100kg/cm2。
如下制成图2所示的导电性层积体。
首先，如下进行用于清洗作为基体11的厚100μm的PET膜表面的采用离子束的干法清洗。先在氩气中混合约30％的氧，施加100W的电力。将通过离子束源离子化得到的氩离子和氧离子照射于基体表面。
接着，使用氧化锌和氧化钛混合靶材[氧化锌∶氧化钛＝80∶20(质量比)]，在氩气中混合10体积％的氧气后导入，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度4.5W/cm2、反转脉冲宽度2微秒的脉冲溅射，在实施了干法清洗处理的基体表面形成厚35nm的氧化物层12a。通过卢瑟福背散射法进行了测定，结果在该氧化物层12a中，锌和钛的总和(100原子％)中，锌为80原子％，钛为20原子％。此外，氧化物层12a中，所有原子总和(100原子％)中，锌为34.3原子％，钛为8.0原子％，氧为57.7原子％。若将其换算为ZnO和TiO2，则氧化物的总和为96.7质量％。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度2.3W/cm2、反转脉冲宽度10微秒的脉冲溅射，形成厚10nm的金属层12b。
接着，使用掺入了5质量％氧化铝的氧化锌靶材，导入氩气，以0.45Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度2.7W/cm2、反转脉冲宽度2微秒的脉冲溅射，形成厚5nm的氧化锌膜(阻挡层12c)。
接着，使用氧化锌和氧化钛混合靶材[氧化锌∶氧化钛＝80∶20(质量比)]，在氩气中混合10体积％的氧气后导入，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度4.5W/cm2、反转脉冲宽度2微秒的脉冲溅射，形成厚65nm的氧化锌·氧化钛混合膜。以这样得到的氧化锌膜和氧化锌·氧化钛混合膜形成氧化物层12a。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度2.3W/cm2、反转脉冲宽度10微秒的脉冲溅射，形成厚14nm的金属层12b。
接着，使用掺入了5质量％氧化铝的氧化锌靶材，导入氩气，以0.45Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度2.7W/cm2、反转脉冲宽度2微秒的脉冲溅射，形成厚5nm的氧化锌膜(阻挡层12c)。
接着，使用氧化锌和氧化钛混合靶材[氧化锌∶氧化钛＝80∶20(质量比)]，在氩气中混合10体积％的氧气后导入，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度4.5W/cm2、反转脉冲宽度2微秒的脉冲溅射，形成厚65nm的氧化锌·氧化钛混合膜。以这样得到的氧化锌膜和氧化锌·氧化钛混合膜形成氧化物层12a。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度2.3W/cm2、反转脉冲宽度10微秒的脉冲溅射，形成厚14nm的金属层12b。
接着，使用掺入了5质量％氧化铝的氧化锌靶材，导入氩气，以0.45Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度2.7W/cm2、反转脉冲宽度2微秒的脉冲溅射，形成厚5nm的氧化锌膜(阻挡层12c)。
接着，使用氧化锌和氧化钛混合靶材[氧化锌∶氧化钛＝80∶20(质量比)]，在氩气中混合10体积％的氧气后导入，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度4.5W/cm2、反转脉冲宽度2微秒的脉冲溅射，形成厚65nm的氧化锌·氧化钛混合膜。以这样得到的氧化锌膜和氧化锌·氧化钛混合膜形成氧化物层12a。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度2.3W/cm2、反转脉冲宽度10微秒的脉冲溅射，形成厚10nm的金属层12b。
接着，使用掺入了5质量％氧化铝的氧化锌靶材，导入氩气，以0.45Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度2.7W/cm2、反转脉冲宽度2微秒的脉冲溅射，形成厚5nm的氧化锌膜(阻挡层12c)12c。
接着，使用氧化锌和氧化钛混合靶材[氧化锌∶氧化钛＝80∶20(质量比)]，在氩气中混合10体积％的氧气后导入，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度4.5W/cm2、反转脉冲宽度2微秒的脉冲溅射，形成厚30nm的氧化锌·氧化钛混合膜。以这样得到的氧化锌膜和氧化锌·氧化钛混合膜形成氧化物层12a。
接着，使用ITO靶材[铟∶锡＝90∶10(质量比)]，在氩气中混合5体积％的氧气后导入，以0.35Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度1.3W/cm2、反转脉冲宽度1微秒的脉冲溅射，在最上层的氧化物层12a上形成作为保护膜12d的厚5nm的ITO膜。
由此，得到在基体11上交错层积了含有氧化钛和氧化锌作为主要成分的氧化物层12a与由金-银合金形成的金属层12b的导电性层积体10，氧化物层12a有5层，金属层12b有4层。
对于实施例1的导电性层积体，通过东京电色公司制色彩分析仪TC1800测得的可见光透射率(JIS Z 8701中规定的刺激值Y)为71.40％，可见光反射率为6.50％。此外，波长850nm处的透射率为0.96％。
此外，通过Nagy公司制涡流型电阻测定器SRM12测得的薄层电阻(表面电阻)为0.942Ω。结果示于表1。
然后，在该导电性层积体10的基体11侧表面设置粘接剂层。
使用该导电性层积体10如下制成图3所示的保护板1。
将作为支承基体20的玻璃板切割、倒角成规定的大小，清洗后，将着色陶瓷层用的油墨丝网印刷于玻璃板周缘，充分干燥，形成着色陶瓷层30。接着，作为玻璃强化处理，将该玻璃板加热至660℃，然后风冷，实施玻璃强化处理。
在该玻璃板的着色陶瓷层30侧通过粘接剂层70粘附上述导电性层积体10。接着，为了保护导电性层积体10，在导电性层积体10上通过粘接剂层70粘合保护膜60(旭硝子公司制，商品名：ARCTOP CP21)。但是，为了形成电极，周缘部留有未粘合保护膜的部分(电极形成部)。
接着，在电极形成部以尼龙筛网#180、乳剂厚度20μm的条件丝网印刷银糊料(太阳インキ制造公司制，AF4810)，在热风循环炉中于85℃干燥35分钟，形成电极50。
接着，在玻璃板的背面(粘合了导电性层积体10的一侧的相反侧的面)通过粘合剂层70粘合作为防飞散膜40的聚氨酯类软质树脂膜(旭硝子公司制，商品名：ARCTOP URP2199)。该聚氨酯类软质树脂膜也具有防反射功能。另外，通常在该聚氨酯类软质树脂膜中添加着色剂，进行色调校正、橘黄调色(Neカツト)，实现色彩再现性的提高，本实施例中不评价色调校正、橘黄调色，因此未着色。
对于实施例1的保护板，通过东京电色公司制色彩分析仪TC1800测得的可见光透射率(JIS Z 8701中规定的刺激值Y)为71.5％，可见光反射率为1.92％。此外，波长850nm处的透射率为0.76％。结果示于表2。该保护板的反射图谱示于图6，透射图谱示于图7。
(实施例2)
除了氧化锌和氧化钛混合靶材都使用氧化锌∶氧化钛＝50∶50(质量比)的靶材之外，与实施例1同样地操作，制成导电性层积体和保护板。实施例2的氧化物层12a中，锌和钛的总和(100原子％)中，锌为50原子％，钛为50原子％。此外，氧化物层12a中，所有原子总和(100原子％)中，锌为23.6原子％，钛为16.7原子％，氧为59.7原子％。若将其换算为ZnO和TiO2，则氧化物的总和为97.7质量％。
对于实施例2的导电性层积体，通过东京电色公司制色彩分析仪TC1800测得的可见光透射率(JIS Z 8701中规定的刺激值Y)为62.94％，可见光反射率为4.96％。此外，波长850nm处的透射率为0.69％。
此外，通过Nagy公司制涡流型电阻测定器SRM12测得的薄层电阻(表面电阻)为0.965Ω。结果示于表1。
对于实施例2的保护板，通过东京电色公司制色彩分析仪TC1800测得的可见光透射率(JIS Z 8701中规定的刺激值Y)为62.6％，可见光反射率为1.92％。此外，波长850nm处的透射率为0.51％。结果示于表2。该保护板的反射图谱示于图6，透射图谱示于图7。
(比较例1)
除了如下制成导电性层积体之外，与实施例1同样地操作，制成导电性层积体和保护板。
首先，如下进行用于清洗作为基体11的厚100μm的PET膜表面的采用离子束的干法清洗。先在氩气中混合约30％的氧，施加100W的电力，将通过离子束源离子化得到的氩离子和氧离子照射于基体表面。
接着，使用掺入了5质量％氧化铝的氧化锌靶材，在氩气中混合3体积％的氧气后导入，以0.35Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度5.8W/cm2、反转脉冲宽度1微秒的脉冲溅射，在实施了干法清洗处理的基体表面形成厚40nm的氧化物层a。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.5Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度0.6W/cm2、反转脉冲宽度5微秒的脉冲溅射，形成厚9nm的金属层。
接着，使用掺入了5质量％氧化铝的氧化锌靶材，在氩气中混合3体积％的氧气后导入，以0.35Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度5.8W/cm2、反转脉冲宽度1微秒的脉冲溅射，形成厚80nm的氧化物层。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.5Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度0.9W/cm2、反转脉冲宽度5微秒的脉冲溅射，形成厚11nm的金属层。
接着，使用掺入了5质量％氧化铝的氧化锌靶材，在氩气中混合3体积％的氧气后导入，以0.35Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度5.8W/cm2、反转脉冲宽度1微秒的脉冲溅射，形成厚80nm的氧化物层。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.5Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度1.0W/cm2、反转脉冲宽度5微秒的脉冲溅射，形成厚13nm的金属层。
接着，使用掺入了5质量％氧化铝的氧化锌靶材，在氩气中混合3体积％的氧气后导入，以0.35Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度5.8W/cm2、反转脉冲宽度1微秒的脉冲溅射，形成厚80nm的氧化物层。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.5Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度1.0W/cm2、反转脉冲宽度5微秒的脉冲溅射，形成厚13nm的金属层。
接着，使用掺入了5质量％氧化铝的氧化锌靶材，在氩气中混合3体积％的氧气后导入，以0.35Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度5.8W/cm2、反转脉冲宽度1微秒的脉冲溅射，形成厚80nm的氧化物层。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.5Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度0.9W/cm2、反转脉冲宽度5微秒的脉冲溅射，形成厚11nm的金属层。
接着，使用掺入了5质量％氧化铝的氧化锌靶材，在氩气中混合3体积％的氧气后导入，以0.35Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度5.8W/cm2、反转脉冲宽度1微秒的脉冲溅射，形成厚80nm的氧化物层。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.5Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度0.6W/cm2、反转脉冲宽度5微秒的脉冲溅射，形成厚9nm的金属层。
接着，使用掺入了5质量％氧化铝的氧化锌靶材，在氩气中混合3体积％的氧气后导入，以0.35Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度5.2W/cm2、反转脉冲宽度1微秒的脉冲溅射，形成厚35nm的氧化物层。
接着，使用ITO靶材[铟∶锡＝90∶10(质量比)]，在氩气中混合5体积％的氧气后导入，以0.35Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度0.5W/cm2、反转脉冲宽度1微秒的脉冲溅射，在最上层的氧化物层上形成作为保护膜的厚5nm的ITO膜。
由此，得到在基体上交错层积了由AZO形成的氧化物层与由金-银合金形成的金属层的导电性层积体，氧化物层有7层，金属层有6层。
对于比较例1的导电性层积体，通过东京电色公司制色彩分析仪TC1800测得的可见光透射率(JIS Z 8701中规定的刺激值Y)为59.75％，可见光反射率为5.79％。此外，波长850nm处的透射率为0.5％。
此外，通过Nagy公司制涡流型电阻测定器SRM12测得的薄层电阻(表面电阻)为0.957Ω。结果示于表1。
对于比较例1的保护板，通过东京电色公司制色彩分析仪TC1800测得的可见光透射率(JIS Z 8701中规定的刺激值Y)为60.3％，可见光反射率为1.98％。此外，波长850nm处的透射率为0.28％。结果示于表2。反射图谱示于图6，透射图谱示于图7。
(比较例2)
除了如下制成导电性层积体之外，与实施例1同样地操作，制成导电性层积体和保护板。
首先，如下进行用于清洗作为基体的PET膜表面的采用离子束的干法清洗。先在氩气中混合约30％的氧，施加100W的电力。将通过离子束源离子化得到的氩离子和氧离子照射于基体表面。
接着，使用掺入了5质量％氧化铝的氧化锌靶材，在氩气中混合3体积％的氧气后导入，以0.35Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度5.7W/cm2、反转脉冲宽度1微秒的脉冲溅射，在实施了干法清洗处理的基体表面形成厚40nm的氧化物层。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.5Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度0.6W/cm2、反转脉冲宽度5微秒的脉冲溅射，形成厚13nm的金属层。
接着，使用掺入了5质量％氧化铝的氧化锌靶材，在氩气中混合3体积％的氧气后导入，以0.35Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度4.7W/cm2、反转脉冲宽度1微秒的脉冲溅射，形成厚80nm的氧化物层。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.5Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度0.9W/cm2、反转脉冲宽度5微秒的脉冲溅射，形成厚16nm的金属层。
接着，使用掺入了5质量％氧化铝的氧化锌靶材，在氩气中混合3体积％的氧气后导入，以0.35Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度4.7W/cm2、反转脉冲宽度1微秒的脉冲溅射，形成厚80nm的氧化物层。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.5Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度1.0W/cm2、反转脉冲宽度5微秒的脉冲溅射，形成厚16nm的金属层。
接着，使用掺入了5质量％氧化铝的氧化锌靶材，在氩气中混合3体积％的氧气后导入，以0.35Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度4.7W/cm2、反转脉冲宽度1微秒的脉冲溅射，形成厚80nm的氧化物层。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.5Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度0.6W/cm2、反转脉冲宽度5微秒的脉冲溅射，形成厚13nm的金属层。
接着，使用掺入了5质量％氧化铝的氧化锌靶材，在氩气中混合3体积％的氧气后导入，以0.35Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度5.2W/cm2、反转脉冲宽度1微秒的脉冲溅射，形成厚35nm的氧化物层。
接着，使用ITO靶材[铟∶锡＝90∶10(质量比)]，在氩气中混合3体积％的氧气后导入，以0.35Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度1.0W/cm2、反转脉冲宽度1微秒的脉冲溅射，在最上层的氧化物层上形成作为保护膜的厚5nm的ITO膜。
由此，得到在基体上交错层积了由AZO形成的氧化物层与由金-银合金形成的金属层的导电性层积体，氧化物层有5层，金属层有4层。
对于比较例2的导电性层积体，通过东京电色公司制色彩分析仪TC1800测得的可见光透射率(JIS Z 8701中规定的刺激值Y)为60.9％，可见光反射率为6.85％。此外，波长850nm处的透射率为0.40％。
此外，通过Nagy公司制涡流型电阻测定器SRM12测得的薄层电阻(表面电阻)为0.981Ω。结果示于表1。
对于比较例2的保护板，通过东京电色公司制色彩分析仪TC1800测得的可见光透射率(JIS Z 8701中规定的刺激值Y)为61.8％，可见光反射率为4.22％。此外，波长850nm处的透射率为0.27％。结果示于表2。该保护板的反射图谱示于图6，透射图谱示于图7。
氧化物层含有氧化锌和氧化钛作为主要成分、金属层含有银合金作为主要成分的实施例1的保护板虽然金属层的数量为4层，但透射·反射带宽，而且导电性和可见光透射性良好。
与之相对，氧化物层含有AZO作为主要成分、金属层的数量为6层的比较例1的保护板的可见光透射率低。
氧化物层含有AZO作为主要成分、金属层的数量为4层的比较例2的保护板的透射·反射带窄。
(实施例3)
如下制成图1所示的导电性层积体。
首先，如下进行用于清洗作为基体11的厚100μm的PET膜表面的采用离子束的干法清洗。先在氩气中混合约30％的氧，施加100W的电力。将通过离子束源离子化得到的氩离子和氧离子照射于基体表面。
接着，使用氧化锌和氧化钛混合靶材[氧化锌∶氧化钛＝85∶15(质量比)]，在氩气中混合15体积％的氧气后导入，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度4.5W/cm2、反转脉冲宽度2微秒的脉冲溅射，在实施了干法清洗处理的基体表面形成厚40nm的氧化物层12a。通过卢瑟福背散射法进行了测定，结果在该氧化物层12a中，锌和钛的总和(100原子％)中，锌为85原子％，钛为15原子％。此外，氧化物层12a中，所有原子总和(100原子％)中，锌为37.0原子％，钛为6.2原子％，氧为56.8原子％。若将其换算为ZnO和TiO2，则氧化物的总和为96.7质量％。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度2.3W/cm2、反转脉冲宽度10微秒的脉冲溅射，形成厚10nm的金属层12b。
接着，使用氧化锌和氧化钛混合靶材[氧化锌∶氧化钛＝85∶15(质量比)]，在氩气中混合15体积％的氧气后导入，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度4.5W/cm2、反转脉冲宽度2微秒的脉冲溅射，形成厚80nm的氧化物层12a。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度2.3W/cm2、反转脉冲宽度10微秒的脉冲溅射，形成厚14nm的金属层12b。
接着，使用氧化锌和氧化钛混合靶材[氧化锌∶氧化钛＝85∶15(质量比)]，在氩气中混合15体积％的氧气后导入，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度4.5W/cm2、反转脉冲宽度2微秒的脉冲溅射，形成厚80nm的氧化物层12a。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度2.3W/cm2、反转脉冲宽度10微秒的脉冲溅射，形成厚10nm的金属层12b。
接着，使用氧化锌和氧化钛混合靶材[氧化锌∶氧化钛＝85∶15(质量比)]，在氩气中混合15体积％的氧气后导入，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度4.5W/cm2、反转脉冲宽度2微秒的脉冲溅射，形成厚35nm的氧化物层12a。
接着，使用ITO靶材[铟∶锡＝90∶10(质量比)]，在氩气中混合5体积％的氧气后导入，以0.35Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度1.3W/cm2、反转脉冲宽度1微秒的脉冲溅射，在最上层的氧化物层12a上形成作为保护膜12d的厚5nm的ITO膜。
由此，得到在基体11上交错层积了含有氧化钛和氧化锌作为主要成分的氧化物层12a与由金-银合金形成的金属层12b的导电性层积体10，氧化物层有4层，金属层有3层。
对于实施例3的导电性层积体，通过东京电色公司制色彩分析仪TC1800测得的可见光透射率(JIS Z 8701中规定的刺激值Y)为77.25％，可见光反射率为5.07％。此外，波长850nm处的透射率为12.3％。
此外，通过Nagy公司制涡流型电阻测定器SRM12测得的薄层电阻(表面电阻)为1.815Ω。结果示于表1。
使用该导电性层积体10，与实施例同样地操作，制成图3所示的保护板1。
对于实施例3的保护板，通过东京电色公司制色彩分析仪TC1800测得的可见光透射率(JIS Z 8701中规定的刺激值Y)为76.99％，可见光反射率为3.45％。此外，波长850nm处的透射率为9.6％。结果示于表2。
(实施例4)
如下制成图1所示的导电性层积体。
首先，如下进行用于清洗作为基体11的厚100μm的PET膜表面的采用离子束的干法清洗。先在氩气中混合约30％的氧，施加100W的电力。将通过离子束源离子化得到的氩离子和氧离子照射于基体表面。
接着，使用氧化锌和氧化钛混合靶材[氧化锌∶氧化钛＝85∶15(质量比)]，在氩气中混合15体积％的氧气后导入，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度4.5W/cm2、反转脉冲宽度2微秒的脉冲溅射，在实施了干法清洗处理的基体表面形成厚40nm的氧化物层12a。通过卢瑟福背散射法进行了测定，结果在该氧化物层12a中，锌和钛的总和(100原子％)中，锌为85原子％，钛为15原子％。此外，氧化物层12a中，所有原子总和(100原子％)中，锌为37.0原子％，钛为6.2原子％，氧为56.8原子％。若将其换算为ZnO和TiO2，则氧化物的总和为96.7质量％。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度2.3W/cm2、反转脉冲宽度10微秒的脉冲溅射，形成厚10nm的金属层12b。
接着，使用氧化锌和氧化钛混合靶材[氧化锌∶氧化钛＝85∶15(质量比)]，在氩气中混合15体积％的氧气后导入，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度4.5W/cm2、反转脉冲宽度2微秒的脉冲溅射，形成厚80nm的氧化物层12a。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度2.3W/cm2、反转脉冲宽度10微秒的脉冲溅射，形成厚14nm的金属层12b。
接着，使用氧化锌和氧化钛混合靶材[氧化锌∶氧化钛＝85∶15(质量比)]，在氩气中混合15体积％的氧气后导入，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度4.5W/cm2、反转脉冲宽度2微秒的脉冲溅射，形成厚80nm的氧化物层12a。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度2.3W/cm2、反转脉冲宽度10微秒的脉冲溅射，形成厚14nm的金属层12b。
接着，使用氧化锌和氧化钛混合靶材[氧化锌∶氧化钛＝85∶15(质量比)]，在氩气中混合15体积％的氧气后导入，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度4.5W/cm2、反转脉冲宽度2微秒的脉冲溅射，形成厚80nm的氧化物层12a。
接着，使用掺入了1.0质量％金的银合金靶材，导入氩气，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度2.3W/cm2、反转脉冲宽度10微秒的脉冲溅射，形成厚10nm的金属层12b。
接着，使用氧化锌和氧化钛混合靶材[氧化锌∶氧化钛＝85∶15(质量比)]，在氩气中混合15体积％的氧气后导入，以0.73Pa的压力进行频率50kHz、电功率密度4.5W/cm2、反转脉冲宽度2微秒的脉冲溅射，形成厚35nm的氧化物层12a。
接着，使用ITO靶材[铟∶锡＝90∶10(质量比)]，在氩气中混合5体积％的氧气后导入，以0.35Pa的压力进行频率100kHz、电功率密度1.3W/cm2、反转脉冲宽度1微秒的脉冲溅射，在最上层的氧化物层12a上形成作为保护膜12d的厚5nm的ITO膜。
由此，得到在基体11上交错层积了含有氧化钛和氧化锌作为主要成分的氧化物层12a与由金-银合金形成的金属层12b的导电性层积体10，氧化物层有5层，金属层有4层。
对于实施例4的导电性层积体，通过东京电色公司制色彩分析仪TC1800测得的可见光透射率(JIS Z 8701中规定的刺激值Y)为67.7％，可见光反射率为5.88％。此外，波长850nm处的透射率为0.78％。
此外，通过Nagy公司制涡流型电阻测定器SRM12测得的薄层电阻(表面电阻)为0.968Ω。结果示于表1。
使用该导电性层积体10，与实施例1同样地操作，制成图3所示的保护板1。
对于实施例4的保护板，通过东京电色公司制色彩分析仪TC1800测得的可见光透射率(JIS Z 8701中规定的刺激值Y)为68.0％，可见光反射率为2.52％。此外，波长850nm处的透射率为0.68％。结果示于表2。
[表1]
  导电性层积体   实施例1   实施例2   比较例1   比较例2   实施例3   实施例4
  可见光透射率(％)   71.40   62.94   59.75   60.9   77.25   67.7
  可见光反射率(％)   6.50   4.96   5.79   6.85   5.07   5.88
  850nm的反射率(％)   0.96   0.69   0.5   0.40   12.3   0.78
  薄层电阻(Ω)   0.942   0.965   0.957   0.981   1.815   0.968
[表2]
  保护板   实施例1   实施例2   比较例1   比较例2   实施例3   实施例4
  可见光透射率(％)   71.5   62.6   60.3   61.8   76.99   68.0
  可见光反射率(％)   1.92   1.92   1.98   4.22   3.45   2.52
  850nm的反射率(％)   0.76   0.51   0.28   0.27   9.6   0.68
产业上利用的可能性
本发明的导电性层积体的导电性(电磁波屏蔽性)、可见光透射性和近红外线屏蔽性良好，而且层积于支承基体的情况下，由于透射·反射带变宽，所以可以用作等离子显示器用电磁波屏蔽膜、保护板。此外，本发明的导电性层积体可以用作液晶显示元件等的透明电极、汽车挡风玻璃、热镜、电磁波屏蔽窗玻璃。
另外，在这里引用2004年11月30日提出申请的日本专利申请2004-345877号以及2005年9月2日提出申请的日本专利申请2005-254907号的说明书、权利要求书、附图和摘要的所有内容作为本发明说明书的揭示。

Claims (6)

1.导电性层积体的制造方法，所述的导电性层积体具有基体和形成于基体上的导电膜，其特征在于，在基体表面上通过以下工序形成导电膜：
(A)使用氧化钛粉末和氧化锌粉末制造的靶材，通过溅射法形成氧化物层的工序，
(B)使用银靶材或银合金靶材，通过溅射法形成金属层的工序，
重复前述(A)、(B)的工序计2n次，n为1以上的整数，最后由(A)工序形成氧化物层，从而形成为总计交错层积了(2n+1)层氧化物层和金属层的多层结构体的导电膜。
2.如权利要求1所述的导电性层积体的制造方法，其特征在于，前述(A)的工序中导入混合了氧气的氩气进行溅射。
3.如权利要求1或2所述的导电性层积体的制造方法，其特征在于，前述(B)的工序中导入氩气进行溅射。
4.如权利要求1～3中任一项所述的导电性层积体的制造方法，其特征在于，前述氧化物层中，钛相对于钛和锌的总和的比例是1～50原子％。
5.如权利要求1～4中任一项所述的导电性层积体的制造方法，其特征在于，前述氧化物层含有90质量％以上的氧化钛和氧化锌。
6.如权利要求1～5中任一项所述的导电性层积体的制造方法，其特征在于，还包括在最后形成的氧化物层上进一步形成保护膜的工序。
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