CN101192004B - 适合于uv-ctp的阴图感光组成物和用其制作的平印版及平印版制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物和用其制作的平印版及平印版制作方法，其主要包含：(1)一种-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物，其特征在于，X代表含有磺酸基团的共聚单元，Y代表含有两个不饱和双键的支链的羧酸共聚单元，Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元，和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种多官能团单体，和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂，和(5)一种或一种以上的染料或颜料。本发明适合于UV-CTP制版机的平印版，本发明平印版感光度高、网点还愿性好，在紫外线光源曝光后可直接用自来水冲洗或不经任何冲洗加工步骤即可上机印刷，并可得到高的耐印力，尤其适合UV-CTP制版机。

Description

适合于UV-CTP的阴图感光组成物和用其制作的平印版及平印版制作方法

技术领域

本发明涉及一种适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物和用其制作的平印版及平印版制作方法。

背景技术

在印刷工业中平印版的制备过程为业界人士所熟知。平印版的制版过程至少需要两步来完成，一是将涂布了感光组合物的印版通过蒙片(如，正片型和负片型蒙片)在特定的光源下曝光，由此而形成一个光影像潜影；二是把上面曝光之后的印版进行一个所谓的后续的显影步骤，通过这个过程，除去多余的涂层。预涂感光平版是以铝或聚酯为支持体的片状材料，并且能通过上述两个步骤制得同时具有亲油和亲水性的表面，适合于平版印刷。通常，在一个负片型系统中，曝光部位由于涂层的聚合或交联发生变化，变成显影液不溶或难溶，从而可以在显影步骤中将印版未曝光部位的涂层除去。反之，在一个正片型系统中，显影步骤是将印版曝光部位的材料除去。显影步骤通常包括用显影剂漂洗和洗涤，通常在一个含有显影剂的处理单元中进行显影。阳图型平印版所用的显影剂通常是强碱，阴图型显影液中除强碱外通常还含有有机溶剂，如苯甲醇等。当然，光影像的显影也有用加热方法或其它方式来完成的。

上述的两种(即湿和热)显影过程的缺点是耗时、成本很高。而且，当采用挥发性有机物或强碱作为显影剂时，这些废液的处理将带来环境问题。

随着印刷工业的发展和人们生活水平的提高，世界各国对环保的要求越来越高，这样就需要一种在印刷前不需要化学处理或者不需任何处理的印版，这不但会有利于环保，而且这还将有利于减少印刷成本、减少印刷间的空间及减少印刷作业的准备时间。

在成像之后印刷之前不需处理的正片型印版的结构已被公开(如见美国专利No.5,102,771；5,225,316和5,314,785)。这些专利公开了以含有丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯聚合物的感光涂层为基础的印版和光酸产生系统。当图像暴露在光辐射下时，在光照射区域的聚合物分解形成亲水性，而在没有光照射的区域的聚合物保持亲墨性。

在成像后印刷前不需处理的预涂感光负片型平版也是该领域已知的.在成像和印刷之间不需处理步骤印版的种类在美国专利No.3,231,378；3,285,745；和3,409,487中公开.这些印版含有一种包含酚醛树脂、环氧乙烷聚合物和光增感剂的感光组合物.当其暴露在光化辐射下时，使酚醛树脂发生氧化，从而增加了亲墨性.这些印版的缺点是它们在印刷过程中亲墨性易减少，以致于需要严格控制印刷机上的墨/水间的平衡才能保证正常的印刷，有时还会使印版变得不可操作.美国专利No.3,793,033公开了在组成物中加人羟基乙基纤维素酯.获得的印版不会瞎版(即印刷时平版不受墨，图像损失)，并只需对印刷机上的墨/水平衡进行较少的控制.该组成的一个明显的不利条件是要用需固化的酚醛树脂来获得合适的印刷机印数.这样就需要在制得的印版前体上形成一个双层系统，即在含酚醛树脂层上应再加一层增感剂层.如果在固化后不涂布增感剂层那么酚醛树脂在固化时将分解.

另一类在成像和印刷间不需处理的负片型印版是那些基于多层感光层的印版。通常，如在美国专利No.4,600,679和4,104,072及欧洲专利公开号No.450,199中所描述的，这些结构在最靠近版基有一个亲水感光层，一个用于光硬化的附加层与第一层连接。这些结构通常用以芳香类重氮化合物为基础的负片型感光组合物作为最靠近版基的亲水层。这些印版的一个缺点是其有起脏(即背景部位上墨)和污染印刷机的趋势。这个缺点需要在印刷前先用合适的清洗剂(即润版液)清洗印版.因此，重氮化合物和树脂的加入对于用于“无处理”版的印版是有害的。PCT申请号No.93-05446中公开的印版，其中亲水层中没有重氮成分，因此消除了由于残留的未反应的重氮物质所引起的印刷机污染问题。所述的版包括版/版基，最接近版基的感光聚合亲水层，和一个第二靠近版基的隔开的感光聚合物疏水层。感光亲水层是以不含重氮化合物的可聚合物质为基础。版的官能度是通过两个层曝光在光化辐射下失去水溶性和硬化而获得的。该版只需一个装有墨和润版液的印刷机以在曝光后获得好的印刷品，而不需在印刷前进行预洗版。由于该结构有外部疏水层，如果在印刷前不处理除去背景部分的疏水物质那么就不能获得与常规的版相同的着水着墨性能。

发明内容

本发明的目的在于提供一种感光度高、网点还愿性好、在紫外线光源曝光后可直接用自来水冲洗或不经任何冲洗加工步骤即可上机印刷、并可得到高的耐印力的适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物和用其制作的平印版及平印版制作方法。

本发明的目的可通过以下措施来实现：

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物主要包含以下六种组分：(1)一种-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物，和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种多官能团单体，和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂，和(5)一种或一种以上的染料或颜料，和(6)一种或一种以上的溶剂；其中，X代表含有磺酸基团的共聚单元，Y代表含有两个不饱和双键的支链的羧酸共聚单元，Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元。

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物中X选自乙烯磺酸、苯乙烯磺酸、2-羟基-3-烯丙氧基-1-丙基磺酸、烯丙氧基苯磺酸、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙基磺酸、异戊二烯磺酸。X占共聚物的10％～30％摩尔比。Y是含有两个不饱和双键的支链的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚单元。或者，Y是含有一个不饱和双键取代的GMA接枝的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚单元。Y占共聚物的20％～40％摩尔比。Z是含一个不饱和双键取代基团的丙烯酸酯或甲基丙烯酸共聚单元。Z占共聚物的30％～50％摩尔比。-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物中，不饱和双键总数占聚合物的60-80％摩尔比。可光聚合的预聚体是一种聚氨酯丙烯酸预聚体。可光聚合的单体是多官能团单体。光聚合引发剂选自卤素取代的三嗪化合物。适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物还含有酚醛树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂中任一种或多种组合作为添加组份。

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物制成的平印版，其包含：(1)铝版基支持体，和(2)在铝版基支持体上的含上述-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物的亲水层，和(3)与亲水层在铝版基同一侧的并在亲水层之上的上述适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物涂布层.

本发明的平印版，该平印版的支持体是经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理的铝版基，其中心线平均粗度在0.4-0.6um。亲水化处理的涂层干重量是5～50mg/dm²。

本发明平印版的制作方法，在经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后的铝版基上涂布上述的适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物。

本发明中平印版的制作方法，在经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后的铝版基上涂布上述适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物之前，用本发明-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物对铝版基进行亲水化处理。该平印版适合于使用UV-CTP制版机制版。该平印版在使用UV-CTP制版机扫描曝光后，可以不使用显影液显影而使用自来水冲洗，即得到可印刷的平印版。该平印版在使用UV-CTP制版机扫描曝光后，不经过任何处理直接可以装版到印刷机印刷。

本发明由于采用组分和方法，使之具有诸多优点，具体比较数据如下：(优点综述，请整理到次处)感光度高、网点还愿性好，在用紫外线光源曝光后可直接用自来水冲洗或不经任何冲洗加工步骤即可上机印刷。印版图文部分亲油性好，空白部分不上脏，并可得到高的耐印力，尤其适合UV-CTP制版机。

其性能列于后面的表一中(表中实施例指实施例第二部分的实施例)。

表一

附图说明

附图是本发明中平印版的截面结构示意图；

具体实施方式

本发明以下结合附图和实施例作以详细的描述：

实施例第一部分

实施例1

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物主要包含以下六种组分：(1)一种-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物，和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种多官能团单体，和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂，和(5)一种或一种以上的染料或颜料，和(6)一种或一种以上的溶剂；其中，X代表含有磺酸基团的共聚单元，Y代表含有两个不饱和双键的支链的羧酸共聚单元，Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元.

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物中X选自乙烯磺酸、苯乙烯磺酸、2-羟基-3-烯丙氧基-1-丙基磺酸、烯丙氧基苯磺酸、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙基磺酸、异戊二烯磺酸。X占共聚物的10％摩尔比。Y是含有两个不饱和双键的支链的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚单元。或者，Y是含有一个不饱和双键取代的GMA接枝的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚单元。Y占共聚物的20％摩尔比。Z是含一个不饱和双键取代基团的丙烯酸酯或甲基丙烯酸共聚单元。Z占共聚物的30％摩尔比。-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物中，不饱和双键总数占聚合物的60％摩尔比。可光聚合的预聚体是一种聚氨酯丙烯酸预聚体。可光聚合的单体是多官能团单体。光聚合引发剂选自卤素取代的三嗪化合物。适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物还含有酚醛树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂中任一种或多种组合作为添加组份。

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物制成的平印版，其包含：(1)铝版基支持体(标号3，其他同)，和(2)在铝版基支持体上的含上述-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物的亲水层(标号2其他同)，和(3)与亲水层在铝版基同一侧的并在亲水层之上的上述适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物涂布层(标号3其他)。

本发明的平印版，该平印版的支持体是经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理的铝版基，其中心线平均粗度在0.4um。亲水化处理的涂层干重量是5mg/dm²。

本发明平印版的制作方法，在经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后的铝版基上涂布上述的适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物。

本发明中平印版的制作方法，在经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后的铝版基上涂布上述适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物之前，用本发明-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物对铝版基进行亲水化处理。该平印版适合于使用UV-CTP制版机制版。该平印版在使用UV-CTP制版机扫描曝光后，可以不使用显影液显影而使用自来水冲洗，即得到可印刷的平印版。该平印版在使用UV-CTP制版机扫描曝光后，不经过任何处理直接可以装版到印刷机印刷。

实施例2

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物主要包含以下六种组分：(1)一种-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物，和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种多官能团单体，和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂，和(5)一种或一种以上的染料或颜料，和(6)一种或一种以上的溶剂；其中，X代表含有磺酸基团的共聚单元，Y代表含有两个不饱和双键的支链的羧酸共聚单元，Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元。

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物中X选自乙烯磺酸、苯乙烯磺酸、2-羟基-3-烯丙氧基-1-丙基磺酸、烯丙氧基苯磺酸、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙基磺酸、异戊二烯磺酸.X占共聚物的15％摩尔比.Y是含有两个不饱和双键的支链的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚单元.或者，Y是含有一个不饱和双键取代的GMA接枝的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚单元.Y占共聚物的25％摩尔比.Z是含一个不饱和双键取代基团的丙烯酸酯或甲基丙烯酸共聚单元.Z占共聚物的35％摩尔比.-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物中，不饱和双键总数占聚合物的65％摩尔比.可光聚合的预聚体是一种聚氨酯丙烯酸预聚体.可光聚合的单体是多官能团单体.光聚合引发剂选自卤素取代的三嗪化合物.适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物还含有酚醛树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂中任一种或多种组合作为添加组份.

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物制成的平印版，其包含：(1)铝版基支持体，和(2)在铝版基支持体上的含上述-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物的亲水层，和(3)与亲水层在铝版基同一侧的并在亲水层之上的上述适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物涂布层。

本发明的平印版，该平印版的支持体是经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理的铝版基，其中心线平均粗度在0.45um。亲水化处理的涂层干重量是15mg/dm²。

本发明平印版的制作方法，在经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后的铝版基上涂布上述的适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物。

本发明中平印版的制作方法，在经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后的铝版基上涂布上述适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物之前，用本发明-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物对铝版基进行亲水化处理。该平印版适合于使用UV-CTP制版机制版。该平印版在使用UV-CTP制版机扫描曝光后，可以不使用显影液显影而使用自来水冲洗，即得到可印刷的平印版。该平印版在使用UV-CTP制版机扫描曝光后，不经过任何处理直接可以装版到印刷机印刷。

实施例3

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物主要包含以下六种组分：(1)一种-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物，和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种多官能团单体，和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂，和(5)一种或一种以上的染料或颜料，和(6)一种或一种以上的溶剂；其中，X代表含有磺酸基团的共聚单元，Y代表含有两个不饱和双键的支链的羧酸共聚单元，Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元。

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物中X选自乙烯磺酸、苯乙烯磺酸、2-羟基-3-烯丙氧基-1-丙基磺酸、烯丙氧基苯磺酸、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙基磺酸、异戊二烯磺酸。X占共聚物的20％摩尔比。Y是含有两个不饱和双键的支链的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚单元。或者，Y是含有一个不饱和双键取代的GMA接枝的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚单元。Y占共聚物的30％摩尔比。Z是含一个不饱和双键取代基团的丙烯酸酯或甲基丙烯酸共聚单元。Z占共聚物的40％摩尔比。-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物中，不饱和双键总数占聚合物的70％摩尔比。可光聚合的预聚体是一种聚氨酯丙烯酸预聚体。可光聚合的单体是多官能团单体。光聚合引发剂选自卤素取代的三嗪化合物。适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物还含有酚醛树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂中任一种或多种组合作为添加组份。

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物制成的平印版，其包含：(1)铝版基支持体，和(2)在铝版基支持体上的含上述-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物的亲水层，和(3)与亲水层在铝版基同一侧的并在亲水层之上的上述适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物涂布层。

本发明的平印版，该平印版的支持体是经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理的铝版基，其中心线平均粗度在0.5um。亲水化处理的涂层干重量是30mg/dm²。

本发明平印版的制作方法，在经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后的铝版基上涂布上述的适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物。

本发明中平印版的制作方法，在经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后的铝版基上涂布上述适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物之前，用本发明-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物对铝版基进行亲水化处理。该平印版适合于使用UV-CTP制版机制版。该平印版在使用UV-CTP制版机扫描曝光后，可以不使用显影液显影而使用自来水冲洗，即得到可印刷的平印版。该平印版在使用UV-CTP制版机扫描曝光后，不经过任何处理直接可以装版到印刷机印刷。

实施例4

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物主要包含以下六种组分：(1)一种-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物，和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种多官能团单体，和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂，和(5)一种或一种以上的染料或颜料，和(6)一种或一种以上的溶剂；其中，X代表含有磺酸基团的共聚单元，Y代表含有两个不饱和双键的支链的羧酸共聚单元，Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元。

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物中X选自乙烯磺酸、苯乙烯磺酸、2-羟基-3-烯丙氧基-1-丙基磺酸、烯丙氧基苯磺酸、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙基磺酸、异戊二烯磺酸。X占共聚物的25％摩尔比。Y是含有两个不饱和双键的支链的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚单元。或者，Y是含有一个不饱和双键取代的GMA接枝的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚单元。Y占共聚物的35％摩尔比。Z是含一个不饱和双键取代基团的丙烯酸酯或甲基丙烯酸共聚单元。Z占共聚物的45％摩尔比。-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物中，不饱和双键总数占聚合物的75％摩尔比。可光聚合的预聚体是一种聚氨酯丙烯酸预聚体。可光聚合的单体是多官能团单体。光聚合引发剂选自卤素取代的三嗪化合物。适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物还含有酚醛树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂中任一种或多种组合作为添加组份。

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物制成的平印版，其包含：(1)铝版基支持体，和(2)在铝版基支持体上的含上述-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物的亲水层，和(3)与亲水层在铝版基同一侧的并在亲水层之上的上述适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物涂布层。

本发明的平印版，该平印版的支持体是经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理的铝版基，其中心线平均粗度在0.55um。亲水化处理的涂层干重量是40mg/dm²。

本发明平印版的制作方法，在经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后的铝版基上涂布上述的适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物。

本发明中平印版的制作方法，在经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后的铝版基上涂布上述适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物之前，用本发明-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物对铝版基进行亲水化处理.该平印版适合于使用UV-CTP制版机制版.该平印版在使用UV-CTP制版机扫描曝光后，可以不使用显影液显影而使用自来水冲洗，即得到可印刷的平印版.该平印版在使用UV-CTP制版机扫描曝光后，不经过任何处理直接可以装版到印刷机印刷.

实施例5

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物主要包含以下六种组分：(1)一种-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物，和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种多官能团单体，和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂，和(5)一种或一种以上的染料或颜料，和(6)一种或一种以上的溶剂；其中，X代表含有磺酸基团的共聚单元，Y代表含有两个不饱和双键的支链的羧酸共聚单元，Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元。

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物中X选自乙烯磺酸、苯乙烯磺酸、2-羟基-3-烯丙氧基-1-丙基磺酸、烯丙氧基苯磺酸、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙基磺酸、异戊二烯磺酸。X占共聚物的30％摩尔比。Y是含有两个不饱和双键的支链的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚单元。或者，Y是含有一个不饱和双键取代的GMA接枝的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚单元。Y占共聚物的40％摩尔比。Z是含一个不饱和双键取代基团的丙烯酸酯或甲基丙烯酸共聚单元。Z占共聚物的50％摩尔比。-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物中，不饱和双键总数占聚合物的80％摩尔比。可光聚合的预聚体是一种聚氨酯丙烯酸预聚体。可光聚合的单体是多官能团单体。光聚合引发剂选自卤素取代的三嗪化合物。适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物还含有酚醛树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂中任一种或多种组合作为添加组份。

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物制成的平印版，其包含：(1)铝版基支持体，和(2)在铝版基支持体上的含上述-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物的亲水层，和(3)与亲水层在铝版基同一侧的并在亲水层之上的上述适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物涂布层。

本发明的平印版，该平印版的支持体是经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理的铝版基，其中心线平均粗度在0.6um。亲水化处理的涂层干重量是50mg/dm²。

本发明平印版的制作方法，在经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后的铝版基上涂布上述的适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物。

本发明中平印版的制作方法，在经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后的铝版基上涂布上述适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物之前，用本发明-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物对铝版基进行亲水化处理。该平印版适合于使用UV-CTP制版机制版。该平印版在使用UV-CTP制版机扫描曝光后，可以不使用显影液显影而使用自来水冲洗，即得到可印刷的平印版。该平印版在使用UV-CTP制版机扫描曝光后，不经过任何处理直接可以装版到印刷机印刷。

实施例6

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物主要包含以下六种组分：(1)一种-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物，和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种多官能团单体，和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂，和(5)一种或一种以上的染料或颜料，和(6)一种或一种以上的溶剂；其中，X代表含有磺酸基团的共聚单元，Y代表含有两个不饱和双键的支链的羧酸共聚单元，Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元.

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物中X选自乙烯磺酸、苯乙烯磺酸、2-羟基-3-烯丙氧基-1-丙基磺酸、烯丙氧基苯磺酸、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙基磺酸、异戊二烯磺酸。X占共聚物的10％～30％摩尔比。Y是含有两个不饱和双键的支链的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚单元。或者，Y是含有一个不饱和双键取代的GMA接枝的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚单元。Y占共聚物的20％～40％摩尔比。Z是含一个不饱和双键取代基团的丙烯酸酯或甲基丙烯酸共聚单元。Z占共聚物的30％～50％摩尔比。-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物中，不饱和双键总数占聚合物的60-80％摩尔比。可光聚合的预聚体是一种聚氨酯丙烯酸预聚体。可光聚合的单体是多官能团单体。光聚合引发剂选自卤素取代的三嗪化合物。适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物还含有酚醛树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂中任一种或多种组合作为添加组份。

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物制成的平印版，其包含：(1)铝版基支持体，和(2)在铝版基支持体上的含上述-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物的亲水层，和(3)与亲水层在铝版基同一侧的并在亲水层之上的上述适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物涂布层。

本发明的平印版，该平印版的支持体是经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理的铝版基，其中心线平均粗度在0.4-0.6um。亲水化处理的涂层干重量是5～50mg/dm²。

本发明平印版的制作方法，在经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后的铝版基上涂布上述的适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物。

本发明中平印版的制作方法，在经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后的铝版基上涂布上述适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物之前，用本发明-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物对铝版基进行亲水化处理。该平印版适合于使用UV-CTP制版机制版。该平印版在使用UV-CTP制版机扫描曝光后，可以不使用显影液显影而使用自来水冲洗，即得到可印刷的平印版。该平印版在使用UV-CTP制版机扫描曝光后，不经过任何处理直接可以装版到印刷机印刷。根据需要上述各参数可以取其范围值的任意值。

实施例第二部分

本发明平印版感光度高、网点还愿性好，在用紫外线光源曝光后可直接用自来水冲洗或不经任何冲洗加工步骤即可上机印刷。印版图文部分亲油性好，空白部分不上脏，并可得到高的耐印力，尤其适合UV-CTP制版机制版。本发明平印版不含重氮盐，并且具有单一的感光层结构。本发明平印版感光度高、网点还愿性好，在紫外线光源曝光后可直接用自来水冲洗或不经任何冲洗加工步骤即可上机印刷，并可得到高的耐印力，尤其适合UV-CTP制版机。本发明的目的可通过以下措施来实现：

本发明适合于UV-CTP的免化学处理阴图感光组成物(简称感光组成物，其它同)包含：(1)一种-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物，其特征在于，X代表含有磺酸基团的共聚单元，Y代表含有两个不饱和双键支链的羧酸共聚单元，Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元，和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种多官能团单体，和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂，和(5)一种或一种以上的染料或颜料。

本发明平印版由经电解粗化并经阳极氧化和封孔处理后的铝版基做支持体，并在其上涂布本发明感光组成物而得到.该支持体的中心线平均粗度在0.4-0.6um，在涂布本发明感光组成物之前，用本发明-(X)-(Y)-(Z)-结构的水溶性树脂的溶液对版基进行亲水化处理.

本发明感光组合物中-(X)-(Y)-(Z)-结构的聚合物是一种含不饱和双键的水溶性聚合物。其中，X代表含有磺酸基团的共聚单元，Y代表含有两个不饱和双键支链的羧酸共聚单元，Z代表含有一个不饱和双键支链的丙烯酸酯共聚单元。

作为X代表的共聚单元，只要是含有烯类不饱和基团和磺酸基团的化合物都可以。烯类不饱和基团保证与其它单元共聚，磺酸基团保证较好的水溶性。X可选自乙烯磺酸、苯乙烯磺酸、2-羟基-3-烯丙氧基-1-丙基磺酸、烯丙氧基苯磺酸、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙基磺酸、异戊二烯磺酸等。X在整个聚合物中所占的比例在10％～30％摩尔比范围内，优选15％～25％。低于10％时印版的空白部分容易留底，高于30％时印版的亲墨性不佳。

作为Y代表的共聚单元，是含有两个不饱和双键的支链的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚单元。其中含两个不饱和双键的支链是通过先在丙烯酸或甲基丙烯酸上接枝GMA单体，然后再在GMA上接枝烯类不饱和双键来达到的。可以用来接枝的烯类不饱和单体可以选自丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯、异氰酸烯丙酯以及异氰酸基乙基甲基丙烯酸酯等。Y在整个聚合物中起到调整亲水性和光交联固化速度的作用，通过在Y上引入两个不饱和基团，可以大大提高聚合物中不饱和双键的比例，本发明中根据需要甚至可使不饱和双键在整个聚合物中的比例达到150％，这样可极大地提高光固化速度，同时又可以保证足够的亲水性。Y在整个聚合物中所占的比例在20％～40％摩尔比范围内为佳，优选25％～30％。

作为Z代表的共聚单元，Z是含一个不饱和双键取代基团的丙烯酸酯或甲基丙烯酸共聚单元。可用的丙烯酸酯可选自丙烯酸β羟乙酯、甲基丙烯酸β羟乙酯、羟甲基丙烯酸甲酯等。可用的接枝的单体有丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯、异氰酸烯丙酯以及异氰酸基乙基甲基丙烯酸酯等。Z在整个共聚物所占的比例在的30％～50％摩尔比范围内为佳，优选35％～45％。

-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物中，不饱和双键总数占聚合物的60～80％摩尔比，优选65～75％。低于60％时，不能得到高的固化速度和高的交联密度；高于80％时，对于树脂的存放稳定性不利。

-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物占整个感光层干重的40％～80％，优选50％-70％。低于40％时，空白部分的涂层不易擦除，易发生空白部位上脏的弊病；高于80％时，涂层亲墨性不佳，易瞎版。

本发明所述的可光聚合的预聚体可以使用各种类型的预聚物，如聚酯类丙烯酸酯类、环氧丙烯酸酯类、聚氨酯丙烯酸酯类、聚醚丙烯酸酯类、有机硅预聚物类等，其中较好的是聚氨酯丙烯酸类预聚体。该预聚物在感光涂层中占涂膜干重的1～50％为佳，优选5％～30％。用量低于1％时，固化速度低，涂层亲墨性不佳；用量超过50％时，网点还原不佳，而且涂层易发粘。

本发明所述的可光聚合的单体可以使用各种类型的单体，如：单官能团单体，有(甲基)丙烯酸酯如丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸烯丙酯等；多官能团单体，有二丙烯酸酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯和四丙烯酸酯、1，3，5一三一(2一丙烯酰氧乙基)异氰脲酸酯、羟丙基甘油基三丙烯酸酯、羟乙基三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯等；异氰酸基单体，有2一异氰酸甲基丙烯酸乙酯和二甲基一m一异丙烯基苄基异氰酸酯等.最好使用多官能团单体.多官能团单体在感光涂层中占涂膜干重的1～80％为佳，优选10％～50％.

本发明所述光致引发剂可以是单种化合物或是两个或多个组分的组合物。最好采用在曝光时因产生自由基而引发交联的光致引发剂。较佳光致引发剂在暴露当200至500nm(如紫外，可见光和红外辐射)下时有活性。最佳的光致引发剂在300至450nm时有活性。合适的可见光和紫外诱导的光致引发剂包括，酮类如苯偶酰、苯偶姻和偶姻类，例如，2，2一二甲氧基一2一苯基乙酰苯、2-苄基一2-N，N一二甲基氨基一1-(4-吗琳代苄基)-1一丁酮和苯偶姻甲基酯(2一甲氧基一2一苯基乙酰苯)等；敏化的二芳基碘鎓盐和三芳基硫鎓盐等；发色团取代的卤代甲基一1，3，5一三嗪化合物等。所有这些光致引发剂单独使用或与合适的加速剂(如胺，过氧化物，和磷化合物)和/或合适的光增感剂(如，酮或a一二酮化合物如樟脑醌)一起使用。光致引发剂最好在本发明的结构中有足够的量以获得所需的聚合程度。这个量取决于光致引发剂的效率和光活性层的厚度。通常光致引发剂的含量为涂层干重的0.01至20(重量)。本发明中光致引发剂的较佳含量为涂层干重的0.5％至15％，优选0.5％至10％。

本发明中平版的一个可选组分为色料和/或染料或染料系统。为了在曝光后有可见的图像，可加人一个色料和/或染料或染料系统。适用的化合物或系统可在当其暴露在光化辐射下或当其与来自暴露的光致引发剂的产物接触时改变颜色或色泽。合适的化合物或系统包括(但不局限于)，如无色一染料，如酰基保护的噻嗪，二嗪和噁嗪，二聚水分子(如Michler的二聚水分子)，吲哚烯和三芳基甲烷内酯(如Crystal Violet内酯)。染料在本发明的平版中的含量应足够以获得所需的版曝光部分和未曝光部分的反差。染料较佳的含量为涂层的0至10％(重量)。

而且，本发明的感光组合物可含有各种材料与本发明的必要的组分的组合。例如，颜料、有机或无机颗粒、敏化的染料、增塑剂、粘结剂、表面活性剂、抗氧化剂、助涂剂、抗稳定剂、蜡、紫外或可见光吸收剂和增亮剂可用于本发明而不影响其性能.

本发明所用的版基是经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后铝版基，其中心线平均粗度在0.4～0.6um。优选0.3～0.5um。这样的版基可通过各种电解粗化的方法制得。本发明铝版基是高纯度铝版，其铝含量最好在99％以上。合适的铝版基为(但不见限于此)：铁占0.1％～0.5％、硅占0.03％～0.3％、铜占0.003％～0.03％、钛占0.01％～0.1％。电解粗化所用的电解液可以是酸、碱或盐的水溶液或含有有机溶剂的水溶液。其中，以盐酸、硝酸或者它们的盐的水溶液作电解液较好。首先把铝版放在1％～30％的氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠等的水溶液中，在20～80℃的温度下进行5～250秒的化学腐蚀。然后在10～30％的硝酸或硫酸中以20～70℃的温度中和，以去除灰质。这样经过清洁处理的铝版，在10～60℃的温度下，用正负性交互变化的矩形波、台型波或正弦波等，以5～100A/dm²的电流密度，在硝酸或者盐酸的电解液中电解处理10～300秒。接着，把经过电解的铝版进行阳极氧化处理。阳极氧化通常用硫酸法。使用的硫酸的浓度为5～30％，电流密度为1～15A/dm²，氧化温度在20～60℃，氧化时间为5～250秒，以形成1～10g/m²的氧化膜.这样形成的氧化膜通常具有较高的氧化膜微孔，吸附能力较强，易于粘附脏物.所以通常还需要进行封孔处理.封孔处理可以使用各种各样的方法，以达到封闭氧化膜微孔的50％～80％体积为佳.

本发明的感光组合物通常用该领域已知技术涂布(如，刀涂，刮涂，条涂，辊涂，压涂等)在版基上。把本发明感光组合物溶于适当的溶剂或/和水中，配成涂布液。合适的溶剂有：乙二醇乙醚、乙二醇甲醚、二甘醇甲醚、乳酸甲酯、乳酸乙酯、甲乙酮、1-甲氧基-2-丙醇等。涂层干重量为0.2～10g/m²。感光组合物涂层的最佳涂布量为0.5g/m²～3g/m²。

在涂布本发明感光组成物之前，最好先在经过封孔处理的版基上涂布本发明-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物。涂布方法可以使用各种各样的方法，如刀涂、刮涂、条涂、辊涂、压涂、条缝挤压涂布等。涂布前把-(X)-(Y)-(Z)-结构的聚合物溶于水中配成适当的浓度，或者加入各种涂布助剂调整成合适的涂布参数。亲水化处理的涂层干重量最好在0.01～100mg/dm²的范围内，优选5～50mg/dm²。少于0.01mg/dm²，达不到预期效果；超过50mg/dm²时，会使涂层与版基的粘接力下降，易造成掉版等弊病。

以下通过实例说明本发明，但不局限于这些实力。

合成例1

在500毫升的三口烧瓶中加入210毫升的DMF作溶剂，然后分别加入丙烯酸14.4克、甲基丙烯酸β羟乙酯32.6克和2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸10.35克。这样的溶液在通入N₂条件下，边搅拌边升温，当温度升至80℃时加入AIBN0.3克，保持在此温度下反应4.5小时。之后，在这样的溶液中加入GMA10.66克、对甲氧基酚0.1克和四甲基氯化铵8.22克，继续保持在80℃下，反应4.5小时。随后把上述溶液降温至30℃，再加入丙烯酰氯29.41克、对甲氧基酚0.3克、三乙胺32.89克，保持在30℃的温度下反应1.5小时。最后把上述溶液在乳酸甲酯中分散，干燥，得到约90克的本发明水溶性聚合物1。

合成例2

在500毫升的三口烧瓶中加入210毫升的DMF作溶剂，然后分别加入丙烯酸7.2克、甲基丙烯酸β羟乙酯32.6克和2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸31.05克。这样的溶液在通入N₂条件下，边搅拌边升温，当温度升至80℃时加入AIBN0.3克，保持在此温度下反应4.5小时。之后，在这样的溶液中加入GMA3.55克、对甲氧基酚0.04克和四甲基氯化铵2..74克，继续保持在80℃下，反应4.5小时。随后把上述溶液降温至30℃，再加入丙烯酰氯24.89克、对甲氧基酚0.25克、三乙胺27.83克，保持在30℃的温度下反应1.5小时。最后把上述溶液在乳酸甲酯中分散，干燥，得到约92克的本发明水溶性聚合物2。

合成例3

在500毫升的三口烧瓶中加入210毫升的DMF作溶剂，然后分别加入丙烯酸14.4克、丙烯酸β羟乙酯17.41克和2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸31.05克。这样的溶液在通入N₂条件下，边搅拌边升温，当温度升至80℃时加入AIBN0.3克，保持在此温度下反应4.5小时。之后，在这样的溶液中加入GMA17.77克、对甲氧基酚0.18克和四甲基氯化铵13.70克，继续保持在80℃下，反应4.5小时。随后把上述溶液降温至30℃，再加入丙烯酰氯24.89克、对甲氧基酚0.25克、三乙胺27.83克，保持在30℃的温度下反应1.5小时。最后把上述溶液在乳酸甲酯中分散，干燥，得到约88克本发明水溶性聚合物3。

合成例4

在500毫升的三口烧瓶中加入210毫升的DMF作溶剂，然后分别加入丙烯酸10.8克、丙烯酸β羟乙酯26.11克和2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸25.88克.这样的溶液在通入N₂条件下，边搅拌边升温，当温度升至80℃时加入AIBN0.3克，保持在此温度下反应4.5小时。之后，在这样的溶液中加入GMA8.89克、对甲氧基酚0.1克和四甲基氯化铵6.85克，继续保持在80℃下，反应4.5小时。随后把上述溶液降温至30℃，再加入丙烯酰氯26.06克、对甲氧基酚0.26克、三乙胺29.15克，保持在30℃的温度下反应1.5小时。最后把上述溶液在乳酸甲酯中分散，干燥，得到约90克的本发明水溶性聚合物4。

合成例5

在500毫升的三口烧瓶中加入210毫升的DMF作溶剂，然后分别加入丙烯酸14.4克、丙烯酸β羟乙酯23.21克和2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸20.7克。这样的溶液在通入N₂条件下，边搅拌边升温，当温度升至80℃时加入AIBN0.3克，保持在此温度下反应4.5小时。之后，在这样的溶液中加入GMA14.22克、对甲氧基酚0.15克和4-甲基氯化铵11克，继续保持在80℃下，反应4.5小时。随后把上述溶液降温至30℃，再加入丙烯酰氯27.15克、对甲氧基酚0.3克、三乙胺30.36克，保持在30℃的温度下反应1.5小时。最后把上述溶液在乳酸甲酯中分散，干燥，得到约86克本发明水溶性聚合物5。

实施例1

版基的制备：纯度99.5％、厚0.3mm的A1050压延铝版，在5％的氢氧化钠水溶液中70℃下浸蚀20秒，用流水冲洗后，立即用1％的硝酸水溶液中和。然后在1％的盐酸水溶液中，40℃下用正弦波交流电以50A/dm²的电流密度电解粗化16秒。接着40℃下，用5％的氢氧化钠水溶液中和10秒。水洗。最后在30℃下，用20％的硫酸水溶液，以15A/dm²的电流密度，阳极氧化20秒。水洗。80℃下用5％的硅酸纳水溶液进行封孔处理18秒。水洗。干燥。这样得到的版基，中心线平均粗度为0.5um，氧化膜重3.0g/dm²。

亲水化处理：在上面得到的版基上，涂布0.1％的本发明水溶性树脂的水溶液，100℃下干燥20秒，得到20mg/m²的涂层干重。

在上述经过亲水化处理的版基上挤压涂布下面的感光液，然后在120℃下干燥30秒。得到1.5g/m²的涂层干重。

感光液1(各组分按重量份)

本发明水溶性聚合物1                                1.6

聚氨酯丙烯酸预聚物                                 0.64

季戊四醇三丙烯酸酯                                 0.86

2-(4-甲氧萘基)-4，6-双(三氯代甲基)-1，3，5-三嗪    0.03

对甲氧基苯酚                                       0.03

BYK-306                                            0.012

酞青蓝染料                                         0.032

1-甲氧基-2-丙醇                                    32.80

这样得到的版材在UC-SETTER741型UV-CTP的制版机上以60的光值进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以40℃的温度，用纯的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。

实施例2

用上面相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。感光液用下面组分：

感光液2(各组分按重量份)

本发明水溶性聚合物2                                1.6

聚氨酯丙烯酸预聚物                                 0.64

季戊四醇三丙烯酸酯                                 0.86

2-(4-甲氧萘基)-4，6-双(三氯代甲基)-1，3，5-三嗪    0.03

对甲氧基苯酚                            0.03

BYK-306                                 0.012

酞青蓝染料                              0.032

1-甲氧基-2-丙醇                         32.80

这样得到的版材在UC-SETTER741型UV-CTP的制版机上以80的光值进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以40℃的温度，用纯的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗，直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。

实施例3

用上面相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。感光液用下面组分：

感光液3(各组分按重量份)

本发明水溶性聚合物3                                1.6

聚氨酯丙烯酸预聚物                                 0.64

季戊四醇三丙烯酸酯                                 0.86

2-(4-甲氧萘基)-4，6-双(三氯代甲基)-1，3，5-三嗪    0.03

对甲氧基苯酚                                       0.03

BYK-306                                            0.012

酞青蓝染料                                         0.032

1-甲氧基-2-丙醇                                    32.80

这样得到的版材在UC-SETTER741型UV-CTP的制版机上以60的光值进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以40℃的温度，用纯的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗，直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。

实施例4

用上面相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。感光液用下面组分：

感光液4(各组分按重量份)

本发明水溶性聚合物4                                1.6

聚氨酯丙烯酸预聚物                                 0.64

季戊四醇三丙烯酸酯                                 0.86

2-(4-甲氧萘基)-4，6-双(三氯代甲基)-1，3，5-三嗪    0.03

对甲氧基苯酚                                       0.03

BYK-306                                 0.012

酞青蓝染料                              0.032

1-甲氧基-2-丙醇                         32.80

这样得到的版材在UC-SETTER741型UV-CTP的制版机上以70的光值进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以40℃的温度，用纯的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗，直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。

实施例5

用上面相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。感光液用下面组分：

感光液5(各组分按重量份)

本发明水溶性聚合物5                                1.6

聚氨酯丙烯酸预聚物                                 0.64

季戊四醇三丙烯酸酯                                 0.86

2-(4-甲氧萘基)-4，6-双(三氯代甲基)-1，3，5-三嗪    0.03

对甲氧基苯酚                                       0.03

BYK-306                                            0.012

酞青蓝染料                                         0.032

1-甲氧基-2-丙醇                                    32.80

这样得到的版材在UC-SETTER741型UV-CTP的制版机上以60的光值进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以40℃的温度，用纯的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗，直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。

实施例6

用与实例1相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。只是调整电解电量使版基中心线平均粗度为0.4um。

这样得到的版材在UC-SETTER741型UV-CTP的制版机上以60的光值进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以40℃的温度，用纯的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗，直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。

实施例7

用与实例1相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。只是调整电解电量使版基中心线平均粗度为0.6um。

这样得到的版材在UC-SETTER741型UV-CTP的制版机上以60的光值进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以40℃的温度，用纯的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗，直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。

实施例8

用与实例1相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。只是调整亲水层的干重量为5mg/dm²。

这样得到的版材在UC-SETTER741型UV-CTP的制版机上以60的光值进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以40℃的温度，用纯的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗，直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。

实施例9

用与实例1相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。只是调整亲水层的干重量为50mg/dm²。

这样得到的版材在UC-SETTER741型UV-CTP的制版机上以60的光值进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以40℃的温度，用纯的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗，直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。

比较例1

用与实例1相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。只是感光液用下面组分：

感光液6(各组分按重量份)

本发明水溶性聚合物1                                1.6

丙烯酸预聚物                                       0.64

季戊四醇三丙烯酸酯                                 0.86

2-(4-甲氧萘基)-4，6-双(三氯代甲基)-1，3，5-三嗪    0.03

对甲氧基苯酚                                       0.03

BYK-306                                            0.012

酞青蓝染料                                         0.032

1-甲氧基-2-丙醇                                    32.80

这样得到的版材在UC-SETTER741型UV-CTP的制版机上以120的光值进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以40℃的温度，用纯的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗，直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。

比较例2

用与实例1相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。只是感光液用下面组分：

感光液7(各组分按重量份)

本发明水溶性聚合物1                             1.6

聚氨酯丙烯酸预聚物                              0.64

丙烯酸乙酯0.86

2-(4-甲氧萘基)-4，6-双(三氯代甲基)-1，3，5-三嗪 0.03

对甲氧基苯酚                                    0.03

BYK-306                                         0.012

酞青蓝染料                                      0.032

1-甲氧基-2-丙醇                                 32.80

这样得到的版材在UC-SETTER741型UV-CTP的制版机上以110的光值进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以40℃的温度，用纯的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗，直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。

比较例3

用与实例1相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。只是感光液用下面组分：

感光液8(各组分按重量份)

本发明水溶性聚合物1                                1.6

聚氨酯丙烯酸预聚物                                 0.64

季戊四醇三丙烯酸酯                                 0.86

1-羟基酮(DAROCUR4265)                              0.03

对甲氧基苯酚                                       0.03

BYK-306                                            0.012

酞青蓝染料                                         0.032

1-甲氧基-2-丙醇                                    32.80

这样得到的版材在UC-SETTER741型UV-CTP的制版机上以150的光值进行曝光.然后，在MASTER VIEW显影机中以40℃的温度，用纯的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗，直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。

比较例4

用与实例1相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。只是调整电解电量使版基的中心线平均粗度为0.3um。

这样得到的版材在UC-SETTER741型UV-CTP的制版机上以60的光值进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以40℃的温度，用纯的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗，直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。

比较例5

用与实例1相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。只是调整电解电量使版基的中心线平均粗度为0.7um。

这样得到的版材在UC-SETTER741型UV-CTP的制版机上以60的光值进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以40℃的温度，用纯的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗，直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。

比较例6

用与实例1相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。只是感光液用下面组分：

感光液1(各组分按重量份)

PVP(K60)                                           1.6

聚氨酯丙烯酸预聚物                                 0.64

季戊四醇三丙烯酸酯                                 0.86

2-(4-甲氧萘基)-4，6-双(三氯代甲基)-1，3，5-三嗪    0.03

对甲氧基苯酚                                       0.03

BYK-306                                            0.012

酞青蓝染料                                         0.032

1-甲氧基-2-丙醇                                    32.80

这样得到的版材在UC-SETTER741型UV-CTP的制版机上以200的光值进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以40℃的温度，用纯的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗，直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。

比较例7

用与实例1相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。只是调整亲水层的干重量为3mg/dm²。

这样得到的版材在UC-SETTER741型UV-CTP的制版机上以60的光值进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以40℃的温度，用纯的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷。也可以不经过自来水冲洗，直接装版到印刷机上印刷。其性能列于后面的表一中。

比较例8

用与实例1相同的方法制备版基、亲水层和涂布感光液。只是调整亲水层的干重量为70mg/dm²。

这样得到的版材在UC-SETTER741型UV-CTP的制版机上以60的光值进行曝光。然后，在MASTER VIEW显影机中以40℃的温度，用纯的自来水冲洗30秒～50秒，然后装版印刷.也可以不经过自来水冲洗，直接装版到印刷机上印刷.其性能列于后面的表一中.

表一

Claims (10)

1.一种适合于UV-CTP的阴图感光组成物，其特征在于：它主要包含以下六种组分：(1)一种-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物，和(2)一种可光聚合的预聚体、和(3)一种可光聚合的多官能团单体，和(4)一种或一种以上的光聚合引发剂，和(5)一种或一种以上的染料或颜料，和(6)一种或一种以上的溶剂；其中，X代表含有磺酸基团的共聚单元，所述X选自乙烯磺酸、苯乙烯磺酸、2-羟基-3-烯丙氧基-1-丙基磺酸、烯丙氧基苯磺酸、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙基磺酸、异戊二烯磺酸；Y代表含有两个不饱和双键的支链的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚单元，其中含两个不饱和双键的支链是通过先在丙烯酸或甲基丙烯酸上接枝GMA单体，然后再在GMA上接枝烯类不饱和双键来达到的；Z代表含一个不饱和双键取代基团的丙烯酸酯或甲基丙烯酸共聚单元，并且X占所述不饱和水溶性聚合物的10％～30％摩尔比，Y占所述不饱和水溶性聚合物的20％～40％摩尔比，Z占所述不饱和水溶性聚合物的30％～50％摩尔比，-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物中，不饱和双键总数占聚合物的60-80％摩尔比；所述可光聚合的预聚体是一种聚氨酯丙烯酸预聚体，所述光聚合引发剂选自卤素取代的三嗪化合物。

2.根据权利要求1所述适合于UV-CTP的阴图感光组成物，其特征在于：所述适合于UV-CTP的阴图感光组成物还含有酚醛树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂中任一种或多种组合作为添加组份。

3.一种用权利要求1至2中任一项所述的适合于UV-CTP的阴图感光组成物制成的平印版，其特征在于：其包含：(1)铝版基支持体，和(2)在铝版基支持体上的含上述-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物的亲水层，和(3)与所述亲水层在铝版基同一侧的并在亲水层之上的上述适合于UV-CTP的阴图感光组成物涂布层。

4.根据权利要求3所述平印版，其特征在于，该平印版的支持体是经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理的铝版基，其中心线平均粗度在0.4-0.6um。

5.根据权利要求3所述平印版，其特征在于，亲水化处理的涂布层干重量是5～50mg/dm²。

6.一种如权利要求3至5中任一项所述的平印版的制作方法，其特征在于：在经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后的铝版基上涂布上述的适合于UV-CTP的阴图感光组成物。

7.根据权利要求6所述的平印版的制作方法，其特征在于：在经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理后的铝版基上涂布上述适合于UV-CTP的阴图感光组成物之前，用上述的-(X)-(Y)-(Z)-结构的不饱和水溶性聚合物对铝版基进行亲水化处理。

8.根据权利要求3所述平印版，其特征在于，该平印版适合于使用UV-CTP制版机制版。

9.根据权利要求3所述平印版，其特征在于，该平印版在使用UV-CTP制版机扫描曝光后，不使用显影液显影而使用自来水冲洗，即得到可印刷的平印版。

10.根据权利要求3所述平印版，其特征在于，该平印版在使用UV-CTP制版机扫描曝光后，不经过任何处理直接可以装版到印刷机印刷。

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