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CN109991811A - 一种酸扩散抑制剂及其制备方法与光刻胶组合物 - Google Patents

一种酸扩散抑制剂及其制备方法与光刻胶组合物 Download PDF

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CN109991811A
CN109991811A CN201910145917.3A CN201910145917A CN109991811A CN 109991811 A CN109991811 A CN 109991811A CN 201910145917 A CN201910145917 A CN 201910145917A CN 109991811 A CN109991811 A CN 109991811A
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CN
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methyl
acid
solvent
basic group
dispersion inhibitor
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Application number
CN201910145917.3A
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顾大公
毛智彪
许从应
马潇
陈玲
朱胜恺
齐国强
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Ningbo Nata Opto Electronic Material Co Ltd
Original Assignee
Jiangsu Nata Opto Electronic Material Co Ltd
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Abstract

本发明公开了一种酸扩散抑制剂及其制备方法与光刻胶组合物，酸扩散抑制剂是以（甲基）丙烯酸酯为结构单元，在其中引入碱性基团形成的聚合物树脂。由具有碱性基团的（甲基）丙烯酸酯单体，在自由基引发剂存在的条件下，通过加热进行共聚反应制备而成，可用于制备光刻胶组合物。本发明提供了一种以聚合物形式存在的酸扩散抑制剂，它可以控制非曝光区的光酸扩散；同时能更有效改善本身在光刻胶内的分布，提高光刻胶分辨率和线宽粗糙度，改善光刻胶的成膜能力。

Description

一种酸扩散抑制剂及其制备方法与光刻胶组合物
技术领域
本发明涉及一种高分子聚合物及其制备方法，具体涉及一种酸扩散抑制剂树脂及其制备方法，以及酸扩散抑制剂树脂的用途。
背景技术
光刻胶的三个重要参数包括分辨率、灵敏度、线宽粗糙度，它们决定了光刻胶在芯片制造时的工艺窗口。随着半导体芯片性能不断提升，集成电路的集成度呈指数型增加，集成电路中的图形不断缩小。为了制作更小尺寸的图形，必须提高光刻胶的上述三个性能指标。根据瑞利方程式，在光刻工艺中使用短波长的光源可以提高光刻胶的分辨率。光刻工艺的光源波长从365nm（I-线）发展到248nm（KrF）、193nm（ArF）、13nm（EUV）。为提高光刻胶的灵敏度，目前主流的 KrF、ArF、EUV光刻胶采用了化学放大型光敏树脂。
研究表明，在化学放大型光刻胶曝光之后，控制光酸扩散是提高分辨率和减少线宽粗糙度的重要手段。提高控制光酸扩散能力的途径之一是利用酸碱中和的原理，使用碱性化合物来减低光酸扩散范围，这类碱性化合物被称为酸扩散抑制剂。
酸活性树脂、光敏剂、酸扩散抑制剂是光刻胶配方中的主要成分。现有技术中，胺类分子是控制酸扩散的关键成分之一。然而在结构上胺类分子与光刻胶树脂有较大的差异，导致胺类分子不能很均匀地分布于光刻胶膜中，降低了光刻胶的分辨率和线宽粗糙度。另一方面，为了达到较好的抗刻蚀性能，光刻胶树脂中会使用大量苯环或大体积的非芳香桥环结构。这些结构容易导致高分子化合物之间的互溶性不匹配，成膜能力差，出现光刻胶膜脆裂、剥落等问题。同时小分子的碱性化合物在应用到浸没式光刻工艺时存在污染光刻胶镜头的可能，造成严重的后果。
因此，开发一种酸扩散抑制剂分布固定、酸扩散抑制能力高并且与酸活性树脂性质匹配、成膜能力好的酸扩散抑制剂势在必行，这将为后续浸没式光刻胶的开发提供必要的基础。
发明内容
本发明的发明目的是提供一种酸扩散抑制剂，使其在应用于光刻胶组合物时具有分布固定、酸扩散抑制能力高并且与酸活性树脂性质匹配、成膜能力好的特点；本发明的另一发明目的是提供这种酸扩散抑制剂的制备方法；本发明的再一发明目的是提供该酸扩散抑制剂制备的光刻胶组合物。
为达到上述发明目的，本发明采用的技术方案是：一种酸扩散抑制剂，它是以（甲基）丙烯酸酯为结构单元，在其中引入碱性基团形成的聚合物树脂，其结构通式为（I）或（II）：
（I） 、 （II）
式中，n为2～30的整数，n的选择使得重均分子量在100～30000g/mol之间；na是亚烷基的碳原子数，na为1～20；R1、R2是氢、碳原子数为1～20之间的烷基、芳基或含硫、氧、氮杂原子的取代基中的一种或多种。
上述技术方案中，在（甲基）丙烯酸酯的基础上，引入含碱性基团的单体形成酸扩散抑制剂成膜树脂。由于碱性基团被固定在高分子的树脂结构上，且结构和酸活性树脂的结构近似，这使酸抑制剂能均匀的分布在光刻胶薄膜中。该类树脂表现出优秀的光酸扩散抑制能力，提高光刻胶分辨率和线宽粗糙度；减少光刻胶组分的水溶性，改善光刻胶的成膜能力，避免光刻机镜头沾污。
上述技术方案中，R1、R2是碳原子数为1～20之间的直链烷基、环烷基或芳基中的一种或多种。
具体的，R1、R2和N原子构成的含氮官能团是正丁胺基、叔丁胺基、二甲胺基、二乙胺基、二正丙基、二异丙胺基、二正丁胺基、二异丁胺基、二叔丁胺基、环戊基胺基、环己基胺基、苯基甲胺基、苯基乙胺基、苯基正丙胺基、苯基正丁胺基、苯基叔丁胺基、二苯基胺基、二（对甲氧基苯基）胺基、二（对叔丁氧苯基）胺基中的一种或多种。
R1、R2和N原子构成的含氮官能团优选的结构如下：
、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、。
为实现本发明的另一发明目的，提供了一种酸扩散抑制剂的制备方法，由具有碱性基团的（甲基）丙烯酸酯单体，在自由基引发剂存在的条件下，通过加热进行共聚反应制备而成，所述具有碱性基团的（甲基）丙烯酸酯的结构通式为（III）或（IV）：
（III） 或 （IV）
式中，nb是碳原子数为1～20之间的烷基的链长。
上述技术方案中，R1、R2是碳原子数为1～20之间的直链烷基、环烷基或芳基中的一种或多种。
优选地，R1、R2和N原子构成的含氮官能团是正丁胺基、叔丁胺基、二甲胺基、二乙胺基、二正丙基、二异丙胺基、二正丁胺基、二异丁胺基、二叔丁胺基、环戊基胺基、环己基胺基、苯基甲胺基、苯基乙胺基、苯基正丙胺基、苯基正丁胺基、苯基叔丁胺基、二苯基胺基、二（对甲氧基苯基）胺基、二（对叔丁氧苯基）胺基中的一种或多种。
优选的，碱性基团的（甲基）丙烯酸酯单体的结构可以是，但不限于：
上述具有碱性基团的（甲基）丙烯酸酯单体的制备方法如下：由含碱性基团的长链化合物在缚酸剂的作用下，和（甲基）丙烯酰氯反应制备而得到，包括以下步骤：
(1) 将含碱性基团的长链化合物、缚酸剂和溶剂配制成溶液，混合液至温度控制在-20～80℃，含碱性基团的长链化合物、缚酸剂和溶剂的摩尔比为1：（1~1.5）：（4~16）；
(2) 在-20～80℃下，搅拌滴加（甲基）丙烯酰氯，滴加时间为1~5h，含碱性基团的长链化合物和（甲基）丙烯酰氯的摩尔比为1：（1~1.2）
(3) 滴加完毕后，继续在-20～80℃下反应2~20h；
(4) 反应完成后至室温，反应液用碳酸钠水溶液洗涤2次，纯水洗涤2次，饱和食盐水洗涤1次，无水硫酸钠干燥、浓缩、蒸馏获得具有碱性基团的（甲基）丙烯酸酯。
上述技术方案中，所述溶剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯、醋酸丁酯、醋酸新戊酯、乳酸乙酯、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇单醋酸醚、丙二醇单乙醚、丙二醇甲醚醋酸酯、二缩乙二醇甲醚、二缩乙二醇乙醚、四氢呋喃、甲基四氢呋喃、三氯甲烷、二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、正己烷、正戊烷、正庚烷、丙酮、环己酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、甲苯、二甲苯、对二甲苯或联苯中的一种或多种。
上述酸扩散抑制剂成膜树脂的制备方法如下：具有碱性基团的（甲基）丙烯酸酯单体溶解溶剂内，在引发剂存在的条件下，进行聚合反应制备而得到，包括以下步骤：
(1) 将碱性基团的（甲基）丙烯酸酯单体溶解在溶剂内，加热混合液至温度为40～90℃，单体与溶剂的摩尔比为1：（4-16）；
(2) 将质量为共聚单体质量的0.3%～15%的引发剂溶解溶剂内，得到预制，引发剂与溶剂的摩尔比为1：（4-16）
(3) 将步骤(2)获得的引发剂溶液滴加到步骤(1)中经预热的含含单体的混合液中，40～90℃恒温回流反应2～30小时；
(4) 反应完成后冷却至室温，用非极性溶剂沉淀树脂，过滤烘干获得酸扩散抑制剂。
上述技术方案中，引发剂为偶氮引发剂、过氧化物的自由基引发剂，优选的偶氮引发剂为偶氮二异丁腈或偶氮二异庚腈，优选的过氧化物的自由基引发剂为叔丁基过氧化特戊酸酯、叔丁氧过氧化氢、苯甲酸过氧化氢或者过氧苯甲酰等；所述引发剂用量为共聚单体总质量的0.3%~15%；引发剂的加入方式为先加入单体和部分溶剂，然后加热至聚合温度，再滴加引发剂溶液。聚合反应的温度根据使用的溶剂和引发剂不同，控制在40~90℃之间，聚合时间同样根据使用的溶剂和引发剂不同，控制在2~30小时之间。
酸扩散抑制剂成膜树脂的共聚反应可在各种溶剂或多种溶剂混合物种进行，这些溶剂包括甲醇、乙醇、二氧六环、丙酮、甲基乙基酮、四氢呋喃、甲基四氢呋喃、苯、甲苯、二甲苯、氯仿、二氯乙烷、三氯乙烷等。
酸扩散抑制剂成膜树脂的共聚反应结束后，可在纯水、甲醇、甲醇/水混合物、乙醇、乙醇/水混合物、异丙醇、异丙醇/水混合物、正庚烷、正己烷、环己烷、正戊烷、石油醚、乙醚、甲基叔丁基醚等有机或无机溶剂种沉淀分离，真空干燥后共聚物的收率为60%~90%。
本发明的酸扩散抑制剂可用于制备光刻胶组合物，所述光刻胶组合物至少由一种酸扩散抑制剂、一种具有酸活性的成膜树脂、一种光敏剂及有机溶剂构成，所述酸扩散抑制剂为上述以（甲基）丙烯酸酯为结构单元，在其中引入碱性基团形成的聚合物树脂；为提高效果，可以加入其它酸抑制剂联合使用。
以质量百分数计，组合物中酸扩散抑制剂的含量为0.001~10%、具有酸活性的成膜树脂的含量为1~20%、光敏剂的含量为0.01~10%，其余为有机溶剂。
光刻胶组合物的配置方法是：在室温下，在一个洁净的玻璃瓶内，按照配方比例先后加入酸活性树脂、光敏剂、酸抑制剂树脂和溶剂，混合物在瓶中避光震荡16～96小时，使其充分溶解；然后先后用0.5微米及以下的尼龙材质和UPE材质的过滤器过滤光刻胶溶液；滤液收集在一个干净的玻璃瓶内，获得所需的光刻胶组合物。完成后进行光刻实验。
上述酸活性树脂是由多个功能基团聚合而成，包含酸活性基团和极性基团。酸活性树脂的结构通式如下：
酸活性成膜树脂的分子量为3000~100000，分子量分布在1.0-3.0之间。其中酸活性基团的单体的含量在30%-70%之间，极性基团的单体含量在70-30%之间。优选的为50：50。
酸活性树脂中含不同取代基的酸敏基团，具体为酸活性（甲基）丙烯酸酯，其结构为符合化学通式中的至少一种单体，具体的酸活性单体结构通式如下：
R1= H、或碳原子数在1-20的碳链。R2=酸敏的四级碳。
具体地，R2是一种碳原子数在6-30之间的四级酯，其和酯键氧原子相连的碳原子的氢原子全部被其它基团取代，其可能的结构为叔丁基酯、取代叔丁基酯、烷基取代的金刚烷酯、烷基取代的金刚烷衍生物酯、烷基取代的降冰片酯、烷基取代的降冰片衍生物酯、烷基取代的环状烷基酯、烷基取代的环状烷基衍生物酯等其中的一种或多种。
酸活性树脂中含1个或多个极性基团，具体为含极性基团的（甲基）丙烯酸酯，其结构为符合化学通式中的至少一种单体，具体的极性单体结构通式如下：
R3= H、或碳原子数在1-20的碳链。R4=含极性基团的（甲基）丙烯酸酯。
具体地，R4为碳原子数在6~30之间含羟基的环状、笼状或直链型含碳结构和各类内酯结构，其可能的结构为含1个或多个独立羟基的金刚烷酯、含1个或多个独立羟基的环己酯、含1个或多个独立羟基的环戊酯、含1个或多个独立羟基的多环酯类化合物、含1个或多个独立羟基的笼状酯类化合物、丁内酯、戊内酯、取代戊内酯、己内酯、取代己内酯、含金刚烷结构的内酯、含多环结构的内酯、含笼状结构的内酯等其中的一种或多种。
酸活性成膜树脂的制备方法如下：共聚单体在自由基引发剂存在的条件下，在溶剂中进行聚合反应制备而成。酸活性成膜树脂的聚合反应中，引发剂为偶氮引发剂、过氧化物的自由基引发剂，优选的偶氮引发剂为偶氮二异丁腈或偶氮二异庚腈，优选的过氧化物的自由基引发剂为叔丁基过氧化特戊酸酯、叔丁氧过氧化氢、苯甲酸过氧化氢或者过氧苯甲酰等；所述引发剂用量为共聚单体总质量的0.3%~15%；引发剂的加入方式为先加入单体和部分溶剂，然后加热至聚合温度，再滴加引发剂溶液。聚合反应的温度根据使用的溶剂和引发剂不同，控制在40～90℃之间，聚合时间同样根据使用的溶剂和引发剂不同,控制在4~32小时之间。
酸活性成膜树脂的共聚反应可在各种溶剂或多种溶剂混合物种进行，这些溶剂包括甲醇、乙醇、二氧六环、丙酮、甲基乙基酮、四氢呋喃、甲基四氢呋喃、苯、甲苯、二甲苯、氯仿、二氯乙烷、三氯乙烷等。
酸活性成膜树脂的共聚反应结束后，可在纯水、甲醇、甲醇/水混合物、乙醇、乙醇/水混合物、异丙醇、异丙醇/水混合物、正庚烷、正己烷、环己烷、正戊烷、石油醚、乙醚、甲基叔丁基醚等有机或无机溶剂种沉淀分离，真空干燥后共聚物的收率为50%~80%。
使用的酸扩散抑制剂为一种含氮化合物，包括伯胺、仲胺和叔胺化合物，特别是具有羟基、醚键、酯键、酰胺键、内酯环、氰基或磺酸酯键的胺化合物，可能为结构二乙胺、三乙胺、乙醇胺、三乙醇胺、苯胺、苯乙胺等脂肪胺或芳香胺中的一种或多种。
包含一种可以溶解上述的酸活性树脂、柔性长链多硫鎓盐光致产酸剂和酸扩散抑制剂的有机溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇单醋酸醚、丙二醇单乙醚、丙二醇甲醚醋酸酯、二缩乙二醇甲醚、二缩乙二醇乙醚、醋酸丁酯、醋酸新戊酯、乳酸乙酯、甲基乙基酮和甲基异丁基酮中的一种或多种。
由于上述技术方案运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：
1、本发明提供了一种以聚合物形式存在的酸扩散抑制剂。它和常规的酸扩散抑制剂一样，同样可以控制非曝光区的光酸扩散；同时区别于其它小分子有机碱，能更有效改善本身在光刻胶内的分布，提高光刻胶分辨率和线宽粗糙度，改善光刻胶的成膜能力。
2、相比于有机碱类抑制剂，聚合物形式存在的酸扩散抑制剂在水中溶解性较低，该类树脂型酸扩散抑制剂在浸没式光刻时，可以降低光刻胶浸析率，避免光刻机镜头沾污。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步描述：
实施例一：一种具有碱性基团的（甲基）丙烯酸酯的
制备方法如下：在一个配备带冷却的圆底烧瓶中，加入N，N-二甲基乙醇胺、三乙胺34g和150g二氯甲烷，混合液冷却到0℃。然后在搅拌下滴加28g（甲基）丙烯酰氯，析出大量固体。加完后，继续搅拌2h。接着使反应液缓慢升至室温，使用饱和碳酸钠水溶液洗涤2次，每次200mL；接着150mL纯水洗涤2次；最后150mL饱和食盐水洗涤一次。有机相无水硫酸钠干燥、浓缩、蒸馏得到27gN，N-二甲基乙醇基（甲基）丙烯酸酯, 产率76%。核磁结果：1H NMR（CDCl3，δ）2.11，s，3H；2.96，s，6H; 3.44，t，2H; 4.43，t，2H; 5.5，s，1H；6.5，s，1H。
实施例二：一种含碱性基团的酸扩散抑制剂成膜树脂，由下列共聚单体，在自由基引发剂存在的条件下，通过加热进行共聚反应制备而成：
制备方法如下：在一个配备带加热的电磁搅拌器、冷凝管、温度计的500mL四口瓶中加入50g N,N-二甲基乙胺基甲基丙烯酸酯和甲乙酮300g。混合物在氮气下搅拌10分钟，然后加热至65~70℃。然后在10分钟内向反应体系滴加2.5g偶氮二异丁腈（AIBN）和50g的甲乙酮溶液。加完后继续反应回流8~12h，然后冷却到室温。混合物在电子级正己烷中沉淀、抽滤。聚合物固体用200g电子级丙酮溶解，重新在电子级正己烷中沉淀，过滤干燥后得聚合物固体，收率70%，分子量为2465，分子量分布为1.45。
实施例三：本实施例为本发明的应用实施例，调制一种含酸扩散抑制剂树脂的正性化学增幅性光刻胶，其配方组成如下：
酸扩散抑制剂树脂为实施例二中的树脂。
酸活性树脂为包含2种酸活性基团和2种极性基团，比例为50：50。
光敏剂为全氟丁基磺酸三苯基硫鎓盐。
溶剂为PGMEA：PGME=6：4。
具体配方调制方法：
在一个新的干净的100mL玻璃瓶中，加入8.5g酸活性树脂、0.21g全氟丁基磺酸三苯基硫鎓盐、0.06g酸扩散抑制剂树脂、54gPGMEA、36gPGME。室温下，混合物在瓶中震荡24小时，使其充分溶解。然后先后用0.22微米和0.02微米的过滤器过滤光刻胶溶液。完成后进行光刻实验。
光刻实验方法：上述配制的光刻胶在8”硅片上以2000~3000转/分钟的速度旋转成膜，120℃热板上烘烤90秒，然后在曝光机上曝光，曝光强度10-50mJ/cm2。曝光后在110℃热板上烘烤90秒，最后在2.38%TMAH显影液中显影60秒，然后烘干在电子显微镜检测光刻结果。
本发明提供的酸扩散抑制剂树脂是一种高分子型的酸抑制剂，可以很好控制非曝光区的光酸扩散；同时在光刻胶中分布良好，且不容易在镜头液体内析出，在ArF光刻胶配方中具有良好的应用前景。

Claims (10)

1. 一种酸扩散抑制剂，其特征在于：它是以（甲基）丙烯酸酯为结构单元，在其中引入碱性基团形成的聚合物树脂，其结构通式为（I）或（II）：
（I） 、 （II）
式中，n为2～30的整数，n的选择使得重均分子量在100～30000g/mol之间；na是亚烷基的碳原子数，na为1～20；R1、R2是氢、碳原子数为1～20之间的烷基、芳基或含硫、氧、氮杂原子的取代基中的一种或多种。
2.根据权利要求1所述的酸扩散抑制剂，其特征在于：R1、R2是碳原子数为1～20之间的直链烷基、环烷基或芳基中的一种或多种。
3.根据权利要求1或2所述的酸扩散抑制剂，其特征在于：R1、R2和N原子构成的含氮官能团的结构选自：
、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、。
4.权利要求1-3中任一酸扩散抑制剂的制备方法，其特征在于：所述酸扩散抑制剂是由具有碱性基团的（甲基）丙烯酸酯单体溶解于溶剂内，在引发剂存在的条件下，进行聚合反应制备而得到，包括以下步骤：
(1) 将碱性基团的（甲基）丙烯酸酯单体溶解于溶剂内，加热混合液至温度为40～90℃，单体与溶剂的摩尔比为1：（4～16）；
(2) 将质量为共聚单体质量的0.3%～15%的引发剂溶解于溶剂内，得到引发剂溶液，引发剂与溶剂的摩尔比为1：（4～16）；
(3) 将步骤(2)获得的引发剂溶液滴加到步骤(1)中经预热的含单体的混合液中，40～90℃恒温回流反应2～30小时；
(4) 反应完成后冷却至室温，用非极性溶剂沉淀树脂，过滤烘干获得酸扩散抑制剂。
5.根据权利要求4所述的酸扩散抑制剂的制备方法，其特征在于：所述引发剂为偶氮二异丁腈、偶氮二异庚腈、叔丁基过氧化特戊酸酯、叔丁氧过氧化氢、苯甲酸过氧化氢或过氧苯甲酰中的一种或多种；
所述溶剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯、醋酸丁酯、醋酸新戊酯、乳酸乙酯、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇单醋酸醚、丙二醇单乙醚、丙二醇甲醚醋酸酯、二缩乙二醇甲醚、二缩乙二醇乙醚、四氢呋喃、甲基四氢呋喃、三氯甲烷、二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、正己烷、正戊烷、正庚烷、丙酮、环己酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、甲苯、二甲苯、对二甲苯或联苯中的一种或多种；
所述具有碱性基团的（甲基）丙烯酸酯的结构通式为（III）或（IV）：
（III）、 （IV）
式中，nb是亚烷基的碳原子数，nb为1～20；R1、R2是氢、碳原子数为1～20之间的烷基、芳基或含硫、氧、氮杂原子的取代基中的一种或多种。
6.根据权利要求5所述的酸扩散抑制剂的制备方法，其特征在于：R1、R2是碳原子数为1～20之间的直链烷基、环烷基或芳基中的一种或多种。
7.根据权利要求5或6所述的酸扩散抑制剂的制备方法，其特征在于：具有碱性基团的（甲基）丙烯酸酯其结构中含有长链和碱性官能团，结构如下：
。
8.根据权利要求7所述的酸扩散抑制剂的制备方法，其特征在于：所述具有碱性基团的（甲基）丙烯酸酯是由含碱性基团的长链化合物在缚酸剂的作用下，和（甲基）丙烯酰氯反应制备而得到，包括以下步骤：
(1) 将含碱性基团的长链化合物、缚酸剂和溶剂配制成溶液，混合液至温度控制在-20～80℃，含碱性基团的长链化合物、缚酸剂和溶剂的摩尔比为1：（1~1.5）：（4~16）；
(2) 在-20～80℃下，搅拌滴加（甲基）丙烯酰氯，滴加时间为1~5h，含碱性基团的长链化合物和（甲基）丙烯酰氯的摩尔比为1：（1~1.2）；
(3) 滴加完毕后，继续在-20～80℃下反应2~20h；
(4) 反应完成后至室温，反应液用碳酸钠水溶液洗涤2次，纯水洗涤2次，饱和食盐水洗涤1次，无水硫酸钠干燥、浓缩、蒸馏获得具有碱性基团的（甲基）丙烯酸酯；
其中，所述溶剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯、醋酸丁酯、醋酸新戊酯、乳酸乙酯、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇单醋酸醚、丙二醇单乙醚、丙二醇甲醚醋酸酯、二缩乙二醇甲醚、二缩乙二醇乙醚、四氢呋喃、甲基四氢呋喃、甲醇、乙醇、叔丁醇、异丙醇、丙酮、环己酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、甲苯、二甲苯、对二甲苯或联苯中的一种或多种。
9.一种光刻胶组合物，其特征在于：所述光刻胶组合物中，至少包含一种权利要求1至3中任一所述酸扩散抑制剂、一种具有酸活性的成膜树脂、一种光敏剂及有机溶剂。
10.根据权利要求9所述的光刻胶组合物，其特征在于：所述光刻胶组合物还包含其它酸抑制剂，选自正丁基胺、叔丁基胺、二甲基胺、二乙基胺、二正丙胺、二异丙基胺、二正丁基胺、二异丁基胺、二叔丁基胺、三甲基胺、三乙基胺、三正丙胺、三异丙基胺、三正丁基胺、三异丁基胺、三叔丁基胺、乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、环戊胺、环己胺、吗啡啉、N-甲基环戊胺、甲基苯胺、乙基苯胺、正丁基苯胺、叔丁基苯胺、二甲基苯胺、二乙基苯胺、二丁基苯、二苯基苯胺中的一种或多种。
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