CN109857276A - 一种降低金属网格触摸屏线条可见性结构和方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种降低金属网格触摸屏线条可见性结构和方法，降低金属网格触摸屏线条可见性结构包括玻璃层；玻璃层的上端面涂布有遮光层；遮光层的上端面溅射有氮化硅层；氮化硅层的上端面溅射有金属合金层；金属合金层的上端面涂有光学涂层；通过采用以上技术方案，可以降低金属网格的反射率，调整金属网格的颜色，且不会影响非金属网格区域的反射率。
Description
技术领域
本发明属于金属网格触摸屏处理技术领域，具体涉及一种降低金属网格触摸屏线条可见性结构和方法。
背景技术
现有的金属网格触摸屏线条是钼铝钼金属合金，钼铝钼合金的反射率高达60%以上；因此，为了降低钼铝钼金属的反射率，常常采用反应型溅射在钼金属溅射过程中通入氧气，生成氧化钼合金，最终合金的叠层为：氧化钼---铝---氧化钼，该合金叠层的反射率在可见光范围内为15%以上，但是该合金在蓝光区的反射率较高，在熄屏状态下显示区域呈现蓝色、影响一体黑的问题。
基于上述金属网格触摸屏中存在的技术问题，尚未有相关的解决方案；因此迫切需要寻求有效方案以解决上述问题。
发明内容
本发明的目的是针对上述技术中存在的不足之处，提出一种降低金属网格触摸屏线条可见性结构和方法，旨在金属网格触摸屏显示区域颜色的问题。
本发明提供一种降低金属网格触摸屏线条可见性结构，包括玻璃层；玻璃层的上端面涂布有遮光层；遮光层的上端面溅射有氮化硅层；氮化硅层的上端面溅射有金属合金层；金属合金层的上端面涂有光学涂层。
进一步地，氮化硅层的上端面溅射有多层金属合金层和涂有多层光学涂层；多层金属合金层和多层光学涂层间隔设置于氮化硅层的上端面。
进一步地，玻璃层整面溅射有氮化硅层，氮化硅层的厚度为5mm至16mm。
进一步地，金属合金层为氧化钼—铝—氧化钼层。
进一步地，遮光层为黑色曝光油墨层。
进一步地，光学涂层为亚克力树脂层。
相应地，结合上述方案，如图1至图2所示，本发明还提供一种降低金属网格触摸屏线条可见性的方法，包括以下步骤：
S1：先在玻璃层上端面涂布遮光层，并进行黄光制程制作图案；
S2：再在玻璃层整个上端面溅射氮化硅层；
S3：再在氮化硅层上端面溅射金属合金层，并进行黄光制程制作网格图案；
S4：再在金属合金层上端面涂有光学涂层，并进行黄光制程制作图案。
进一步地，S4步骤后还包括以下步骤：
S5：重复所述S3和所述S4步骤，在氮化硅层的上端面涂有多层金属合金层和多层光学涂层。
进一步地，S2步骤中，氮化硅层的厚度为5mm至16mm。
进一步地，金属合金层为氧化钼—铝—氧化钼层。
通过采用以上技术方案，可以降低金属网格的反射率，调整金属网格的颜色，且不会影响非金属网格区域的反射率。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
以下将结合附图对本发明作进一步说明：
图1 为本发明一种降低金属网格触摸屏线条可见性结构；
图2 为本发明一种降低金属网格触摸屏线条可见性方法。
图中：1、玻璃层；2、遮光层；3、氮化硅层；4、金属合金层；5、光学涂层；6、金属合金层；7、光学涂层。
具体实施方式
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接或彼此可通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
如图 1所示，本发明提供一种降低金属网格触摸屏线条可见性结构，该降低金属网格触摸屏线条可见性结构具体可应用于手机或ipad中；降低金属网格触摸屏线条可见性结构包括玻璃层1；玻璃层1的上端面涂布有遮光层2；遮光层2的上端面溅射有氮化硅层3；氮化硅层3的上端面溅射有金属合金层4，即氮化硅层3和金属合金层4都是通过磁控溅射的方式设置上去；金属合金层4的上端面涂有光学涂层5；采用上述方案，可以降低金属网格的反射率，调整金属网格的颜色，且不会影响非金属网格区域的反射率。
优选地，结合上述方案，如图 1所示，本实施例中，氮化硅层3的上端面溅射有多层金属合金层4和涂有多层光学涂层5；多层金属合金层4和多层光学涂层5间隔设置于氮化硅层3的上端面；采用上述方案，能够进一步降低金属网格的反射率，调整金属网格的颜色，且不会影响非金属网格区域的反射率。
优选地，结合上述方案，如图 1所示，本实施例中，玻璃层1的整面溅射有氮化硅层3，并且氮化硅层3的厚度为5mm至16mm，这个厚度的氮化硅不会影响玻璃原来的透过率。
优选地，结合上述方案，如图 1所示，本实施例中，金属合金层4为氧化钼—铝—氧化钼层；采用上述方案，在氧化钼-铝-氧化钼的基础上进一步降低反射率，改善熄屏状态下显示屏区域的颜色问题，提升一体黑效果。
优选地，结合上述方案，如图 1所示，本实施例中，遮光层2为黑色曝光油墨层，该黑色油墨层可用于遮蔽金属走线，提高触摸屏整体结构紧凑性及性能。
优选地，结合上述方案，如图 1所示，本实施例中，光学涂层7为亚克力树脂层，该亚克力树脂层可以通过曝光方式做出图案，透明、绝缘的亚克力树脂层材料，可以隔绝上下的功能层。
相应地，结合上述方案，如图1至图2所示，本发明还提供一种降低金属网格触摸屏线条可见性的方法，包括以下步骤：
S1：先在玻璃层上端面涂布遮光层，并进行黄光制程制作图案；黄光制程制作图案具体过程包括：通过涂布--预固化---曝光--显影---固化的方式做出图案，此过程称为黄光过程；
S2：再在玻璃层整个上端面溅射氮化硅层；
S3：再在氮化硅层上端面溅射金属合金层，并进行黄光制程制作网格图案；黄光制程制作网格图案具体包括：涂胶--预固化--曝光---显影--固化--酸刻--脱膜；
S4：再在金属合金层上端面涂有光学涂层，并进行黄光制程制作图案；黄光制程制作图案通过涂布--预固化---曝光--显影---固化的方式做出图案，此过程称为黄光过程。
优选地，结合上述方案，如图1至图2所示，本实施例中，所述S4步骤后还包括以下步骤：
S5：重复所述S3和所述S4步骤，在所述氮化硅层的上端面涂有多层金属合金层和多层光学涂层；采用上述方案，能够进一步降低金属网格的反射率，调整金属网格的颜色，且不会影响非金属网格区域的反射率。
优选地，结合上述方案，如图1至图2所示，本实施例中，所述S2步骤中，所述氮化硅层的厚度为5mm至16mm，这个厚度的氮化硅不会影响玻璃原来的透过率。
优选地，结合上述方案，如图1至图2所示，本实施例中，金属合金层为氧化钼—铝—氧化钼层；采用上述方案，能够进一步降低金属网格的反射率，调整金属网格的颜色，且不会影响非金属网格区域的反射率。
通过采用以上技术方案，可以降低金属网格的反射率，调整金属网格的颜色，且不会影响非金属网格区域的反射率。
以上所述，仅为本发明的较佳实施例，并非对本发明做任何形式上的限制。任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述所述技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术对以上实施例所做的任何改动修改、等同变化及修饰，均属于本技术方案的保护范围。
Claims (10)
1.一种降低金属网格触摸屏线条可见性结构，其特征在于，包括玻璃层；所述玻璃层的上端面涂布有遮光层；所述遮光层的上端面涂溅射有氮化硅层；所述氮化硅层的上端面溅射有金属合金层；所述金属合金层的上端面涂有光学涂层。
2.根据权利要求1所述的降低金属网格触摸屏线条可见性结构，其特征在于，所述氮化硅层的上端面溅射有多层金属合金层和涂有多层光学涂层；多层所述金属合金层和多层所述光学涂层间隔设置于所述氮化硅层的上端面。
3.根据权利要求1所述的降低金属网格触摸屏线条可见性结构，其特征在于，所述玻璃层整面溅射有氮化硅层，所述氮化硅层的厚度为5mm至16mm。
4.根据权利要求1所述的降低金属网格触摸屏线条可见性结构，其特征在于，所述金属合金层为氧化钼—铝—氧化钼层。
5.根据权利要求1所述的降低金属网格触摸屏线条可见性结构，其特征在于，所述遮光层为黑色曝光油墨层。
6.根据权利要求1所述的降低金属网格触摸屏线条可见性结构，其特征在于，所述光学涂层为亚克力树脂层。
7.一种降低金属网格触摸屏线条可见性的方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1：先在玻璃层上端面涂布遮光层，并进行黄光制程制作图案；
S2：再在玻璃层整个上端面溅射氮化硅层；
S3：再在氮化硅层上端面溅射金属合金层，并进行黄光制程制作网格图案；
S4：再在金属合金层上端面涂有光学涂层，并进行黄光制程制作图案。
8.根据权利要求7所述的降低金属网格触摸屏线条可见性的方法，其特征在于，所述S4步骤后还包括以下步骤：
S5：重复所述S3和所述S4步骤，在所述氮化硅层的上端面涂有多层金属合金层和多层光学涂层。
9.根据权利要求7所述的降低金属网格触摸屏线条可见性的方法，其特征在于，所述S2步骤中，所述氮化硅层的厚度为5mm至16mm。
10.根据权利要求7所述的降低金属网格触摸屏线条可见性的方法，其特征在于，所述金属合金层为氧化钼—铝—氧化钼层。
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