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CN109507827B - 显示面板制作方法、显示面板制作装置和显示面板 - Google Patents

显示面板制作方法、显示面板制作装置和显示面板 Download PDF

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CN109507827B CN201811616625.5A CN201811616625A CN109507827B CN 109507827 B CN109507827 B CN 109507827B CN 201811616625 A CN201811616625 A CN 201811616625A CN 109507827 B CN109507827 B CN 109507827B
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Abstract

本发明公开了一种显示面板制作方法、显示面板制作装置和显示面板,其中,所述显示面板制作方法包括以下步骤:提供一基板;在所述基板上采取图案化方式依次涂布多层彩色光阻,而所述彩色光阻覆盖于所述基板的透光区域和非透光区域;在所述涂布彩色光阻层的基板上涂布感光材料;图案化所述感光材料后在所述非透光区形成隔垫层,其中,所述隔垫层包括隔垫区和遮光区,所述隔垫区的高度大于遮光区的高度。本发明减少了一道制程,且需要的光罩的数量会减少一种类型,提高了制作显示面板的过程,节省了时间提高了效率,节省了成本。

Description

显示面板制作方法、显示面板制作装置和显示面板
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及显示面板制作方法、显示面板制作装置和显示面板。
背景技术
目前,液晶显示装置一般采用VA(Vertical Alignment liquid crystal,垂直排列液晶)型广视角技术的显示面板,VA包括PVA(Patterned Vertical Alignment,图像垂直调整)和MVA(Multi-domain Vertical Alignment,多象限垂直配向技术)两种。由于PVA技术的液晶面板的综合素质远远高于MVA,因此PVA技术已成为了VA面板技术中的主流。
在现有的PVA技术中,一般需要五道制程来完成彩色滤光片基板的制作,即BM(Black Matrix,黑色矩阵)、R(红色)、G(绿色)、B(蓝色)和PS(Photo Spacer,间隙子)。由于上述的五道制程均需要进行光阻涂布、烘烤、曝光、显影和清洗再烘干等步骤,这种情况下显示面板的制程复杂,花费时间长,且成本较高。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种显示面板制作方法、显示面板制作装置和显示面板,旨在实现减少显示面板制作工序,提高效率节省成本的目的。
为实现上述目的,本发明一方面提供一种显示面板制作方法,所述显示面板制作包括以下步骤:
提供一基板;
在所述基板上采取图案化方式依次涂布多层彩色光阻,而所述彩色光阻覆盖于所述基板的透光区域和非透光区域;
在所述涂布彩色光阻层的基板上涂布感光材料;
图案化所述感光材料后在所述非透光区形成隔垫层,其中,所述隔垫层包括隔垫区和遮光区,所述隔垫区的高度大于遮光区的高度。
可选地,所述在所述基板上采取图案化方式依次涂布多层彩色光阻,而所述彩色光阻覆盖于所述基板的透光区域和非透光区域包括:
在所述基板上采取图案化方式依次涂布多层彩色光阻,所述彩色光阻覆盖于所述基板的透光区域和部分非透光区域。
可选地,在所述部分非透光区域形成至少一层彩色光阻层。
可选地,所述隔垫区包括主隔垫区和辅隔垫区,所述部分非透光区域对应主隔垫区的部分覆盖至少两层彩色光阻层,所述部分非透光区域对应辅隔垫区的部分覆盖至少一层彩色光阻层,其中,所述主隔垫区对应的非透光区域的光阻层的层数大于辅隔垫区对应的非透光区域的光阻层的层数。
可选地,所述隔垫区形成于所述部分非透光区域的彩色光阻上。
可选地,所述在所述涂布彩色光阻层的基板上涂布感光材料的步骤之前,在所述基板上采取图案化方式依次涂布多层彩色光阻,而所述彩色光阻覆盖于所述基板的透光区域和非透光区域之后,所述方法,还包括:
在所述基板上形成像素电极。
可选地,所述多层彩色光阻包括红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻。
此外,为实现上述目的,本发明另一方面还提供一种显示面板制作装置,所述显示面板制作装置包括:存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的计算机程序,所述计算机程序被所述处理器执行时实现如上所述的方法的步骤。
此外,为实现上述目的,本发明再一方面还提供一种显示面板,所述显示面板包括:
阵列基板;
彩膜基板,与阵列基板对向设置;
液晶层,填充于所述阵列基板和所述彩膜基板之间,其中,所述彩膜基板为上述显示面板制作方法制作而成。
可选地,所述彩膜基板的非透光区域上形成有彩色光阻层和隔垫层,其中,所述隔垫层包括隔垫区和遮光区,所述隔垫区的高度大于遮光区的高度;所述隔垫物层包括主隔垫物层和辅隔垫物层,所述主隔垫物层对应的光阻层的高度大于辅隔垫物层对应的光阻层的高度。
本发明通过在基板上先形成显示面板所需的彩色光阻层,再在形成光阻层的基板上制作感光材料层,以形成遮光层和隔垫物层,无需五道制程来完成显示面板的制作,减少了一道制程,且需要的光罩的数量会减少一种类型,提高了制作显示面板的过程,节省了时间提高了效率,节省了成本。
附图说明
图1为本发明一实施例方案涉及的硬件运行环境的显示装置的结构示意图;
图2为本发明显示面板制作方法的一实施例的流程示意图;
图3为本发明一实施例中在所述基板上采取图案化方式依次涂布多层彩色光阻的流程示意图;
图4为本发明一实施例中制作的显示面板的架构示意图;
图5为本发明另一实施例中制作的显示面板的架构示意图;
图6为本发明显示面板制作方法的另一实施例的流程示意图;
图7为本发明显示面板一实施例的架构示意图。
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
本发明实施例的主要解决方案是:提供一基板;在所述基板上采取图案化方式依次涂布多层彩色光阻,而所述彩色光阻覆盖于所述基板的透光区域和非透光区域;在所述涂布彩色光阻层的基板上涂布感光材料;图案化所述感光材料后在所述非透光区形成隔垫层,其中,所述隔垫层包括隔垫区和遮光区,所述隔垫区的高度大于遮光区的高度。
由于目前的显示面板制作的五道制程均需要进行光阻涂布、烘烤、曝光、显影和清洗再烘干等步骤,这种情况下显示面板的制程复杂,花费时间长,且成本较高的问题。本发明提供一种解决方案,在基板上先形成显示面板所需的彩色光阻层,再在形成光阻层的基板上制作感光材料层,以形成遮光层和隔垫物层,无需五道制程来完成显示面板的制作,减少了一道制程,且需要的光罩的数量会减少一种类型,提高了制作显示面板的过程,节省了时间提高了效率,节省了成本。
如图1所示,图1是本发明实施例方案涉及的硬件运行环境的显示装置结构示意图。
如图1所示,该显示装置可以包括:处理器1001,例如CPU,网络接口1004,用户接口1003,存储器1005,通信总线1002。其中,通信总线1002用于实现这些组件之间的连接通信。用户接口1003可以包括显示屏(Display)、输入单元比如键盘(Keyboard),可选地,用户接口1003还可以包括标准的有线接口或无线接口。网络接口1004可选的可以包括标准的有线接口、无线接口(如WI-FI接口)。存储器1005可以是高速RAM存储器,也可以是稳定的存储器(non-volatile memory),例如磁盘存储器。可选地,存储器1005还可以是独立于前述处理器1001的存储装置。
可选地,显示装置还可以包括摄像头、RF(Radio Frequency,射频)电路、传感器、音频电路或WiFi模块等等。
本领域技术人员可以理解,图1中示出的终端结构并不构成对检测装置的限定,可以包括比图示更多或更少的部件,或者组合某些部件,或者不同的部件布置。所述显示装置可以是液晶显示装置,也可以是手机、pad(平板)或者电视等具有显示功能和/或处理功能的设备。
如图1所示,作为一种计算机可读存储介质的存储器1005中可以包括操作系统、网络通信模块、用户接口模块以及显示面板制作应用程序。
在图1所示的终端中,网络接口1004主要用于连接后台服务器,与后台服务器进行数据通信;用户接口1003主要用于连接客户端(用户端),与客户端进行数据通信;而处理器1001可以用于调用存储器1005中存储的显示面板制作应用程序,并执行以下操作:
提供一基板;
在所述基板上采取图案化方式依次涂布多层彩色光阻,而所述彩色光阻覆盖于所述基板的透光区域和非透光区域;
在所述涂布彩色光阻层的基板上涂布感光材料;
图案化所述感光材料后在所述非透光区形成隔垫层,其中,所述隔垫层包括隔垫区和遮光区,所述隔垫区的高度大于遮光区的高度。
可选地,处理器1001可以用于调用存储器1005中存储的显示面板制作应用程序,并执行以下操作:
在所述基板上采取图案化方式依次涂布多层彩色光阻,所述彩色光阻覆盖于所述基板的透光区域和部分非透光区域。
可选地,在所述部分非透光区域形成至少一层彩色光阻层。
可选地,所述隔垫区包括主隔垫区和辅隔垫区,所述部分非透光区域对应主隔垫区的部分覆盖至少两层彩色光阻层,所述部分非透光区域对应辅隔垫区的部分覆盖至少一层彩色光阻层,其中,所述主隔垫区对应的非透光区域的光阻层的层数大于辅隔垫区对应的非透光区域的光阻层的层数。
可选地,所述隔垫区形成于所述部分非透光区域的彩色光阻上。
可选地,所述在所述涂布彩色光阻层的基板上涂布感光材料的步骤之前,在所述基板上采取图案化方式依次涂布多层彩色光阻,而所述彩色光阻覆盖于所述基板的透光区域和非透光区域之后,处理器1001可以用于调用存储器1005中存储的显示面板制作应用程序,并执行以下操作:
在所述基板上形成像素电极。
可选地,所述多层彩色光阻包括红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻。
参照图2,本发明的一实施例提供一种显示面板制作方法,所述显示面板制作方法包括:
步骤S10,提供一基板;
在本实施例中,TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)之所以能显示不同的颜色与画面,是因为显示面板内有很多个R红色像素、G绿色像素、B蓝色像素组成的像素矩阵,这3个像素的组合可以在不同亮度下显示出不同的颜色。配合像素显示的需要提供背光源,背光源给出光线,然后透过液晶和像素产生需要的颜色,也可以是自主发光不需要背光源。而本申请的显示面板不仅局限于液晶显示面板,还可以是其他显示面板,例如:自主发光的显示面板。
可选地,所述基板为玻璃基板,提供的基板为清洗过后的基板,清洗基板的方式可以采取本领域中常用的清洗方式来清洗,例如,酸洗或水洗等保持基板处于无尘状态。
步骤S20,在所述基板上采取图案化方式依次涂布多层彩色光阻,而所述彩色光阻覆盖于所述基板的透光区域和非透光区域;
在所述基板清洗干净后,依次在所述基板上采取图案化的方式涂布多层彩色光阻层,图案化后,在显示面板的显示区域形成显示所需要的厚度的彩色光阻层,形成光阻层的方式为烘烤、曝光、显影和清洗再烘干;图案化的方式为通过光罩在不同位置设置不同的穿透率,即透光率不同,而对形成的光阻区域有不同的光照强度的照射,在经过光罩的曝光后,在显示区域形成显示所需要的光阻层,所述多层彩色光阻层在不同显示区域位置形成不同颜色的光阻层,显示区域形成光阻层的位置只有一层光阻层。当然也可以在最后涂布的一层彩色光阻层(需要留下这层彩色光阻层)所在的显示区域留下至少2层彩色光阻层。所述多层彩色光阻层包括红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻的至少两种彩色光阻。制作过程中,先涂布一层光阻层,图案化在需要留下该层颜色的显示区域形成像素;再完成第一颜色的制作后,再完成另外颜色的涂布,都是单独涂布制作完成。
显示区域的光阻层也可以是两层或者是3层,根据需要设置。
通过上述的实施例,可形成的彩色光阻层的分布可以是:1、非透光区域和透光区域均形成了彩色光阻层,非透光区域有的位置有多层光阻层,有的位置只有一层光阻层;2、只有透光区域形成了光阻层,有的位置是多层光阻层,有的位置是一层光阻层。
步骤S30,在所述涂布彩色光阻层的基板上涂布感光材料;
所述感光材料为可以遮光的材料,例如,可以是BM,或者是金属等。在完成彩色光阻层的涂布后,即,在显示区域(透光区域)和非显示区域(非透光区域)完成彩色光阻层的涂布后,在所述涂布彩色光阻层的基板上涂布感光材料,所涂布的感光材料是不透光的,以形成遮光层和隔垫物层。
步骤S40,图案化所述感光材料后在所述非透光区形成隔垫层,其中,所述隔垫层包括隔垫区和遮光区,所述隔垫区的高度大于遮光区的高度。
在涂布感光材料后,图案化所述感光材料,在所述非透光区形成隔垫层,即,在需要生成隔垫层的区域生成隔垫物层,而在需要生成遮光层的区域生成遮光层,而这种控制是通过图案化的方式,光罩设计来完成。形成的隔垫层包括隔垫区和遮光区,所述隔垫区的感光材料的高度大于遮光区的高度。这里的遮光层和隔垫区的隔垫物层是由一道制程完成,只是在不同区域形成所需要的BM黑色矩阵层和隔垫物层,之前BM和隔垫物层PS均需要单独制程完成,减少了制程。
本实施例通过在基板上先形成显示面板所需的彩色光阻层,再在形成光阻层的基板上制作感光材料层,以形成遮光层和隔垫物层,无需五道制程来完成显示面板的制作,减少了一道制程,且需要的光罩的数量会减少一种类型,提高了制作显示面板的过程,节省了时间提高了效率,节省了成本。
在一实施例中,参考图3,所述在所述基板上采取图案化方式依次涂布多层彩色光阻,而所述彩色光阻覆盖于所述基板的透光区域和非透光区域包括:
步骤S21,在所述基板上采取图案化方式依次涂布多层彩色光阻,所述彩色光阻覆盖于所述基板的透光区域和部分非透光区域。
在显示区域形成光阻层的同时,会在非显示区域,即,非透光区域也形成光阻层。也就是说,所述彩色光阻层覆盖于所述基板的透光区域和非透光区域,其中,在非透光区域形成的彩色光阻层为至少一层彩色光阻层。
在非透光区域覆盖的光阻层的厚度不同,且所覆盖的非透光区域为部分的非透光区域,在涂布遮光层的区域显影后不留下彩色光阻层;而在制作隔垫物区的非透光区域部分留下彩色光阻层,且留下至少一层彩色光阻层,即,所述隔垫区形成于所述部分非透光区域的彩色光阻层上。所述隔垫区包括主隔垫区和辅隔垫区,所述部分非透光区域对应主隔垫区的部分覆盖至少两层彩色光阻层,所述部分非透光区域对应辅隔垫区的部分覆盖至少一层彩色光阻层,其中,所述主隔垫区对应的非透光区域的光阻层的层数大于辅隔垫区对应的非透光区域的光阻层的层数。可选地,在非透光区域形成隔垫物的显示面板的架构示意图,参考图4,所述黑色矩阵和隔垫物层都是同一制程形成,而形成的隔垫物层的高度相同,显示面板的液晶层的厚度由形成于隔垫物层下的彩色光组层的厚度或者层数来形成。
可选地,可以在主隔垫区和辅隔垫区的部分都留下一层或者多层(相同层数的光阻层)光阻层,但留下的彩色光阻层总的厚度不同,而在制作隔垫物层时,在主隔垫区和辅隔垫区的高度相同。可选地,在透光区域形成隔垫物层的显示面板的架构示意图,参考图5,通过在透光区域的叠加多层彩色光阻层,在光阻层上形成隔垫物层,隔垫物层的高度一致,而通过彩色光阻层的厚度不同或者层数不同来形成主隔垫物和辅隔垫物层的高度差。
当然,可以理解的是,在所述非透光区域不形成彩色光阻层,即,彩色光阻层不覆盖非透光区域,只是在显示区域范围需要的区域留下彩色光阻层。
在显示区域中的其中一种颜色的彩色光阻层覆盖的区域,形成多层彩色光阻层,而该多层彩色光阻层的部分形成主隔垫层,而在需要形成辅隔垫层的区域形成一层光阻层,通过多层的彩色光阻层使得加上隔垫物层后,支撑起的基板高度不同,即,形成的液晶填充的厚度不同,通过彩色光阻层厚度的不同来形成不同的隔垫高度,而涂布形成的隔垫物层的高度一致;在非透光区域形成遮光层,避免漏光。
本实施例通过彩色光阻层的厚度结合隔垫物层的高度来支撑显示面板的厚度,而制作相同的隔垫物层的高度,使得光罩制作成本降低,节省了显示面板制作的成本。
在一实施例中,参考图6,所述在所述涂布彩色光阻层的基板上涂布感光材料的步骤之前,在所述基板上采取图案化方式依次涂布多层彩色光阻,而所述彩色光阻覆盖于所述基板的透光区域和非透光区域之后,所述方法,还包括:
步骤S50,在所述基板上形成像素电极。
在形成彩色光阻层后,涂布导电材料,图案化后,在彩色光阻层上形成像素电极,而所述像素电极为ITO层,即,为氧化铟锡层。而隔垫物的感光材料在完成像素电极制作后完成。通过像素电极产生倾斜电场控制液晶的偏转,进而显示不同的颜色,保证显示效果。
本申请还提出一种显示面板制作装置,所述显示面板制作装置包括:存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的计算机程序,所述计算机程序被所述处理器执行时实现如上实施例所述的方法的步骤。
本申请还提出一种显示面板,参考图7,所述显示面板包括:
阵列基板10;
彩膜基板20,与阵列基板10对向设置;
液晶层30,填充于所述阵列基板10和所述彩膜基板20之间,所述彩膜基板由上述的显示面板制作方法制作而成。所述彩膜基板20的非透光区域上形成有彩色光阻层和隔垫层,所述隔垫层包括隔垫区和遮光区,所述隔垫区的高度大于遮光区的高度。所述隔垫物层包括主隔垫物层和辅隔垫物层,所述主隔垫物层对应的光阻层的高度大于辅隔垫物层对应的光阻层的高度,BM黑色矩阵和隔垫物层是由一道制程完成。本实施例的显示面板通过在基板上先形成显示面板所需的彩色光阻层,再在形成光阻层的基板上制作感光材料层,以形成遮光层和隔垫物层,无需五道制程来完成显示面板的制作,减少了一道制程,且需要的光罩的数量会减少一种类型,提高了制作显示面板的过程,节省了时间提高了效率,节省了成本。
此外,本发明实施例还提出一种计算机可读存储介质,计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质上存储有显示面板制作程序,所述显示面板制作程序被处理器执行时实现如上实施例所述的显示面板制作方法。
需要说明的是,在本文中,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者系统不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者系统所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括该要素的过程、方法、物品或者系统中还存在另外的相同要素。
上述本发明实施例序号仅仅为了描述,不代表实施例的优劣。
通过以上的实施方式的描述,本领域的技术人员可以清楚地了解到上述实施例方法可借助软件加必需的通用硬件平台的方式来实现,当然也可以通过硬件,但很多情况下前者是更佳的实施方式。基于这样的理解,本发明的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分可以以软件产品的形式体现出来,该计算机软件产品存储在如上所述的一个计算机可读存储介质(如ROM/RAM、磁碟、光盘)中,包括若干指令用以使得一台终端设备(可以是手机,计算机,服务器,空调器,或者网络设备等)执行本发明各个实施例所述的方法。
以上仅为本发明的优选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种显示面板制作方法,其特征在于,所述显示面板制作方法包括以下步骤:
提供一基板;
在所述基板上采取图案化方式依次涂布多层彩色光阻,而所述彩色光阻覆盖于所述基板的透光区域和非透光区域,所述彩色光阻层形成在制作主间隔物和辅间隔物的位置;
在所述透光区域和非透光区域均涂布彩色光阻层的基板上涂布感光材料;
图案化所述感光材料后在所述非透光区形成隔垫层,其中,所述隔垫层包括隔垫区和遮光区,所述隔垫区的高度大于遮光区的高度,所述遮光区 和隔垫区的隔垫物层由一道制程完成,所述隔垫物层形成于所述非透光区域的彩色光阻层上;形成的隔垫物层的高度相同,显示面板的液晶层的厚度由形成于隔垫物层下的彩色光阻 层的厚度或者层数来形成,主隔垫物层和辅隔垫物层的厚度由形成的彩色光阻层的厚度或层数不同来构建。
2.如权利要求1所述的显示面板制作方法,其特征在于,所述在所述基板上采取图案化方式依次涂布多层彩色光阻,而所述彩色光阻覆盖于所述基板的透光区域和非透光区域包括:
在所述基板上采取图案化方式依次涂布多层彩色光阻,所述彩色光阻覆盖于所述基板的透光区域和部分非透光区域。
3.如权利要求2所述的显示面板制作方法,其特征在于,在所述部分非透光区域形成至少一层彩色光阻层。
4.如权利要求3所述的显示面板制作方法,其特征在于,所述隔垫区包括主隔垫区和辅隔垫区,所述部分非透光区域对应主隔垫区的部分覆盖至少两层彩色光阻层,所述部分非透光区域对应辅隔垫区的部分覆盖至少一层彩色光阻层,其中,所述主隔垫区对应的非透光区域的光阻层的层数大于辅隔垫区对应的非透光区域的光阻层的层数。
5.如权利要求2至4任一项所述的显示面板制作方法,其特征在于,所述隔垫区形成于所述部分非透光区域的彩色光阻上。
6.如权利要求1至4任一项所述的显示面板制作方法,其特征在于,所述在所述涂布彩色光阻层的基板上涂布感光材料的步骤之前,在所述基板上采取图案化方式依次涂布多层彩色光阻,而所述彩色光阻覆盖于所述基板的透光区域和非透光区域之后,所述显示面板制作方法,还包括:
在所述基板上形成像素电极。
7.如权利要求1至4任一项所述的显示面板制作方法,其特征在于,所述多层彩色光阻包括红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻。
8.一种显示面板制作装置,其特征在于,所述显示面板制作装置包括:存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的计算机程序,所述计算机程序被所述处理器执行时实现如权利要求1至7中任一项所述的方法的步骤。
9.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括:
阵列基板;
彩膜基板,与阵列基板对向设置;
液晶层,填充于所述阵列基板和所述彩膜基板之间;
其中,所述彩膜基板由权利要求1至7任一项所述方法制作。
10.如权利要求9所述的显示面板,其特征在于,所述彩膜基板的非透光区域上形成有彩色光阻层和隔垫层,隔垫层包括隔垫区和遮光区,所述隔垫区的高度大于遮光区的高度;
所述隔垫物层包括主隔垫物层和辅隔垫物层,所述主隔垫物层对应的光阻层的高度大于辅隔垫物层对应的光阻层的高度。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110196519B (zh) * 2019-04-23 2022-02-01 Tcl华星光电技术有限公司 一种显示面板中间隙子的制备方法及装置
CN111258128B (zh) * 2020-03-18 2021-11-23 Tcl华星光电技术有限公司 显示面板及其制作方法
CN112859454A (zh) * 2021-02-26 2021-05-28 Tcl华星光电技术有限公司 显示面板及其制作方法、显示装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104749812A (zh) * 2013-12-31 2015-07-01 上海仪电显示材料有限公司 彩色滤光基板及其制造方法、液晶显示装置
CN105700225A (zh) * 2016-04-22 2016-06-22 深圳市华星光电技术有限公司 一种基于boa技术的显示面板及制作方法
CN107505780A (zh) * 2017-09-26 2017-12-22 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 Bps型阵列基板及其制作方法
CN108535909A (zh) * 2018-04-17 2018-09-14 深圳市华星光电技术有限公司 Bps型阵列基板的制作方法及bps型阵列基板
CN108897163A (zh) * 2018-09-12 2018-11-27 惠科股份有限公司 显示面板及显示面板的制作方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105116601B (zh) * 2015-09-16 2018-12-11 武汉华星光电技术有限公司 彩膜基板及其制作方法
CN106125412A (zh) * 2016-08-31 2016-11-16 武汉华星光电技术有限公司 液晶显示面板

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104749812A (zh) * 2013-12-31 2015-07-01 上海仪电显示材料有限公司 彩色滤光基板及其制造方法、液晶显示装置
CN105700225A (zh) * 2016-04-22 2016-06-22 深圳市华星光电技术有限公司 一种基于boa技术的显示面板及制作方法
CN107505780A (zh) * 2017-09-26 2017-12-22 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 Bps型阵列基板及其制作方法
CN108535909A (zh) * 2018-04-17 2018-09-14 深圳市华星光电技术有限公司 Bps型阵列基板的制作方法及bps型阵列基板
CN108897163A (zh) * 2018-09-12 2018-11-27 惠科股份有限公司 显示面板及显示面板的制作方法

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