CN109459806A - 一种高遮盖性的光学薄膜 - Google Patents
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Abstract
本发明给出了一种高遮盖性的光学薄膜，包括透明支持体以及透明支持体任一表面涂覆的硬化层，所述硬化层中有机粒子裸露在硬化层外表面高度H1为有机粒子平均粒径D1的1/4～5/6。本发明通过硬化层涂布液中单体、有机粒子、有机溶剂的选择性使用，在特定烘箱干燥条件下，制备出的硬化层表面粒子上浮，提高薄膜遮盖性，可有效避免薄膜表面的短划伤、杂质点、灰尘等瑕疵的显现。本发明制备的光学薄膜，可以广泛应用于各类硬化膜、保护膜、复合膜等各个领域。
Description
技术领域
本发明涉及薄膜技术领域，特别涉及一种高遮盖性的光学薄膜。
背景技术
随着显示技术的发展，液晶显示器已然随处可见，而每一部液晶显示器都会使用到多张光学薄膜器件，所以优化光学薄膜的各种效用显得尤为重要。然而，市场上应用的光学薄膜存在遮盖性不好的缺陷，很难遮盖器件之间的灰尘、杂质点等微小缺陷，尤其是一些低雾度的光学薄膜。
目前，专门针对光学薄膜遮盖性进行改善的技术方向不一，其中主流技术是改进光学薄膜涂层面的组成成分。中国专利CN102759761A公开了一种高遮盖高辉度的光学薄膜，该光学薄膜包含透明基板，透明基板的两个表面均设置有扩散涂层且两个扩散涂层具有相同的成分，其扩散涂层的扩散粒子包括有机大扩散粒子、有机小扩散粒子和无机扩散粒子，扩散层固化后的厚度是有机大扩散粒子粒径的1/5-4/5，以达到高遮盖高辉度的效果。中国专利CN107422530A公开了一种高遮盖高亮度的雾化膜制备方法，该雾化膜包括透明基材层、聚光层和雾化层，其中重点提到雾化层包括胶黏剂、有机扩散粒子和无机扩散粒子，雾化层的厚度为最大扩散粒子的1/10-2/3，进而制备的雾化膜具有较好的遮盖性和更高的亮度表现，用来克服现在的扩散板亮度损失大和遮盖性一般的缺点。
以上专利所叙述的技术方案通过对涂布液中较多添加量的有机扩散粒子和无机扩散粒子比例的调节来改进扩散膜的遮盖性，但其涂布液制备工序复杂，并且扩散膜涂层中的有机粒子和无机粒子添加量较多，若用来改善各类硬化膜、保护膜、复合膜等产品的遮盖性，其涂层中粒子添加量较少，分散的均匀性受到限制，存在一些缺陷。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是针对现有技术存在的问题，提供一种高遮盖性的光学薄膜，由其制备出的硬化层表面粒子上浮，薄膜遮盖性好，可有效避免薄膜表面的短划伤、杂质点、灰尘等瑕疵的显现。
为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：
一种高遮盖性的光学薄膜，包括透明支持体以及在所述透明支持体任一表面涂覆的硬化层，所述硬化层是由包含单体、有机粒子和有机溶剂在内的涂布液涂布在透明支持体上，经不同温度的多级烘箱干燥、紫外光固化而成，所述有机粒子裸露在所述硬化层外表面的高度H1为所述有机粒子平均粒径D1的1/4～5/6；
所述单体的官能度介于1～3，所述单体的粘度为500cps以下，所述单体的分子量为300g/mol以下；
所述有机溶剂包括第一有机溶剂和第二有机溶剂，所述第一有机溶剂的沸点为85℃以下，所述第一有机溶剂的比挥发速率为160以上；所述第二有机溶剂的沸点介于110℃～150℃，所述第二有机溶剂的比挥发速率介于50～160。
上述高遮盖性的光学薄膜，所述多级烘箱为五级烘箱，温度设置分别为：第一级烘箱温度介于150℃～180℃，第二级烘箱温度介于110℃～140℃，第三级烘箱温度介于150℃～180℃，第四级烘箱温度介于110℃～140℃，第五级烘箱温度介于50℃～100℃。
上述高遮盖性的光学薄膜，所述硬化层是由含有粒子的涂布液经紫外光固化形成，涂布液含有的组分及其重量份为：聚氨酯丙烯酸酯低聚物15份～40份，单体5份～25份，光引发剂0.50份～5份，流平助剂0.50份～1份，有机粒子0.1份～5份，第一有机溶剂15份～30份，第二有机溶剂15份～30份。
上述高遮盖性的光学薄膜，所述单体包括丙烯酸烷基酯、丙烯酸羟基酯、乙二醇类二丙烯酸酯、丙二醇类二丙烯酸酯、三丙烯酸酯中的一种。
上述高遮盖性的光学薄膜，所述第一有机溶剂和所述第二有机溶剂均选自苯类、醇类、酮类、醚类、酯类。
上述高遮盖性的光学薄膜，所述有机粒子包括单分散、中分散、多分散中的一种，粒径介于1μm～8μm。
上述高遮盖性的光学薄膜，所述有机粒子包括聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚丙烯酸甲酯、聚丙烯酸丁酯中的一种。
上述高遮盖性的光学薄膜，所述硬化层的厚度介于1μm～5μm。
上述高遮盖性的光学薄膜，所述光学薄膜的雾度介于2％～50％。
有益效果
与现有技术相比，本发明的有益效果在于：
1)本发明给出了一种高遮盖性的光学薄膜，包括透明支持体以及透明支持体任一表面涂覆的硬化层，所述硬化层中有机粒子裸露在硬化层外表面高度H1为有机粒子平均粒径D1的1/4～5/6。本发明通过硬化层涂布液中单体、有机粒子、有机溶剂的选择性使用，在特定烘箱干燥条件下，制备出的硬化层表面粒子上浮，提高薄膜遮盖性，可有效避免薄膜表面的短划伤、杂质点、灰尘等瑕疵的显现。
2)本发明提供的光学薄膜制备方法，可以用于制备各类硬化膜、保护膜、复合膜，尤其是各种低雾度硬化膜、保护膜、复合膜；同时，本发明的技术方法具有优异的适用性，有效避免了现有技术中通过有机粒子和无机粒子的粒径、比重来调节遮盖性能时，可能存在的配方适用性、稳定性差的问题。
附图说明
图1是本发明一个实施例的层间结构示意图。
图中各标号分别表示为：1：透明支持体；2：硬化层；3：有机粒子。
具体实施方式
本发明中，选用的单体为官能度介于1～3，粘度为500cps以下(at25℃)，分子量为300g/mol以下，是有利于有机粒子在涂层中的上浮。选用的单体具体涉及但不限于下述物质：2-苯氧基乙基丙烯酸酯、四氢化糠基丙烯酸酯、3,3,5三甲基环己烷丙烯酸酯、环三羟甲基丙烷甲缩醛丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、1,4丁二醇二丙烯酸酯、2-甲基-1,3-丙二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二甲基二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯等。
本发明中，选用的有机粒子在硬化层中起到遮盖瑕疵的作用，选用的有机粒子为常用市售的市售的聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚丙烯酸甲酯、聚丙烯酸丁酯等。
本发明中，为了提高涂层中有机粒子的上浮效果，使用的有机溶剂包括第一有机溶剂和第二有机溶剂，选用的第一有机溶剂的沸点为85℃以下、比挥发速率为160以上(nBAc＝100)，具体涉及但不限于下述溶剂：丁酮、乙酸乙酯、异丙醇等；选用的第二有机溶剂的沸点介于110℃～150℃、比挥发速率介于50～160(nBAc＝100)，具体涉及但不限于下述溶剂：丙二醇单甲醚、甲基异丁酮、乙酸丁酯等。
本发明中，选用的聚氨酯丙烯酸酯低聚物为常用市售的官能度介于6～10的聚氨酯丙烯酸酯低聚物，具体涉及但不限于下述物质：官能度为6的脂肪族聚氨酯丙烯酸酯、官能度为6的芳香族聚氨酯丙烯酸酯、官能度为7的脂肪族聚氨酯丙烯酸酯、官能度为7的芳香族聚氨酯丙烯酸酯、官能度为8的脂肪族聚氨酯丙烯酸酯、官能度为8的芳香族聚氨酯丙烯酸酯、官能度为9的脂肪族聚氨酯丙烯酸酯、官能度为9的芳香族聚氨酯丙烯酸酯、官能度为10的脂肪族聚氨酯丙烯酸酯、官能度为10的芳香族聚氨酯丙烯酸酯等。
本发明中，所述光引发剂选用自由基聚合光引发剂，具体涉及但不限于下述物质：1-羟基环已基苯基酮(184)、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮(907)、安息香双甲醚(651)、2，4，6(三甲基苯甲酰基)二苯基氧化膦(TPO)、2-异丙基硫杂蒽酮(ITX)等。
本发明中，为了提高涂层的平整度，涂布液中会添加流平助剂，常用的流平助剂选自市售的丙烯酸流平助剂或有机硅流平助剂，具体涉及但不限于下述物质：毕克化学的BYK-307、BYK-377、BYK-354、BYK-306、BYK-333，德谦化学的Levaslip 407、Levaslip410、Levaslip 411、Levaslip 432、Levaslip 466等。
本发明中，为了保证薄膜的遮盖性及基本性能，所述硬化层是由包含聚氨酯丙烯酸酯低聚物、单体、光引发剂、流平助剂、有机粒子、第一有机溶剂和第二有机溶剂的涂布液制备而成，该涂布液各组分的份量为：聚氨酯丙烯酸酯低聚物15份～40份，单体5份～25份，光引发剂0.50份～5份，流平助剂0.50份～1份，有机粒子0.1份～5份，第一有机溶剂15份～30份，第二有机溶剂15份～30份。
本发明中，一种高遮盖的光学薄膜的制备需要经由涂布液制备、微凹版辊涂布、烘箱干燥、紫外光(UV)固化分步完成。先配置好涂布液，以微凹版辊涂布的方式涂覆在透明基材上；再经过五级烘箱干燥，最后进入紫外光(UV)固化阶段对干燥的涂层进行固化，即可。
本发明中，硬化层在制备过程中经过五级烘箱干燥，所述烘箱干燥温度设置为波动式变化，使得第一有机溶剂和第二有机溶剂挥发过程中有助于有机粒子的上浮；五级烘箱的温度设置为：第一级烘箱温度介于150℃～180℃，第二级烘箱温度介于110℃～140℃，第三级烘箱温度介于150℃～180℃，第四级烘箱温度介于110℃～140℃，第五级烘箱温度介于50℃～100℃。
本发明所述透明支持体是三醋酸纤维素薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜、环烯烃薄膜中的一种，其厚度范围在25μm～300μm，优选聚对苯二甲酸乙二酯薄膜。
以下结合附图和实施例对本发明作进一步详述，但本发明的保护并不局限于以下实施例。
实施例1
(1)涂布液的制备：
将15.0g脂肪族聚氨酯丙烯酸酯预聚物(沙多玛，CN8000NS，官能度：6)、25.0g 2-苯氧基乙基丙烯酸酯EM210(长兴化学，单官能度，粘度：10cps，分子量：192g/mol)、2.4g光引发剂1137(巴斯夫)、0.5g流平助剂BYK307(毕克化学制造)、0.1g DMT-1605(精通科技，1μm，多分散)、28.5g丁酮(沸点：79.6℃，比挥发速率：380)、28.5g丙二醇单甲醚(沸点：120℃，比挥发速率：70)置于搅拌锅中，搅拌均匀得到涂布液。
(2)硬化层的制备：
在厚度为25μm的聚碳酸酯薄膜的任意一面涂覆以上制备的涂布液，以微凹版辊涂布的方式涂覆在透明基材上；再经过五级烘箱干燥，其中五级烘箱的温度分别设置为：第一级烘箱温度为180℃，第二级烘箱温度为110℃，第三级烘箱温度为180℃，第四级烘箱温度为110℃，第五级烘箱温度为80℃；最后进入紫外光(UV)固化阶段对干燥的涂层进行固化，即可制备出厚度为1μm、雾度为2％的光学薄膜，评估结果列如表1中。
实施例2
(1)涂布液的制备：
将35.0g脂肪族聚氨酯丙烯酸酯预聚物(长兴化学，DR-U591，官能度：10)、5.0g三羟甲基丙烷三丙烯酸酯EM2280(长兴化学，双官能度，粘度：100cps，分子量：296g/mol)、0.5g光引发剂184(天津天骄化工)、0.5g流平助剂BYK307(毕克化学)、0.4g MX-500(综研化学，5μm，单分散)、29.3g丁酮(沸点：79.6℃，比挥发速率：380)、29.3g乙酸丁酯(沸点：126℃，比挥发速率：100)置于搅拌锅中，搅拌均匀得到涂布液。
(2)硬化层的制备：
在厚度为80μm的三醋酸纤维素薄膜的任意一面涂覆以上制备的涂布液，以微凹版辊涂布的方式涂覆在透明基材上；再经过五级烘箱干燥，其中五级烘箱的温度分别设置为：第一级烘箱温度为160℃，第二级烘箱温度为120℃，第三级烘箱温度为160℃，第四级烘箱温度为120℃，第五级烘箱温度为100℃；最后进入紫外光(UV)固化阶段对干燥的涂层进行固化，即可制备出厚度为2μm、雾度为3％的光学薄膜，评估结果列如表1中。
实施例3
(1)涂布液的制备：
将25.0g脂肪族聚氨酯丙烯酸酯预聚物(沙多玛，CN9013NS，官能度：9)、7.0g四氢化糠基丙烯酸酯EM214(长兴化学，单官能度，粘度：5cps，分子量：154g/mol)、2g光引发剂1137(天骄化工)、1g流平助剂Levaslip410(德谦化学)、5g ST-3(精通科技，3μm，多分散)、30.0g异丙醇(沸点：82℃，比挥发速率：170)、30.0g乙酸丁酯(沸点：126℃，比挥发速率：100)置于搅拌锅中，搅拌均匀得到涂布液。
(2)硬化层的制备：
在厚度为125μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的任意一面涂覆以上制备的涂布液，以微凹版辊涂布的方式涂覆在透明基材上；再经过五级烘箱干燥，其中五级烘箱的温度分别设置为：第一级烘箱温度为150℃，第二级烘箱温度为110℃，第三级烘箱温度为150℃，第四级烘箱温度为110℃，第五级烘箱温度为50℃；最后进入紫外光(UV)固化阶段对干燥的涂层进行固化，即可制备出厚度为2μm、雾度为50％的光学薄膜，评估结果列如表1中。
实施例4
(1)涂布液的制备：
将40.0g芳香族聚氨酯丙烯酸酯预聚物(帝斯曼，670A2，官能度：6)、13.0g 1,6-己二醇二丙烯酸酯EM221(长兴化学，双官能度，粘度：10cps，分子量：226g/mol)、5g光引发剂(天骄化工，商品名：TPO)、0.8g流平助剂BYK354(毕克化学制造)、1.2g MR-7HG(综研化学，7μm，多分散)、20.0g乙酸乙酯(沸点：77.8℃，比挥发速率：410)、20.0g甲基异丁酮(沸点：145℃，比挥发速率：158)置于搅拌锅中，搅拌均匀得到涂布液。
(2)硬化层的制备：
在厚度为250μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的任意一面涂覆以上制备的涂布液，以微凹版辊涂布的方式涂覆在透明基材上；再经过五级烘箱干燥，其中五级烘箱的温度分别设置为：第一级烘箱温度为160℃，第二级烘箱温度为110℃，第三级烘箱温度为160℃，第四级烘箱温度为110℃，第五级烘箱温度为80℃；最后进入紫外光(UV)固化阶段对干燥的涂层进行固化，即可制备出厚度为4μm、雾度为20％的光学薄膜，评估结果列如表1中。
实施例5
(1)涂布液的制备：
将40.0g脂肪族聚氨酯丙烯酸酯预聚物(长兴化学，DR-U095，官能度：8)、20.0g 2-甲基-1,3-丙二醇二丙烯酸酯EM2280(长兴化学，双官能度，粘度：10cps，分子量：198g/mol)、5.0g光引发剂651(天骄化工)、1.0g流平助剂Levaslip410(德谦化学)、4.0g MR-8HN(综研化学，8μm，中分散)、15.0g丁酮(沸点：79.6℃，比挥发速率：380)、15.0g甲基异丁酮(沸点：145℃，比挥发速率：158)置于搅拌锅中，搅拌均匀得到涂布液。
(2)硬化层的制备：
在厚度为300μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的任意一面涂覆以上制备的涂布液，以微凹版辊涂布的方式涂覆在透明基材上；再经过五级烘箱干燥，其中五级烘箱的温度分别设置为：第一级烘箱温度为180℃，第二级烘箱温度为140℃，第三级烘箱温度为180℃，第四级烘箱温度为140℃，第五级烘箱温度为50℃；最后进入紫外光(UV)固化阶段对干燥的涂层进行固化，即可制备出厚度为5μm、雾度为35％的光学薄膜，评估结果列如表1中。
对比例1
(1)涂布液的制备：
将25.0克脂肪族聚氨酯丙烯酸酯预聚物[沙多玛，CN9013NS，官能度：9]、20.0g聚乙二醇二丙烯酸酯SR610NS(沙多玛，双官能度)、2.0g光引发剂651(天骄化工)、0.8g流平助剂Levaslip410(德谦化学)、0.2g KMR-3TA(综研化学，3μm，多分散)、26.0g甲苯、26.0g丁酮，置于搅拌锅中，搅拌均匀得到涂布液。
(2)硬化层的制备：
在厚度为80μm的三醋酸纤维素薄膜的任意一面涂覆以上制备的涂布液，放置在设定温度为85℃的烘干箱中干燥，最后进入紫外光(UV)固化阶段对干燥的涂层进行固化，即可制备出厚度为1.5μm、雾度为3％的光学薄膜，评估结果列如表1中。
对比例2
(1)涂布液的制备：
将45.0克脂肪族聚氨酯丙烯酸酯预聚物[长兴化学，DRU-029，官能度：4]、2.0g光引发剂651(天骄化工)、1.0g流平助剂Levaslip410(德谦化学)、2.0g二氧化硅颗粒[德固萨，平均粒径5μm]、25.0g甲苯、25.0g甲基异丁酮，置于搅拌锅中，搅拌均匀得到涂布液。
(2)硬化层的制备：
在厚度为125μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的任意一面涂覆以上制备的涂布液，以微凹版辊涂布的方式涂覆在透明基材上；再经过五级烘箱干燥，其中五级烘箱的温度分别设置为：第一级烘箱温度为180℃，第二级烘箱温度为140℃，第三级烘箱温度为180℃，第四级烘箱温度为140℃，第五级烘箱温度为50℃；最后进入紫外光(UV)固化阶段对干燥的涂层进行固化，即可制备出厚度为3μm、雾度为20％的光学薄膜，评估结果列如表1中。
对比例3
(1)涂布液的制备：
将45.0克脂肪族聚氨酯丙烯酸酯预聚物[长兴化学，DRU-029，官能度：4]、2.0g光引发剂651(天骄化工)、0.8g流平助剂Levaslip410(德谦化学)、3.2g KMR-3TA(综研化学，3μm，多分散)、24.5g乙酸丁酯、24.5g丁酮，置于搅拌锅中，搅拌均匀得到涂布液。
(2)硬化层的制备：
在厚度为250μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的任意一面涂覆以上制备的涂布液，以微凹版辊涂布的方式涂覆在透明基材上；再经过五级烘箱干燥，其中五级烘箱的温度分别设置为：第一级烘箱温度为160℃，第二级烘箱温度为110℃，第三级烘箱温度为160℃，第四级烘箱温度为110℃，第五级烘箱温度为50℃；最后进入紫外光(UV)固化阶段对干燥的涂层进行固化，即可制备出厚度为3μm、雾度为50％的光学薄膜，评估结果列如表1中。
表1：各实施例测试数据表
| 雾度(％) | 透光率(％) | 涂层厚度(μm) | 遮盖性 | |
| 实施例1 | 2 | 91.50 | 1 | 好 |
| 实施例2 | 3 | 91.00 | 2 | 好 |
| 实施例3 | 50 | 89.50 | 2 | 非常好 |
| 实施例4 | 20 | 90.50 | 4 | 非常好 |
| 实施例5 | 35 | 90.00 | 5 | 非常好 |
| 对比例1 | 3 | 91.00 | 1.5 | 较差 |
| 对比例2 | 20 | 90.50 | 3 | 一般 |
| 对比例3 | 50 | 89.50 | 3 | 好 |
表中各项性能的测试方法如下：
(1)雾度、透光率测试
测试标准：GB/T 25273-2010液晶显示器(LCD)用薄膜雾度测试方法积分球法
测试仪器：雾度计(日本电色，型号：DNH-2000N)
(2)涂层厚度测试
扫描电子显微镜(JEOL公司，型号：JSM-6490)测试薄膜截面涂层厚度
(3)遮盖性测试
本发明制备的一种高遮盖性的光学薄膜，其遮盖性判断标准是：手持一张A4光学薄膜，观测一米距离的正下方已点亮的直下式背光模组，根据背光模组点光源的清晰程度来判断光学薄膜的遮盖性效果。可将其分为四个等级：非常好、好、一般、较差，具体等级标准如下：
非常好：完全看不见点光源，呈现均匀的面光源
好：看不见点光源，呈现不是非常均匀的面光源
一般：可见轻微点光源，呈现明暗相间的变化
较差：清晰可见点光源
比较实施例2与对比例1可以看出，制备低雾度光学薄膜时，使用本发明的烘箱干燥方式进行干燥，比一般工艺方法制备的光学薄膜遮盖性好很多；比较实施例4与对比例2、实施例3与对比例3可以看出，本发明中所选用的涂布液组份有助于提高光学薄膜的遮盖性，比常规涂布液制备的光学薄膜遮盖性好很多。
Claims (9)
1.一种高遮盖性的光学薄膜，包括透明支持体以及在所述透明支持体任一表面涂覆的硬化层，所述硬化层是由包含单体、有机粒子和有机溶剂在内的涂布液涂布在透明支持体上，经不同温度的多级烘箱干燥、紫外光固化而成，其特征在于，所述有机粒子裸露在所述硬化层外表面的高度H1为所述有机粒子平均粒径D1的1/4～5/6；
所述单体的官能度介于1～3，所述单体的粘度为500cps以下，所述单体的分子量为300g/mol以下；
所述有机溶剂包括第一有机溶剂和第二有机溶剂，所述第一有机溶剂的沸点为85℃以下，所述第一有机溶剂的比挥发速率为160以上；所述第二有机溶剂的沸点介于110℃～150℃，所述第二有机溶剂的比挥发速率介于50～160。
2.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述多级烘箱为五级烘箱，温度设置分别为：第一级烘箱温度介于110℃～140℃，第二级烘箱温度介于150℃～180℃，第三级烘箱温度介于110℃～140℃，第四级烘箱温度介于150℃～180℃，第五级烘箱温度介于50℃～100℃。
3.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述硬化层是由含有粒子的涂布液经紫外光固化形成，制备涂布液的组分及其重量份为：聚氨酯丙烯酸酯低聚物15份～40份，单体5份～25份，光引发剂0.50份～5份，流平助剂0.50份～1份，有机粒子0.1份～5份，第一有机溶剂15份～30份，第二有机溶剂15份～30份。
4.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述单体包括丙烯酸烷基酯、丙烯酸羟基酯、乙二醇类二丙烯酸酯、丙二醇类二丙烯酸酯或三丙烯酸酯中的一种。
5.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述第一有机溶剂和所述第二有机溶剂均选自苯类、醇类、酮类、醚类或酯类中的一种或两种混合。
6.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述有机粒子包括单分散、中分散或多分散中的一种，粒径介于1μm～8μm。
7.根据权利要求6所述的光学薄膜，其特征在于，所述有机粒子包括聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚丙烯酸甲酯或聚丙烯酸丁酯中的一种或几种。
8.根据权利要求7所述的光学薄膜，其特征在于，所述硬化层的厚度介于1μm～5μm。
9.根据权利要求8所述的光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜的雾度介于2％～50％。
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|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
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Application publication date: 20190312 |