CN109148365B - 一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置,该制作方法包括:在衬底基板上的图像获取区域的透明区域内形成第一光刻胶图案;在衬底基板上形成阳极层,阳极层覆盖第一光刻胶图案;利用形成在阳极层上的第二光刻胶层图案的遮挡,在阳极层中形成位于图像获取区域的非透明显示区域的阳极以及形成位于透明区域的遮光部件;采用剥离工艺同时去除第一光刻胶图案、遮光部件和第二光刻胶图案。该方法可以将残留在图像获取区域的透明区域内的遮光部件去除,从而只在图像获取区域的非透明显示区域形成阳极,从而可以提高透明区域的透过率。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置。
背景技术
目前,全面屏是手机业界对于超高屏占比的手机设计,具有比较好的视觉体验及很好的市场需求、应用前景,越来越深得消费者的欢迎。但是全面屏手机面临着种种设计上以及制造工艺上的难点,比如听筒、前置摄像头的位置。目前采用将听筒、摄像头设置在显示区域来提高屏占比,使得视觉上屏幕占比接近100%,但是现有技术中摄像头对应显示面板的位置的透过率较低。
发明内容
本发明实施例提供一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置,用以解决现有技术中光学传感器对应显示面板的位置的透过率较低的问题。
因此,本发明实施例提供了一种显示面板的制作方法,包括:
在衬底基板上的图像获取区域的透明区域内形成第一光刻胶图案;
在所述衬底基板上形成阳极层,所述阳极层覆盖所述第一光刻胶图案;
利用形成在所述阳极层上的第二光刻胶层图案的遮挡,在所述阳极层中形成位于所述图像获取区域的非透明显示区域的阳极以及形成位于所述透明区域的遮光部件;
采用剥离工艺同时去除所述第一光刻胶图案、所述遮光部件和所述第二光刻胶图案。
进一步地,在本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法中,在衬底基板上的透明区域内形成第一光刻胶图案之前,还包括:
在所述衬底基板上除了所述透明区域的区域内形成平坦层。
进一步地,在本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法中,还包括:
在所述衬底基板上形成缓冲层、栅极绝缘层和层间介质层;其中形成在所述透明区域的所述缓冲层、所述栅极绝缘层和所述层间介质层均透明。
相应地,本发明实施例还提供了一种采用上述任一项制作方法制得的显示面板,包括衬底基板,所述衬底基板具有图像获取区域,所述图像获取区域包括非透明显示区域和透明区域,其中仅在所述非透明显示区域包括阳极。
进一步地,在本发明实施例提供的上述显示面板中,还包括位于所述衬底基板上的缓冲层、栅极绝缘层和层间介质层,其中位于所述衬底基板上的所述透明区域内的所述缓冲层、所述栅极绝缘层和所述层间介质层均透明。
进一步地,在本发明实施例提供的上述显示面板中,所述非透明显示区域包括与所述阳极电连接的控制电路,以及位于所述阳极与所述控制电路之间的平坦层,其中仅在所述非透明显示区域包括所述平坦层。
进一步地,在本发明实施例提供的上述显示面板中,所述衬底基板还包括包围所述图像获取区域的正常显示区域,所述正常显示区域和所述图像获取区域均包括成阵列排布的多个亚像素单元,其中所述图像获取区域的各所述亚像素单元的排布密度小于所述正常显示区域的各所述亚像素单元的排布密度。
进一步地,在本发明实施例提供的上述显示面板中,所述图像获取区域内单位面积排布的亚像素单元的个数与所述正常显示区域内单位面积排布的亚像素单元的个数比值为1:3。
进一步地,在本发明实施例提供的上述显示面板中,所述图像获取区域的亚像素单元与所述正常显示区域的亚像素单元的大小相同。
相应地,本发明实施例还提供了一种显示装置,包括本发明实施例提供的上述任一种显示面板,以及设置于所述显示面板的图像获取区域内的光学传感器;所述光学传感器设置于所述显示面板的衬底基板背向所述阳极的一侧。
本发明的有益效果:
本发明实施例提供的显示面板的制作方法、显示面板及显示装置,该制作方法包括:在衬底基板上的图像获取区域的透明区域内形成第一光刻胶图案;在所述衬底基板上形成阳极层,所述阳极层覆盖所述第一光刻胶图案;利用形成在所述阳极层上的第二光刻胶层图案的遮挡,在所述阳极层中形成位于所述图像获取区域的非透明显示区域的阳极以及形成位于所述透明区域的遮光部件;采用剥离工艺同时去除所述第一光刻胶图案、所述遮光部件和所述第二光刻胶图案。该方法可以将残留在图像获取区域的透明区域内的遮光部件去除,从而只在图像获取区域的非透明显示区域形成阳极,从而可以提高透明区域的透过率。
附图说明
图1为本发明实施例提供的显示面板的制作方法的流程图之一;
图2为本发明实施例提供的显示面板的制作方法的流程图之二;
图3为本发明实施例提供的显示面板的结构示意图之一;
图4为本发明实施例提供的显示面板的结构示意图之二;
图5a至图5e为本发明实施例提供的显示面板的制作方法中执行各步骤之后的剖面示意图;
图6为本发明实施例提供的显示装置的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的,技术方案和优点更加清楚,下面结合附图,对本发明实施例提供的显示面板的制作方法、显示面板及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。
附图中各层薄膜厚度和形状不反映显示面板的真实比例,目的只是示意说明本发明内容。
现有技术中,为了提高透过率,是通过将位于透明区的平坦层挖孔处理,但是由于挖孔比较深导致制作阳极的时候在透明区的孔内有PR胶残留,进而导致阳极金属残留,使透过率降低。
有鉴于此,为了解决上述问题,本发明实施例提供了一种显示面板的制作方法,如图1所示,包括:
S101、在衬底基板上的图像获取区域的透明区域内形成第一光刻胶图案;
S102、在衬底基板上形成阳极层,阳极层覆盖第一光刻胶图案;
S103、利用形成在阳极层上的第二光刻胶层图案的遮挡,在阳极层中形成位于图像获取区域的非透明显示区域的阳极以及形成位于透明区域的遮光部件;
S104、采用剥离工艺同时去除第一光刻胶图案、遮光部件和第二光刻胶图案。
本发明实施例提供的显示面板的制作方法,该方法可以将残留在透明区域内的遮光部件去除,从而只在非透明显示区域形成阳极,从而可以提高透明区域的透过率。
进一步地,在具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法中,如图2所示,在衬底基板上的透明区域内形成第一光刻胶图案之前,还包括:
S101’、在衬底基板上除了透明区域的区域内形成平坦层。
进一步地,在具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法中,还包括:
在衬底基板上形成缓冲层、栅极绝缘层和层间介质层;其中形成在透明区域的缓冲层、栅极绝缘层和层间介质层均透明。这样可以实现提高透明区域的透过率。
基于同一发明构思,本发明实施例还提供了一种采用上述制作方法制得的显示面板,如图3所示,包括衬底基板1,衬底基板1具有图像获取区域A,图像获取区域A包括非透明显示区域A1和透明区域A2,其中仅在非透明显示区域A1包括阳极2。
本发明实施例提供的显示面板,包括衬底基板,衬底基板具有图像获取区域,图像获取区域包括非透明显示区域和透明区域,其中仅在非透明显示区域包括阳极。本发明通过仅在非透明显示区域设置阳极,而在透明区域不设置阳极,从而可以提高透明区域的透过率。
进一步地,具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示面板中,如图3所示,还包括位于衬底基板上的缓冲层3、栅极绝缘层4和层间介质层5,其中位于衬底基板1上的透明区域A2内的缓冲层3、栅极绝缘层4和层间介质层5均透明。这样可以实现提高透明区域的透过率。
进一步地,具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示面板中,如图3所示,非透明显示区域A1包括与阳极电连接的控制电路6,以及位于阳极2与控制电路6之间的平坦层7,其中仅在非透明显示区域A1包括平坦层7。这样可以实现提高透明区域的透过率。
具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示面板中,如图3所示,控制电路6包括位于衬底基板1上依次层叠设置的有源层61、第一栅极62、第二栅极63、源极64和漏极65,其中,有源层61和第一栅极62之间通过第一栅极绝缘层41绝缘,第一栅极62和第二栅极63之间通过第二栅极绝缘层42绝缘,第二栅极63与源极64和漏极65之间通过层间介质层5绝缘,源极64和漏极65分别与有源层61电连接,这些膜层与现有技术中功能相同,在此不做详述。
进一步地,在本发明实施例提供的上述显示面板中,如图4所示,衬底基板1还包括包围图像获取区域A的正常显示区域B,正常显示区域B和图像获取区域A均包括成阵列排布的多个亚像素单元01,其中图像获取区域A的各亚像素单元01的排布密度小于正常显示区域B的各亚像素单元01的排布密度。这样相当于将图像获取区域A内的各亚像素单元之间的距离拉大,摄像头等传感器区域对应的亚像素单元的排布密度更低,从而可以实现进一步提高透明区域的透过率。
在具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示面板中,如图4所示,图像获取区域A可以根据所需设置的摄像头数量而设定区域大小,以确定图像获取区域A所包含的亚像素单元01个数;并且,并不限定设置的图像获取区域A的数量,可以是一个,也可以是两个或多个,在此不做限定。
在具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示面板中,如图4所示,是以图像获取区域A的数量是一个为例进行说明的。
进一步地,具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示面板中,如图4所示,图像获取区域A内单位面积排布的亚像素单元的个数与正常显示区域B内单位面积排布的亚像素单元的个数比值可以为1:3。这样既不影响图像获取区域A正常的图像显示,又能够提高透明区域的透过率。当然具体实施时,可以根据实际需要进行调整图像获取区域A内单位面积排布的亚像素单元的个数与正常显示区域B内单位面积排布的亚像素单元的个数比值,不限于本发明实施例提供上述比值。
需要说明的是,图4中仅是示意性的说明了各亚像素单元01的排布密度,不反应各亚像素单元01之间的真实间距,具体实施时,根据实际需要进行排布。
进一步地,具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示面板中,如图4所示,图像获取区域的亚像素单元与正常显示区域的亚像素单元的大小相同。这样可以采用同一工艺制作各亚像素单元内的功能膜层,制作工艺同一,方便制作。
下面通过本发明实施例提供的显示面板的制作方法对图3所示的显示面板的制作过程进行详细阐述。
(1)在衬底基板1之上依次形成缓冲层3、有源层61、第一栅极绝缘层41、第一栅极62、第二栅极绝缘层42、第二栅极63、层间介质层5、源极64和漏极65,形成控制电路6,源极64和漏极65分别通过贯穿第一栅极绝缘层41、第二栅极绝缘层42以及层间介质层5的过孔与有源层61电连接,其中缓冲层3、第一栅极绝缘层41、第二栅极绝缘层42以及层间介质层5在透明区域A2均透明,如图5a所示;
(2)在形成有控制电路6的衬底基板1上形成平坦层7,并且通过光刻工艺去除位于透明区域A2内的平坦层,以在非透明显示区域A1形成平坦层7,如图5b所示;
(3)在形成有平坦层7的衬底基板1上涂布第一光刻胶层9,如图5c所示;
(4)采用全曝光、显影工艺在衬底基板1上的透明区域A2内形成第一光刻胶图案91,如图5d所示;
(5)在步骤(4)所示的衬底基板1上形成阳极层,阳极层覆盖第一光刻胶图案91,并在形成有阳极层的衬底基板1上涂布第二光刻胶层,采用曝光、显影及刻蚀工艺利用形成在阳极层上的第二光刻胶层图案101的遮挡,在阳极层中形成阳极2以及形成位于透明区域A2的遮光部件21;如图5e所示;
(6)在步骤(5)的基础上采用剥离工艺同时去除第一光刻胶图案91、遮光部件21和第二光刻胶图案101,以形成仅在非透明显示区域A1包括阳极,如图3所示。
通过上述实施例一的步骤(1)至步骤(6)后可以得到本发明实施例提供的图3所示的显示面板。
基于同一发明构思,本发明实施例还提供了一种显示装置,该显示装置可以为:手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该显示装置的实施可以参见上述显示面板的实施例,重复之处不再赘述。
具体地,本发明实施例提供的一种显示装置,如图6所示,包括本发明实施例提供的上述显示面板,以及设置于显示面板的图像获取区域A内的光学传感器8;光学传感器8设置于显示面板的衬底基板1背向阳极2的一侧。
具体地,在本发明实施例提供的上述显示装置中,光学传感器可以包括摄像头、听筒等。
具体地,在本发明实施例提供的上述显示装置中,摄像头的数量可以是一个,也可以是多个,具体根据实际需要设定,并且,可以在同一图像获取区域内设置一个摄像头,也可以设置多个摄像头,在此不做限定。
具体地,在本发明实施例提供的上述显示装置中,放置于图像获取区域下方的摄像头通过透明区域进行图像获取,从而实现在正常显示区域内实现摄像功能,有利于实现全屏显示设计。
本发明实施例提供的显示面板的制作方法、显示面板及显示装置,该显示面板包括衬底基板,衬底基板具有图像获取区域,图像获取区域包括非透明显示区域和透明区域,其中仅在非透明显示区域包括阳极。本发明通过仅在非透明显示区域设置阳极,而在透明区域不设置阳极,从而可以提高透明区域的透过率。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (3)
1.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
在衬底基板上的图像获取区域的透明区域内形成第一光刻胶图案;
在所述衬底基板上形成阳极层,所述阳极层覆盖所述第一光刻胶图案;
利用形成在所述阳极层上的第二光刻胶层图案的遮挡,在所述阳极层中形成位于所述图像获取区域的非透明显示区域的阳极以及形成位于所述透明区域的遮光部件;
采用剥离工艺同时去除所述第一光刻胶图案、所述遮光部件和所述第二光刻胶图案。
2.如权利要求1所述的显示面板的制作方法,其特征在于,在衬底基板上的透明区域内形成第一光刻胶图案之前,还包括:
在所述衬底基板上除了所述透明区域的区域内形成平坦层。
3.如权利要求1所述的显示面板的制作方法,其特征在于,还包括:
在所述衬底基板上形成缓冲层、栅极绝缘层和层间介质层;其中形成在所述透明区域的所述缓冲层、所述栅极绝缘层和所述层间介质层均透明。
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