[go: up one dir, main page]

CN108828909A - 一种显影系统 - Google Patents

一种显影系统 Download PDF

Info

Publication number
CN108828909A
CN108828909A CN201810689035.9A CN201810689035A CN108828909A CN 108828909 A CN108828909 A CN 108828909A CN 201810689035 A CN201810689035 A CN 201810689035A CN 108828909 A CN108828909 A CN 108828909A
Authority
CN
China
Prior art keywords
value
storage device
toning system
developer solution
solution storage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201810689035.9A
Other languages
English (en)
Inventor
裴立志
郑泽钢
施威健
时庆文
周伟杰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Truly Opto Electronics Ltd
Original Assignee
Truly Opto Electronics Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Truly Opto Electronics Ltd filed Critical Truly Opto Electronics Ltd
Priority to CN201810689035.9A priority Critical patent/CN108828909A/zh
Publication of CN108828909A publication Critical patent/CN108828909A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Abstract

本发明公开了一种显影系统,所述显影系统包括:显影液存储装置、PH值调节溶液存储装置、控制装置、第一检测器及第二检测器;其中,所述第一检测器用于检测所述显影液存储装置中显影液的PH值;所述第二检测器用于检测所述显影液存储装置中显影液的透过率;所述控制装置用于当所述PH值低于第一预设值时,控制所述PH值调节溶液存储装置向所述显影液存储装置中填充PH值调节溶液;所述控制装置还用于当所述透过率低于第二预设值时,使所述显影系统停止运行。该显影系统可以实时对显影液的质量进行检测,提高显影质量。

Description

一种显影系统
技术领域
本发明涉及显影工艺技术领域,更具体地说,尤其涉及一种显影系统。
背景技术
随着科学技术的不断发展,显影工艺已广泛应用于各个领域中,是工艺制作中占据重要的地位。
其中,显影液在显影工艺中必不可缺少的,显影液的质量会影响最终的显影效果。
但是,目前并没有一种显影系统可以实时对显影液的质量进行检测。
发明内容
为解决上述问题,本发明提供了一种显影系统可以实时对显影液的质量进行检测,提高显影质量。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种显影系统,所述显影系统包括:显影液存储装置、PH值调节溶液存储装置、控制装置、第一检测器及第二检测器;
其中,所述第一检测器用于检测所述显影液存储装置中显影液的PH值;
所述第二检测器用于检测所述显影液存储装置中显影液的透过率;
所述控制装置用于当所述PH值低于第一预设值时,控制所述PH值调节溶液存储装置向所述显影液存储装置中填充PH值调节溶液;
所述控制装置还用于当所述透过率低于第二预设值时,使所述显影系统停止运行。
优选的,在上述显影系统中,所述控制装置用于当所述PH值低于第一预设值时,控制所述PH值调节溶液存储装置向所述显影液存储装置中填充PH值调节溶液包括:
当所述PH值低于所述第一预设值时,所述控制装置控制所述显影系统停止运行,再控制所述PH值调节溶液存储装置向所述显影液存储装置中填充所述PH值调节溶液。
优选的,在上述显影系统中,所述显影系统还包括:循环装置;
其中,所述循环装置用于当所述PH值调节溶液存储装置向所述显影液存储装置中填充所述PH值调节溶液后,使混合后的溶液混合均匀。
优选的,在上述显影系统中,所述控制装置还用于当所述循环装置运行预设时间后,控制所述显影系统开始运行。
优选的,在上述显影系统中,所述显影系统还包括:提示装置;
其中,当所述透过率低于第二预设值时,所述控制装置控制所述显影系统停止运行,且控制所述提示装置发出报警提示。
优选的,在上述显影系统中,所述提示装置为声光报警器。
优选的,在上述显影系统中,所述PH值调节溶液为碱性溶液。
通过上述描述可知,本发明提供的一种显影系统,所述显影系统包括:显影液存储装置、PH值调节溶液存储装置、控制装置、第一检测器及第二检测器;其中,所述第一检测器用于检测所述显影液存储装置中显影液的PH值;所述第二检测器用于检测所述显影液存储装置中显影液的透过率;所述控制装置用于当所述PH值低于第一预设值时,控制所述PH值调节溶液存储装置向所述显影液存储装置中填充PH值调节溶液;所述控制装置还用于当所述透过率低于第二预设值时,使所述显影系统停止运行。
该显影系统通过控制装置、第一检测器及第二检测器对显影液存储装置中的显影液进行实时检测,以提高最终的显影质量。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种显影系统的示意图;
图2为本发明实施例提供的另一种显影系统的示意图;
图3为本发明实施例提供的又一种显影系统的示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
参考图1,图1为本发明实施例提供的一种显影系统的示意图,所述显影系统包括:显影液存储装置11、PH值调节溶液存储装置12、控制装置15、第一检测器13及第二检测器14。
其中,所述第一检测器13用于检测所述显影液存储装置11中显影液的PH值;
所述第二检测器14用于检测所述显影液存储装置11中显影液的透过率;
所述控制装置15用于当所述PH值低于第一预设值时,控制所述PH值调节溶液存储装置12向所述显影液存储装置11中填充PH值调节溶液;
所述控制装置15还用于当所述透过率低于第二预设值时,使所述显影系统停止运行。
具体的,所述PH值调节溶液存储装置中存储有用于调节显影液PH值的PH值调节溶液,通过控制装置和第一检测器,对显影液的PH值进行实时检测,当所述PH值低于第一预设值时,控制所述PH值调节溶液存储装置向所述显影液存储装置中填充PH值调节溶液,以解决显影液PH值低于预设值而影响显影质量的问题。
并且,通过控制装置和第二检测器实时对显影液的透过率进行检测,当透过率低于第二预设值时,使所述显影系统停止运行,待显影液更换完成后,再启动运行。
该显影系统实现了对显影液质量的实时监控,进而提高显影质量。
进一步的,所述控制装置15用于当所述PH值低于第一预设值时,控制所述PH值调节溶液存储装置12向所述显影液存储装置11中填充PH值调节溶液包括:
当所述PH值低于所述第一预设值时,所述控制装置15控制所述显影系统停止运行,再控制所述PH值调节溶液存储装置12向所述显影液存储装置11中填充所述PH值调节溶液。
具体的,当所述PH值低于所述第一预设值时,首先将显影系统停止运行,保证显影质量的情况下,对显影液的PH值进行调节。
进一步的,如图2所示,所述显影系统还包括:循环装置16。
其中,所述循环装置16用于当所述PH值调节溶液存储装置12向所述显影液存储装置11中填充所述PH值调节溶液后,使混合后的溶液混合均匀。
具体的,所述循环装置16用于将混合后的溶液持续循环预设时间,保证混合后的溶液能充分混合均匀。
进一步的,所述控制装置15还用于当所述循环装置16运行预设时间后,控制所述显影系统开始运行。
具体的,通过设置该预设时间,可以保证混合后的显影液的PH值均匀,也进一步提高了显影质量。
进一步的,如图3所示,所述显影系统还包括:提示装置17。
其中,当所述透过率低于第二预设值时,所述控制装置15控制所述显影系统停止运行,且控制所述提示装置17发出报警提示。
具体的,所述提示装置17包括但不限于为声光报警器。提示装置17发出报警提示时,工作人员对显影液进行更换,可以提高生产效率。
进一步的,所述PH值调节溶液为高浓度的碱性溶液。
具体的,该碱性溶液在本发明实施例中并不作限定,根据显影液的不同采用不同浓度不同成分的碱性溶液。
通过上述描述可知,该显影系统可以实时对显影液的质量进行检测,提高显影质量,提高了生产效率。
对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (7)

1.一种显影系统,其特征在于,所述显影系统包括:显影液存储装置、PH值调节溶液存储装置、控制装置、第一检测器及第二检测器;
其中,所述第一检测器用于检测所述显影液存储装置中显影液的PH值;
所述第二检测器用于检测所述显影液存储装置中显影液的透过率;
所述控制装置用于当所述PH值低于第一预设值时,控制所述PH值调节溶液存储装置向所述显影液存储装置中填充PH值调节溶液;
所述控制装置还用于当所述透过率低于第二预设值时,使所述显影系统停止运行。
2.根据权利要求1所述的显影系统,其特征在于,所述控制装置用于当所述PH值低于第一预设值时,控制所述PH值调节溶液存储装置向所述显影液存储装置中填充PH值调节溶液包括:
当所述PH值低于所述第一预设值时,所述控制装置控制所述显影系统停止运行,再控制所述PH值调节溶液存储装置向所述显影液存储装置中填充所述PH值调节溶液。
3.根据权利要求2所述的显影系统,其特征在于,所述显影系统还包括:循环装置;
其中,所述循环装置用于当所述PH值调节溶液存储装置向所述显影液存储装置中填充所述PH值调节溶液后,使混合后的溶液混合均匀。
4.根据权利要求3所述的显影系统,其特征在于,所述控制装置还用于当所述循环装置运行预设时间后,控制所述显影系统开始运行。
5.根据权利要求1所述的显影系统,其特征在于,所述显影系统还包括:提示装置;
其中,当所述透过率低于第二预设值时,所述控制装置控制所述显影系统停止运行,且控制所述提示装置发出报警提示。
6.根据权利要求5所述的显影系统,其特征在于,所述提示装置为声光报警器。
7.根据权利要求1所述的显影系统,其特征在于,所述PH值调节溶液为碱性溶液。
CN201810689035.9A 2018-06-28 2018-06-28 一种显影系统 Pending CN108828909A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810689035.9A CN108828909A (zh) 2018-06-28 2018-06-28 一种显影系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810689035.9A CN108828909A (zh) 2018-06-28 2018-06-28 一种显影系统

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN108828909A true CN108828909A (zh) 2018-11-16

Family

ID=64133698

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810689035.9A Pending CN108828909A (zh) 2018-06-28 2018-06-28 一种显影系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108828909A (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05257254A (ja) * 1992-03-12 1993-10-08 Nippon Kodak Kk 現像処理装置
CN201556029U (zh) * 2009-11-25 2010-08-18 陕西科技大学 Ps版显影机的显影液浓度控制装置
CN104122905A (zh) * 2013-04-28 2014-10-29 天津市德堡印刷有限公司 一种印刷用显影液浓度调控装置
CN106053537A (zh) * 2016-05-24 2016-10-26 深圳市华星光电技术有限公司 显影液的浓度监测系统及方法
CN106371296A (zh) * 2015-07-22 2017-02-01 株式会社平间理化研究所 显影液成分浓度测定方法及装置、显影液管理方法及装置
CN207301641U (zh) * 2017-10-12 2018-05-01 中煤航测遥感集团有限公司 显影液控制装置及显影机

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05257254A (ja) * 1992-03-12 1993-10-08 Nippon Kodak Kk 現像処理装置
CN201556029U (zh) * 2009-11-25 2010-08-18 陕西科技大学 Ps版显影机的显影液浓度控制装置
CN104122905A (zh) * 2013-04-28 2014-10-29 天津市德堡印刷有限公司 一种印刷用显影液浓度调控装置
CN106371296A (zh) * 2015-07-22 2017-02-01 株式会社平间理化研究所 显影液成分浓度测定方法及装置、显影液管理方法及装置
CN106053537A (zh) * 2016-05-24 2016-10-26 深圳市华星光电技术有限公司 显影液的浓度监测系统及方法
CN207301641U (zh) * 2017-10-12 2018-05-01 中煤航测遥感集团有限公司 显影液控制装置及显影机

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107179945A (zh) 一种资源分配方法及装置
US20160166228A1 (en) Rotation speed correction for ct scanner system
CN111497028A (zh) 搅拌站卸料控制方法、装置、卸料系统及搅拌站
CN115145327A (zh) 一种溶出温度控制方法、装置、设备及存储介质
CN108828909A (zh) 一种显影系统
TWI695982B (zh) 混凝劑添加濃度值的自動分析儀器及其自動分析方法
EP2966639A1 (en) Liquid crystal display method and device
CN106378020A (zh) 一种混合液制备的控制方法、装置以及系统
CN107195547A (zh) 在线改良晶圆表面平坦度的方法
CN109353103B (zh) 物体的贴附控制方法、贴附机及存储介质
CN107042583A (zh) 一种用于压浆机的出浆计量系统及其使用方法
CN103700335A (zh) 一种调整目标Gamma曲线的方法及装置
CN204613594U (zh) 剥离液更换系统
CN117770152B (zh) 一种畜牧液态料投料方法及装置
CN104960019B (zh) 异方向性导电胶膜切割校准系统和方法
JP5330604B2 (ja) 材料転送の制御方法
CN110006096B (zh) 制热机组的选取方法、装置及电子设备
CN103531172A (zh) 多屏幕集成显示系统带宽调整设备及其调整方法
CN102708814A (zh) Lcd模组的电压和透过率的关系曲线的交流测试方法和系统
CN114385363A (zh) 部门总配额自动调整方法
CN106501163B (zh) 盐雾试验盐水盐度补偿方法和装置
US10899124B2 (en) To determine a quantity of a liquid in a chamber
CN106290065B (zh) 一种确定非牛顿流体在反应器内搅拌死区的方法及装置
JP2012016656A (ja) ダイヘッドによる塗布方法および塗布装置
CN109212428A (zh) 一种电子产品及其电量显示系统和方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20181116

RJ01 Rejection of invention patent application after publication