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CN108598126B - 彩膜基板及其制备方法以及显示面板 - Google Patents

彩膜基板及其制备方法以及显示面板 Download PDF

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CN108598126B
CN108598126B CN201810434263.1A CN201810434263A CN108598126B CN 108598126 B CN108598126 B CN 108598126B CN 201810434263 A CN201810434263 A CN 201810434263A CN 108598126 B CN108598126 B CN 108598126B
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elastic
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Abstract

本发明提供了彩膜基板及其制备方法以及显示面板。其中,彩膜基板包括:衬底;至少一个间隔物,所述间隔物设置在所述衬底的一侧,且外表面上设置有第一电极;至少两个弹性支撑件,所述弹性支撑件与所述间隔物设置在所述衬底的同侧,每个所述间隔物外侧设置至少两个所述弹性支撑件,且所述至少两个弹性支撑件沿所述间隔物的外周均匀间隔设置,每个所述弹性支撑件的高度大于所述间隔物的高度和所述第一电极的厚度之和。发明人发现,将彩膜基板与阵列基板压合后,第一电极与阵列基板的阴极搭接效果较佳,在弹性支撑件的作用下几乎不会损伤第一电极或者阴极,在每个间隔物外侧均设置有弹性支撑件可以有效避免任意一个间隔物对第一电极或者阴极的压伤。

Description

彩膜基板及其制备方法以及显示面板
技术领域
本发明涉及显示技术领域,具体的,涉及彩膜基板及其制备方法以及显示面板。
背景技术
在OLED显示面板中,当外部线路过长或过细时,在外部电路上会造成严重的电压梯度,使真正落于OLED组件的电压较低,由于OLED组件是利用电流进行驱动的,上述外部功率的消耗会导致显示面板发光强度减少。目前,通常通过增加一辅助电极以降低电压梯度进而增加显示面板的发光效率、增加OLED组件的驱动电压。
目前,增加辅助电极的通常做法是在彩膜基板上制备间隔物,在间隔物的表面形成第一电极,通过压合,使第一电极与阵列基板上的阴极相接触,实现搭接。然而由于填充层的存在,间隔物材料较难实现高弹性,因而在工艺过程中用力过大会发生压伤现象,产生缺陷,用力过小会发生接触不良或无法接触的问题,进而容易造成显示面板出现不同程度的显示画面不均匀(mura)的现象。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本发明的一个目的在于提出一种结构简单的彩膜基板,该彩膜基板与阵列基板压合之后几乎不会损伤第一电极或者阴极,且能够有效实现外部电路与阵列基板的阴极的搭接。
在本发明的一个方面,本发明提供了一种彩膜基板。根据本发明的实施例,该彩膜基板包括:衬底;至少一个间隔物,所述间隔物设置在所述衬底的一侧,且外表面上设置有第一电极;至少两个弹性支撑件,所述弹性支撑件与所述间隔物设置在所述衬底的同侧,每个所述间隔物外侧设置至少两个所述弹性支撑件,且所述至少两个弹性支撑件沿所述间隔物的外周均匀间隔设置,每个所述弹性支撑件的高度大于所述间隔物的高度和所述第一电极的厚度之和。发明人发现,该彩膜基板结构简单,易于实现,将该彩膜基板与阵列基板压合后,第一电极与阵列基板的阴极的搭接效果较佳,同时在弹性支撑件的作用下几乎不会损伤第一电极和阵列基板的阴极,且在每个间隔物外侧均设置有弹性支撑件可以有效避免任意一个间隔物对第一电极或者阴极的压伤,良率较高。
根据本发明的实施例,所述弹性支撑件包括相互连接的刚性段和弹性段,所述刚性段靠近所述衬底设置。由此,刚性段可以起到支撑作用,在压合时弹性段在刚性段的支撑下产生适当的形变,以使得间隔物在实现第一电极与阴极搭接的同时有效避免其对第一电极或者阴极的压伤。
根据本发明的实施例,所述刚性段占所述弹性支撑件的总高度的四分之一到三分之一。由此,刚性段的支撑效果较佳,弹性段的弹性较合适,在将彩膜基板和阵列基板进行压合时弹性支撑件产生适当的形变,在实现第一电极与阴极搭接的同时有效保护第一电极或者阴极不受间隔物的压伤。
根据本发明的实施例,形成所述刚性段的材料包括硅胶以及纳米材料,所述纳米材料选自纳米柱和纳米球中的至少一种,形成所述弹性段的材料包括硅胶。由此,由上述纳米材料形成的刚性段的刚性较佳,支撑效果较佳,由上述材料形成的弹性段的弹性较合适,使用性能较佳。
根据本发明的实施例,所述弹性支撑件和所述间隔物间隔设置,且间隔距离为0-0.5微米。由此,方便弹性支撑件的制备,且弹性支撑件与间隔物在上述间隔范围内不会影响光的出射。
根据本发明的实施例,所述弹性支撑件的高度比所述间隔物的高度和所述第一电极的厚度之和大0.3-0.5微米。由此,在将彩膜基板和阵列基板进行压合时可以有效避免间隔物压伤第一电极或者阴极,且弹性支撑件几乎不会对阴极造成损伤。
根据本发明的实施例,所述弹性支撑件的宽度为5-10微米。由此,弹性支撑件的宽度在上述范围内不会影响光的出射,还可以有效起到避免间隔物压伤第一电极或者阴极的作用。
根据本发明的实施例,该彩膜基板还包括设置在所述衬底和所述间隔物之间的黑矩阵,所述黑矩阵限定出多个间隔的开口,每个所述间隔物及其外侧的所述弹性支撑件在所述衬底上的正投影被相邻两个开口之间的黑矩阵在所述衬底上的正投影覆盖。由此,不会影响光的出射,使用性能较佳。
在本发明的另一方面,本发明提供了一种显示面板。根据本发明的实施例,该显示面板包括前面所述的彩膜基板。发明人发现,该显示面板结构简单,易于实现,显示亮度较为均匀,显示画面质量较高,使用性能较佳。
在本发明的另一方面,本发明提供了一种制备前面所述的彩膜基板的方法。根据本发明的实施例,该方法包括:在衬底上形成至少一个间隔物;在所述间隔物的外表面形成第一电极;在每个所述间隔物的外侧形成至少两个弹性支撑件,且所述至少两个弹性支撑件沿所述间隔物的外周均匀间隔设置,其中,所述弹性支撑件与所述间隔物设置在所述衬底的同侧,且所述弹性支撑件的高度大于所述间隔物的高度和所述第一电极的厚度之和。发明人发现,该方法操作简单、方便,易于实现,且制备得到的彩膜基板与阵列基板进行压合之后可以有效避免间隔物压伤第一电极或者阴极,且第一电极与阴极的搭接效果较佳。
根据本发明的实施例,形成所述弹性支撑件包括:将硅胶、纳米材料以及溶剂混合,得到墨水;将所述墨水进行喷墨打印和烘烤,以形成所述弹性支撑件;其中,所述纳米材料选自纳米柱和纳米球中的至少一种。由此,利用上述方法形成弹性支撑件的操作简单、方便,易于实现,精度较高,有利于实现大规模生产。
根据本发明的实施例,按照质量百分比计,所述墨水含有:5-10%的所述纳米材料;30-40%的所述硅胶;以及余量的所述溶剂。由此,将上述墨水进行喷墨打印并烘干后形成的弹性支撑件的支撑效果较佳,弹性较为合适,使用性能较佳。
附图说明
图1是本发明一个实施例中的彩膜基板的结构示意图。
图2是本发明另一个实施例中的彩膜基板的结构示意图。
图3是本发明另一个实施例中的彩膜基板的结构示意图。
图4是本发明另一个实施例中的彩膜基板的结构示意图。
图5是本发明一个实施例中的显示面板的结构示意图。
图6是本发明另一个实施例中的显示面板的结构示意图。
图7是本发明一个实施例中制备彩膜基板的方法流程示意图。
图8是本发明一个实施例中制备弹性支撑件的方法流程示意图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例。下面描述的实施例是示例性的,仅用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。实施例中未注明具体技术或条件的,按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者,均为可以通过市购获得的常规产品。
目前,在OLED显示面板中,为了减小外部电路的压降,通常在彩膜基板上制备间隔物作为搭接桥,然后在间隔物的外表面形成第一电极,通过将彩膜基板和阵列基板压合,可以使得第一电极和阵列基板的阴极相接触,实现搭接。但是由于填充层的填充使得间隔物的弹性受到限制,在压合时极易由于压力过大压伤第一电极或者阴极,压力过小造成第一电极和阴极之间的接触不良。针对上述技术问题,发明人进行了深入的研究,研究后发现,可以在每个间隔物外侧并围绕间隔物均匀地设置至少两个弹性支撑件,使得弹性支撑件的高度大于间隔物的高度和第一电极的厚度之和,由此,在进行压合时由于弹性支撑件的支撑作用可以有效避免第一电极被压伤,且能够有效实现第一电极与阵列基板的阴极搭接的效果。
有鉴于此,在本发明的一个方面,本发明提供了一种彩膜基板。根据本发明的实施例,参照图1,该彩膜基板包括:衬底100;至少一个间隔物200,所述间隔物200设置在所述衬底100的一侧,且外表面上设置有第一电极210;至少两个弹性支撑件300,所述弹性支撑件300与所述间隔物200设置在所述衬底100的同侧,每个所述间隔物200外侧设置至少两个所述弹性支撑件300,且所述至少两个弹性支撑件300沿所述间隔物200的外周均匀间隔设置,每个所述弹性支撑件300的高度h大于所述间隔物200的高度H和所述第一电极210的厚度d之和。发明人发现,该彩膜基板结构简单,易于实现,将该彩膜基板与阵列基板压合后,第一电极与阵列基板的阴极的搭接效果较佳,同时在弹性支撑件的作用下几乎不会损伤第一电极和阵列基板的阴极,且在每个间隔物外侧均设置有弹性支撑件可以有效避免任意一个间隔物对第一电极或者阴极的压伤,良率较高。
需要说明的是,上述每个弹性支撑件的高度大于间隔物的高度和第一电极的厚度之和是指:弹性支撑件远离衬底的表面到衬底的距离大于设置在间隔物外表面的第一电极远离衬底的表面到衬底的距离。
根据本发明的实施例,为了使得弹性支撑件具备较为合适的弹性,参照图2,所述弹性支撑件300包括相互连接的刚性段310和弹性段320,所述刚性段310靠近所述衬底100设置,在弹性支撑件中设置上述刚性段可以对弹性段起到有效的支撑作用,使得弹性支撑件在压合时不会产生过大的形变,进而使得间隔物在实现第一电极与阴极的搭接的同时有效避免其对第一电极或者阴极的压伤。根据本发明的实施例,形成刚性段的材料包括硅胶以及纳米材料,其中纳米材料选自纳米柱(例如纳米柱可以包括但不限于纳米柱氧化锆等)或者纳米球(例如纳米球可以包括但不限于碳纳米管等)中的至少一种。由此,由上述纳米材料形成的刚性段的刚性较佳,支撑效果较佳,形成的弹性支撑件的精度较高。根据本发明的实施例,形成所述弹性段的材料包括硅胶。由此,形成的弹性段的弹性较为合适,在刚性段的支撑下可以产生适当的形变,使用性能较佳。
根据本发明的实施例,为了使得弹性支撑件的弹性更合适,所述刚性段占所述弹性支撑件的总高度的四分之一到三分之一。由此,刚性段的支撑效果较佳,弹性段的弹性较合适,在将彩膜基板和阵列基板进行压合时弹性支撑件可以产生适当的形变,在实现第一电极与阴极的搭接的同时有效保护第一电极或者阴极不受间隔物的压伤。当刚性段占所述弹性支撑件的总高度的占比过低时,弹性支撑件的支撑效果不佳,导致在压合时弹性段的形变量过大进而使得间隔物压伤第一电极或者阴极,但是优于不含弹性支撑件的彩膜基板与阵列基板进行压合的效果;当刚性段占所述弹性支撑件的总高度的占比过大时,弹性段的弹性不佳,在压合时弹性段容易压坏阵列基板上的阴极,但是优于不含弹性支撑件的彩膜基板与阵列基板进行压合的效果。
根据本发明的实施例,所述弹性支撑件的高度比所述间隔物的高度和所述第一电极的厚度之和大0.3-0.5微米,例如弹性支撑件的高度可以比间隔物的高度和第一电极的厚度之和大0.3微米、0.32微米、0.34微米、0.36微米、0.38微米、0.4微米、0.42微米、0.44微米、0.46微米、0.48微米、0.5微米等。由此,弹性支撑件的支撑效果较佳,可以有效避免在彩膜基板和阵列基板压合时间隔物压伤第一电极或者阴极,且弹性支撑件几乎不会对阵列基板上的阴极造成损伤,第一电极与阴极的接触效果较佳。当弹性支撑件的高度与间隔物的高度和第一电极的厚度之和相差过大时,在压合时由于弹性支撑件高度过大会导致第一电极与阴极接触效果不太理想,但是优于不含弹性支撑件的彩膜基板与阵列基板进行压合时的效果;当弹性支撑件的高度与间隔物的高度和第一电极的厚度之和相差过小时,弹性支撑件不能有效起到支撑作用导致间隔物压伤第一电极或者阴极,但是优于不含弹性支撑件的彩膜基板与阵列基板进行压合时的效果。
根据本发明的实施例,所述弹性支撑件的宽度为5-10微米,例如所述弹性支撑件的宽度可以为5微米、6微米、7微米、8微米、9微米、10微米等。由此,弹性支撑件的宽度在上述范围内不会影响光的出射,还可以起到有效避免压合时间隔物压伤第一电极或者阴极的作用。当弹性支撑件的宽度过大时则会导致在压合时弹性支撑件的弹力过大压坏阵列基板的阴极,可能会遮挡出射的光线,但是优于不含弹性支撑件的彩膜基板与阵列基板进行压合时的效果;宽度过小时则在压合时不能有效起到支撑作用,使得间隔物压坏第一电极或者阴极,但是优于不含弹性支撑件的彩膜基板与阵列基板进行压合时的效果。根据本发明的实施例,为了方便制备,所述弹性支撑件和所述间隔物间隔设置,且间隔距离为0-0.5微米。由此,方便弹性支撑件的制备,且弹性支撑件与间隔物在上述间隔范围内不会影响光的出射。
根据本发明的实施例,参照图3,彩膜基板还可以包括黑矩阵400,该黑矩阵400设置在衬底100和间隔物200之间,所述黑矩阵400限定出多个间隔的开口410,每个所述间隔物200及其外侧的所述弹性支撑件300在所述衬底100上的正投影被相邻两个开口410之间的黑矩阵在所述衬底100上的正投影覆盖,其中,间隔物及其外侧的弹性支撑件均设置在黑矩阵远离衬底的表面。由此,不会影响光的出射,使用性能较佳。
根据本发明的实施例,为了使得黑矩阵的表面比较平坦,参照图4,彩膜基板还可以包括平坦层500,所述平坦层500设置在黑矩阵400与间隔物200之间且覆盖所述黑矩阵400,弹性支撑件300和间隔物200均可以设置在平坦层500远离衬底100的表面上。需要说明的是,形成平坦层的材料为常规材料,例如包括但不限于透明光学胶等,在此不再过多赘述。
根据本发明的实施例,间隔物的数量没有特别限制,只要能够满足要求,本领域技术人员可以根据实际需要灵活选择,本文的附图中仅以一个间隔物的情况为例进行说明,并不能理解为对本发明的限制,当彩膜基板中含有多个间隔物时,该多个间隔物可以随机分布,具体的设置方式还要依据实际情况进行选择;形成间隔物的材料为常规材料,在此不再过多赘述;设置在间隔物的外表面的第一电极的形成材料可以为AlNd或者Ag等金属,导电效果较佳;本文的附图中仅以两个弹性支撑件的情况为例进行说明,不能理解为对本发明的限制,具体弹性支撑件的数量需要根据实际需要进行选择。
在本发明的另一方面,本发明提供了一种显示面板。根据本发明的实施例,该显示面板包括前面所述的彩膜基板。发明人发现,该显示面板结构简单,易于实现,显示亮度较为均匀,显示画面质量较高,使用性能较佳。
根据本发明的实施例,该显示面板除了包括前面所述的彩膜基板之外,还可以包括阵列基板,将彩膜基板和阵列基板压合之后形成所述显示面板。具体的,可以参照图5,该显示面板包括:相对设置的第一衬底(与前面所述的衬底可以互换使用)100和第二衬底600;黑矩阵400,所述黑矩阵400设置在第一衬底100靠近第二衬底600的表面,且限定出多个间隔设置的第一开口(与前面所述的开口可以互换使用)410;平坦层500,所述平坦层500设置在黑矩阵400远离第一衬底100的表面且覆盖黑矩阵400;至少一个间隔物200,所述间隔物200设置在平坦层500远离第一衬底100的表面,且外表面上设置有第一电极210;至少两个弹性支撑件300,所述弹性支撑件300设置在平坦层500远离第一衬底100的表面,每个所述间隔物200外侧设置至少两个所述弹性支撑件300,且所述至少两个弹性支撑件300沿所述间隔物200的外周均匀间隔设置;薄膜晶体管阵列610,所述薄膜晶体管阵列610设置在第二衬底600靠近第一衬底100的表面上;像素界定层621,设置在薄膜晶体管阵列610远离第二衬底600的表面上,且限定出多个第二开口622,像素界定层621在衬底100上的正投影覆盖黑矩阵400在衬底100上的正投影,第二开口622在衬底100上的正投影覆盖第一开口410在衬底100上的正投影;OLED发光元件620(需要说明的是,OLED发光元件不包括阴极,包括OLED发光层和阳极),所述OLED发光元件620设置在开口622中;阴极630,所述阴极630设置在OLED发光元件620远离第二衬底600的表面上,覆盖OLED发光元件620以及像素界定层621,且与第一电极210的至少部分表面以及弹性支撑件300远离第一衬底100的表面接触;其中,在显示面板中,弹性支撑件300处于压缩状态,具有朝向阴极630的弹力,且压缩后弹性支撑件300的高度等于间隔物200的高度和第一电极210的厚度之和。上述显示面板的结构简单,易于实现,在弹性支撑件的支撑作用下,在压合时第一电极和阴极几乎不会被间隔物压伤,且弹性支撑件几乎不会损坏阴极,每一个间隔物外表面的第一电极与阴极接触效果较佳,进而在很大程度上减少显示画面不均匀的现象,显示质量较高,使用性能较佳。根据本发明的实施例,形成阴极的材料可以为氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)等。
根据本发明的实施例,参照图6,在彩膜基板和阵列基板之间还可以包括填充层700,所述填充层700覆盖阴极630、平坦层500、第一电极210以及弹性支撑件300的部分表面。由此,填充层可以有效起到封装作用;形成填充层的为可以为光刻胶或者玻璃等,在此不再过多赘述。
根据本发明的实施例,上述显示面板为OLED显示面板,其可以包括彩色滤光片,也可以不包括彩色滤光片,具体可以根据实际需要进行设置,上述显示面板除了包括上述彩膜基板和阵列基板之外,还可以包括封装胶、电极线等,在此不再过多赘述。
在本发明的另一方面,本发明提供了一种制备前面所述的彩膜基板的方法。根据本发明的实施例,参照图7,该方法包括:
根据本发明的实施例,在形成间隔物之前,可以先在衬底上形成黑矩阵和平坦层的步骤,且形成黑矩阵和平坦层的方法为常规方法,在此不再过多赘述。
S100:在衬底的一侧形成至少一个间隔物。
根据本发明的实施例,所述间隔物与前面的描述一致,在此不再过多赘述。根据本发明的实施例,形成间隔物的方法可以为光刻等。根据本发明的一个具体实施例,形成间隔物的方法可以为在平坦层远离衬底的一侧沉积整层绝缘层,然后对绝缘层进行图案化处理,具体的图案化方法可以为刻蚀等。
S200:在所述间隔物的外表面形成第一电极。
根据本发明的实施例,所述第一电极与前面的描述一致,在此不再过多赘述。根据本发明的一个具体实施例,形成第一电极的方法可以为通过磁控溅射、热蒸发和电镀等方法在平坦层远离衬底的表面上形成整层导电层,且导电层覆盖上述间隔物,然后对导电层进行图案化处理,具体的图案化方法可以为刻蚀等。
S300:在每个所述间隔物的外侧形成至少两个弹性支撑件,且所述至少两个弹性支撑件沿所述间隔物的外周均匀间隔设置。
根据本发明的实施例,所述弹性支撑件与所述间隔物设置在所述衬底的同侧,具体的,弹性支撑件设置在平坦层远离衬底的表面上,且所述弹性支撑件的高度大于所述间隔物的高度和所述第一电极的厚度之和。
根据本发明的实施例,弹性支撑件与前面的描述一致,在此不再过多赘述。根据本发明的实施例,参照图8,形成所述弹性支撑件包括:
S310:将硅胶、纳米材料以及溶剂混合,得到墨水。
根据本发明的实施例,为了使得最终获得的弹性支撑件具备较佳的性能,按照质量百分比计,所述墨水含有:5-10%的所述纳米材料;30-40%的所述硅胶;以及余量的所述溶剂。由此,将上述墨水进行喷墨打印并烘干后形成的弹性支撑件的支撑效果较佳,弹性较为合适,使用性能较佳。
根据本发明的实施例,所述纳米材料选自纳米柱和纳米球中的至少一种,且纳米柱或者纳米球与前面的描述一致,在此不再过多赘述;上述溶剂可以选自芳香类溶剂(例如环己基苯等)、环己醇或者醚类等。
S320:将所述墨水进行喷墨打印和烘烤,以形成所述弹性支撑件。
根据本发明的实施例,形成每个弹性支撑件的喷墨量可以为10-100皮升,由此,形成的弹性支撑件的高度适中,使用性能较佳。由于纳米材料的密度较大,在重力的作用下,纳米材料沉积在平坦层远离衬底的表面上,将墨水在100℃下烘烤后可以将溶剂挥发的比较完全,硅胶包覆在纳米材料的外表面从而形成了具备刚性段和弹性段的弹性支撑件。上述操作简单、方便,易于实现,且精度较高,可以获得弹性较为合适和支撑作用较佳的弹性支撑件。
发明人发现,上述制备彩膜基板的方法操作简单、方便,易于实现,且制备得到的彩膜基板与阵列基板进行压合之后可以有效避免间隔物压伤第一电极或者阴极,且第一电极与阴极的搭接效果较佳。
根据本发明的实施例,将利用上述方法制备得到的彩膜基板与阵列基板在真空环境中80℃的条件下进行压合,即可获得良率较高的显示面板,且显示面板的显示亮度不均匀的现象得到改善,画面质量较高,使用性能较佳。
根据本发明的实施例,在一般的显示面板中,为了降低外部电路的消耗,通过形成间隔物来辅助外部电路与阵列基板的阴极的搭接,但是由于填充层的存在使得间隔物的弹性受限,进而在压合的过程中会引起间隔物压伤第一电极或者阴极或者接触不良等现象。而在本申请中,通过在每个间隔物的外周设置至少两个均匀间隔设置的弹性支撑件,可以有效阻止压合时任意一个间隔物对第一电极或者阴极的压伤,保护效果较佳,且能够有效实现外部电路与阵列基板的阴极的搭接,使用性能较佳。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本发明的限制,本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (9)

1.一种用于OLED显示面板的彩膜基板,其特征在于,包括:
衬底;
至少一个间隔物,所述间隔物设置在所述衬底的一侧,且外表面上设置有第一电极;
至少两个弹性支撑件,所述弹性支撑件与所述间隔物设置在所述衬底的同侧,每个所述间隔物外侧设置至少两个所述弹性支撑件,且所述至少两个弹性支撑件沿所述间隔物的外周均匀间隔设置,每个所述弹性支撑件的高度大于所述间隔物的高度和所述第一电极的厚度之和,所述弹性支撑件的高度比所述间隔物的高度和所述第一电极的厚度之和大0.3-0.5微米,所述弹性支撑件的宽度为5-10微米,
还包括设置在所述衬底和所述间隔物之间的黑矩阵,所述黑矩阵限定出多个间隔的开口,每个所述间隔物及其外侧的所述弹性支撑件在所述衬底上的正投影被相邻两个开口之间的黑矩阵在所述衬底上的正投影和像素界定层在所述衬底上的正投影覆盖。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述弹性支撑件包括相互连接的刚性段和弹性段,所述刚性段靠近所述衬底设置。
3.根据权利要求2所述的彩膜基板,其特征在于,所述刚性段占所述弹性支撑件的总高度的四分之一到三分之一。
4.根据权利要求2所述的彩膜基板,其特征在于,形成所述刚性段的材料包括硅胶以及纳米材料,所述纳米材料选自纳米柱和纳米球中的至少一种,形成所述弹性段的材料包括硅胶。
5.根据权利要求2所述的彩膜基板,其特征在于,所述弹性支撑件和所述间隔物间隔设置,且间隔距离为0-0.5微米。
6.一种OLED显示面板,其特征在于,包括权利要求1-5中任一项所述的彩膜基板。
7.一种制作权利要求1-5中任一项所述的彩膜基板的方法,其特征在于,包括:
在衬底上形成至少一个间隔物;
在所述间隔物的外表面形成第一电极;
在每个所述间隔物的外侧形成至少两个弹性支撑件,且所述至少两个弹性支撑件沿所述间隔物的外周均匀间隔设置,
其中,所述弹性支撑件与所述间隔物设置在所述衬底的同侧,且所述弹性支撑件的高度大于所述间隔物的高度和所述第一电极的厚度之和。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,形成所述弹性支撑件包括:
将硅胶、纳米材料以及溶剂混合,得到墨水;
将所述墨水进行喷墨打印和烘烤,以形成所述弹性支撑件;
其中,所述纳米材料选自纳米柱和纳米球中的至少一种。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,按照质量百分比计,所述墨水含有:
5-10%的所述纳米材料;
30-40%的所述硅胶;
以及余量的所述溶剂。
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TWI362526B (en) * 2007-08-14 2012-04-21 Au Optronics Corp Liquid crystal display panel
CN103545345B (zh) * 2013-11-11 2016-09-21 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及其制备方法、显示装置
CN103700683B (zh) * 2013-12-27 2016-04-06 京东方科技集团股份有限公司 一种oled阵列基板的对置基板及其制备方法、显示装置
CN103792735B (zh) * 2014-01-22 2016-08-24 京东方科技集团股份有限公司 隔垫物、应用其的液晶面板及显示装置
CN103972270B (zh) * 2014-05-09 2016-03-02 京东方科技集团股份有限公司 Oled显示面板及应用其的oled显示装置
CN104078491B (zh) * 2014-06-20 2018-04-13 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置
CN104793405B (zh) * 2015-04-28 2018-06-19 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示器及液晶面板
CN107394052B (zh) * 2017-08-31 2024-01-09 京东方科技集团股份有限公司 一种有机发光二极管器件及其制备方法、显示装置
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