CN108303806A - 一种深度成像超分辨显微成像系统 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种深度成像超分辨显微系统，包括第一激光器、第一透镜、第一二色镜、第二二色镜、第二激光器、第六透镜、相位调制组件、第三二色镜、变形反射镜、X轴扫描振镜、相位补偿组件、Y轴扫描振镜、竖直光路折转匹配单元、第二四分之一波片、显微物镜、样品台、水平光路折转匹配单元、第一滤光片、波前传感器、第二滤光片、第十透镜、成像器件。该系统利用双光子效应，利用波前传感器和变形反射镜补偿荧光波前相位变化，结合样品台在Z轴方向的移动，在修正样品所带来的像差的同时实现三维深度成像，成像质量更高。

Description

一种深度成像超分辨显微成像系统

技术领域

本发明涉及光学显微成像领域，具体涉及一种深度成像超分辨显微成像系统。

背景技术

在常规的光学显微成像系统中，由于光学元器件的衍射效应，平行入射的照明光经过显微物镜聚焦之后在样品上所形成的光斑并不是一个理想的点，而是一个具有一定尺寸的衍射光斑，根据阿贝衍射极限公式，可见光能聚焦的最小光斑的直径约为200nm左右。1994年由德国科学家S.W.Hell首次提出STED超分辨显微成像技术，它超越了衍射极限，并于2006年实现了30纳米的空间分辨率，这一杰出的工作使他在2014年获得诺贝尔化学奖。

STED超分辨的基本思想是：利用受激辐射效应来减小有效荧光发光面积，一个典型的STED显微系统中需要两束光实现上述目的，一束为激发光，另一束为损耗光。当激发光照射荧光样品时，会激活激发光聚焦光斑内的光的荧光分子，其中的电子将会跃迁到激发态，聚焦光斑为中空圆环形的损耗光与激发光合束后，激发光聚焦光斑和损耗光聚焦光斑的重叠部分激发态的电子以受激辐射的方式回到基态，其它位于损耗光聚焦光斑中空位置的激发态电子由于没有受到损耗光的影响，继续以自发辐射的形式向外发生荧光回到基态。由于受激辐射和自发辐射过程中发出荧光的方向和波长不同，因此经过过滤后被探测器所接受的光子均是由位于激发光聚焦光斑中心位置的荧光样品通过自发荧光的方式产生的。这样有效荧光的发光面积得以减小，从而提高了系统的空间分辨率。

目前STED超分辨显微成像系统在生物医学的应用中，在泷口优的专利文献《受激发射损耗显微镜装置，公开号CN106133580A》中虽实现了超分辨，在一定程度上提高成像分辨率，但由于单光子激发受散射影响较大，使得激发光不宜穿透标本且光漂白严重等缺陷影响该系统的分辨率，限制了其广泛应用。

随着生物医学的研究发展，研究者对STED超分辨显微成像系统的分辨率、成像深度要求越来越高。双光子激发时的波长较长，受散射影响较小；此外焦平面外的荧光分子不被激发，使较多的激发光可以到达焦平面，因此与单光子激发相比，双光子激发的激发光可以穿透更深的标本且光漂白和光毒性小，适用于三维深度活细胞成像，于是人们开始将双光子激发技术与STED超分辨显微成像系统相结合。在S.W.Hell等人的专利文献《具有双光子激发的STED荧光显微技术，公开号CN101821607A》中用双光子激发代替单光子激发，但由于样品表面的不平整性和样品内部折射率分布的不均匀性所带来的像差导致系统无法实现对深度组织的高分辨率成像，限制了其广泛应用。

发明内容

本发明针对现有超分辨显微系统对生物样品结构实现三维成像时存在的样品深度方向扫描的像差问题，提出了一种深度成像超分辨显微系统。该系统利用双光子效应，结合变形反射镜补偿像差带来的波前相位变化，修正样品所带来的像差，实现三维超分辨成像。

一种深度成像超分辨显微成像系统，包括第一激光器、第一透镜、第一二色镜、第二二色镜、第二激光器、第六透镜、相位调制组件、第三二色镜、变形反射镜、X轴扫描振镜、相位补偿组件、Y轴扫描振镜、竖直光路折转匹配单元、第二四分之一波片、显微物镜、样品台、水平光路折转匹配单元、第一滤光片、波前传感器、第二滤光片、第十透镜、成像器件；

所述第一激光器输出的激发光经第一透镜扩束和第一二色镜透射后到达第二二色镜；

所述第二激光器输出的损耗光经第六透镜扩束和相位调制组件调相后，到达第二二色镜，与到达第二二色镜的激发光重合，形成重合光；

所述重合光经第三二色镜透射和变形反射镜后，再经X轴扫描振镜扫描、相位补偿组件补偿相位、Y轴扫描振镜扫描，最终经过竖直光路折转匹配单元和第二四分之一波片后进入显微物镜，重合光在显微物镜聚焦平面形成分辨率小于衍射极限的聚焦光斑，激发样品台上样品的荧光；

所述样品被两种荧光提前标记，受激发后发射两种不同波长的荧光；

所述第二二色镜与第三二色镜之间，变形反射镜与X轴扫描振镜之间，X轴扫描振镜与Y轴扫描振镜之间，相位调制组件与第二二色镜之间，设置用于调整光束的望远系统；

经显微物镜收集的两种不同波长的荧光沿重合光入射光路原路返回直到入射到第三二色镜，其中一种波长的荧光(称作第一荧光)经第三二色镜反射后，经水平光路折转匹配单元和第一滤光片后被波前传感器探测，根据所述波前传感器的波前信息控制所述变形反射镜工作；另外一种不同波长的荧光(称作第二荧光)透过第三二色镜，经第二和第一二色镜反射、第二滤光片和第十透镜后进入成像器件实现成像。

本发明中，竖直光路折转匹配单元主要用于将位于XY平面的光路转换为Z方向，以便于实现对水平放置的样品的观测，同时实现光束在不同光学元件之间的相互匹配以及图像的传输。

作为优选，所述竖直光路折转匹配单元包括第二透镜、第二反射镜、第三透镜、第三反射镜、第四透镜、第四反射镜、第五透镜；经X轴扫描振镜、Y轴扫描振镜扫描后的重合光依次通过第二透镜、第二反射镜、第三透镜、第三反射镜、第四透镜、第四反射镜、第五透镜和所述第二四分之一波片进入物镜。

本发明中，所述X、Y轴扫描振镜用于分别实现重合光在X、Y方向的偏转，X轴扫描振镜和Y轴扫描振镜相互配合，实现对样品进行XY面的逐点扫描。相互之间设置的位置可以改变，比如也可以让光束先经过Y轴扫描振镜扫描，然后再经过X轴扫描振镜扫描。

本发明中，所述水平光路折转匹配单元主要用于在XY平面上实现对光路的导向以及光束的匹配，同时进一步优化了系统的构建，提高了整个系统的紧凑性。

作为优选，所述水平光路折转匹配单元包括第八透镜、第八反射镜、第九反射镜、第九透镜、第十反射镜、第十一反射镜；所述第三二色镜反射后的荧光依次经过第八透镜、第八反射镜、第九反射镜、第九透镜、第十反射镜、第十一反射镜和所述第一滤光片进入波前传感器。

本发明中，所述相位调制组件用于对输入损耗光的相位进行调制。作为优选，所述相位调制组件包括第五反射镜、空间光调制器、第七透镜、第三四分之一波片、第六反射镜；所述第六透镜扩束后的损耗光经过第五反射镜首次到达空间光调制器的对应的相位图区域进行首次相位调整；然后经首次相位调整的损耗光依次经过第七透镜、第三四分之一波片、第六反射镜，经第六反射镜反射后再次返回第三四分之一波片、第七透镜，最后到达空间光调制器的对应的相位图区域进行二次相位调整。

作为优选，所述第三二色镜与变形反射镜之间设有第一反射镜。从第三二色镜透射的重合光通过第一反射镜反射至变形反射镜上。

作为优选，所述相位调制组件与第二二色镜之间设有第七反射镜。经过相位调制组件调制后的损耗光经过第七反射镜将损耗光反射到第二二色镜上。

作为优选，所述第六透镜与空间光调制器之间设有第五反射镜。第二激光器发出的损耗光经过第六透镜后，通过第五反射镜将损耗光反射至空间光调制器上进行首次相位调制。

本发明中，所述空间光调制器只对水平偏振光敏感，只会调节损耗光中水平偏振光的波前。所以，通过利用第五反射镜将损耗光反射至空间光调制器其中一个对应的相位图区域，首先完成对损耗光中水平偏振光的相位调整；而从空间光调制器出射的损耗光两次经过四分之一波片，产生了半波的相位延迟，原来的水平偏振光的偏振方向变为垂直偏振方向，不会被空间光调制器上相位图形影响，原来的垂直偏振光的偏振方向变为水平偏振方向，完成对损耗光中垂直偏振光的相位调整，最终产生一个三维的中空球形损耗光斑。

作为优选，所述相位补偿组件包括半波片和第一四分之一波片，所述半波片和第一四分之一波片组合补偿整个系统中的不确定的相位延迟，上述相位补偿组件来保证进入竖直光路折转匹配单元的光为线偏振光。

本发明中，所述第一激光器用于产生飞秒激光，所述第二激光器用于产生皮秒激光，由此提供一个高光子密度的环境，产生双光子激发，减小散射影响，从而实现深度成像。

本发明中，所述双光子激发是指在高光子密度的环境的情况下，荧光分子可以同时吸收两个长波长的光子，在经过一个很短的所谓激发态寿命的时间后，发射出一个波长较短的光子，散射影响、光漂白和光毒性小，能对组织进行深度成像，并且双光子激发只发生在物镜的焦点上使得荧光检测效率高。

作为优选，所述第一激光器输出激发光的波长为830纳米，所述第二激光器输出损耗光的波长为775纳米。

作为优选，所述第二二色镜与第三二色镜之间，变形反射镜与X轴扫描振镜之间，X轴扫描振镜与Y轴扫描振镜之间，相位调制组件与第二二色镜之间，均设有相互独立的望远系统。

本发明中，所述第一激光器输出的激发光经第一透镜扩束和第一二色镜透射后到达第二二色镜；第二激光器输出的损耗光经第六透镜扩束和第五反射镜反射后到达空间光调制器，经空间光调制器第一次调制后的损耗光两次经过第七透镜和第三四分之一波片后再次到达空间光调制器，经空间光调制器第二次调制后的损耗光经第四望远系统准直和第七反射镜反射后到达第二二色镜；第二二色镜反射激发光，透射损耗光，使得激发光和损耗光同轴重合，重合光经第一望远系统准直、第三二色镜透射、第一反射镜反射和变形反射镜后进入第二望远系统准直，之后经X轴扫描振镜、第三望远系统、半波片、第一四分之一波片、Y轴扫描振镜和第二透镜后进入第二反射镜，被第二反射镜反射的重合光通过第三透镜后被第三反射镜反射，被第三反射镜反射的重合光通过第四透镜后被第四反射镜反射，通过第五透镜和第二四分之一波片后进入显微物镜，最后由显微物镜聚焦到样品台的样品上，样品提前被两种荧光标记，激发出两种波长的荧光；

两种波长的荧光被显微物镜反向收集，经显微物镜收集的两种波长的荧光沿重合光入射光路原路返回直到入射到第三二色镜，其中一种波长的荧光经第三二色镜反射后，经第八透镜、第八反射镜、第九反射镜、第九透镜、第十反射镜、第十一反射镜和第一滤光片后被波前传感器探测；另外一种波长的荧光透过第三二色镜，经第一望远系统准直、第二和第一二色镜反射、第二滤光片和第十透镜后进入成像器件实现成像。

本发明中，所述第一、第二、第三、第四望远系统均包括两个凸面向背设置且共焦的凸透镜，用于扩束(或者缩束)准直，使得经过望远系统的光束直径变大(或变小)，发散角较小，在垂直于光轴方向的横截面内光强分布更均匀，更接近于平行光。

本发明中，所述第一透镜用于对激发光进行准直，第六透镜用于对损耗光进行准直，第二、四透镜用于对重合光进行会聚，第三、五透镜用于对重合光进行准直，第八透镜用于对第一荧光进行会聚，第九透镜用于对第一荧光进行准直，第十透镜用于对第二荧光会聚。

本发明中，所述第一二色镜对激发光表现为高透，对第二荧光表现为高反。所述第二二色镜对激发光以及第二荧光表现为高反，对损耗光表现为高透。所述第三二色镜对重合光和第二荧光表现为高透，对第一荧光表现为高反。所述的高透，是指透射率在98％以上；所述的高反，是指反射率在98％以上，具体为98％～99.9％。

本发明中，所述第二四分之一波片用于将线偏光转化为圆偏光。

本发明中，所述变形反射镜用于校正样品表面不平整性和内部折射率分布不均匀性产生的两种波长的荧光的波前变化，对两种波长的荧光进行相位补偿，从而达到压缩样品产生的像差的目的。

本发明中，所述波前传感器测量第一荧光波前，对比第一荧光的波前和理想平面波的波前的差异，从而获得样品造成的第一荧光的波前变化；由于样品对第一荧光和第二荧光产生的波前变化相同，因此驱动变形反射镜产生相反的相位延迟可补偿第一荧光和第二荧光的波前变化，实现样品像差的压缩。

本发明中，所述第一、二滤光片用于过滤杂散光，第一滤光片只允许第一荧光通过，第二滤光片只允许第二荧光通过。

本发明中，所述第二反射镜、第三透镜、第三反射镜、第四透镜、第四反射镜、第五透镜、第二四分之一波片、显微物镜和样品台在XZ平面，利于对样品的观测，其它器件置于XY平面。

作为优选，所述荧光选用两种具有优良的光稳定性和亮度以及寿命长的ATTO系列染料，减小荧光损耗，增强成像荧光信号。

作为优选，所述显微物镜选用奥林巴斯公司生产的型号为XLPN25XSVMP的专用物镜，放大倍率为25倍，数值孔径为1.0，工作距离4mm。

作为优选，所述X、Y扫描振镜选用Cambridge Technology生产的型号为6231H的光学扫描振镜。

本发明的样品台可以在Z轴方向上按照设定速度进行往复移动，以便实现对样品的三维超分辨成像。

相对于现有技术，本发明具有以下有益的技术效果：

1、本发明激发光为红外光，穿透力强，更有利于组织深度成像，加上光子波长长的能量低，对组织的光漂白和光毒性小。

2、本发明引入波前传感器实时观测样品的波前相位，协同变形反射镜灵活地补偿样品造成的波前的变化，实现相位补偿，从而达到压缩样品产生的像差的目的，结合样品台在Z轴方向的移动，可实现三维超分辨成像。

因此，本发明的技术方案与原有技术相比，该系统利用双光子效应，利用波前传感器和变形反射镜补偿荧光波前相位变化，结合样品台在Z轴方向的移动，在修正样品所带来的像差的同时实现三维深度成像，成像质量更高。

附图说明

图1为本发明：一种深度成像超分辨显微系统结构的一个实施例的光路图；

其中：第一激光器1、第一透镜2、第一二色镜3、第二二色镜4、第一望远系统5、第三二色镜6、第一反射镜7、变形反射镜8、第二望远系统9、X轴扫描振镜10、第三望远系统11、半波片12、第一四分之一波片13、Y轴扫描振镜14、第二透镜15、第二反射镜16、第三透镜17、第三反射镜18、第四透镜19、第四反射镜20、第五透镜21、第二四分之一波片22、显微物镜23、样品台24、第二激光器25、第六透镜26、第五反射镜27、空间光调制器28、第七透镜29、第三四分之一波片30、第六反射镜31、第四望远系统32、第七反射镜33、第八透镜34、第八反射镜35、第九反射镜36、第九透镜37、第十反射镜38、第十一反射镜39、第一滤光片40、波前传感器41、第二滤光片42、第十透镜43、成像器件44。

具体实施方式

下面结合说明书附图来详细说明本发明，但本发明并不限于此。

如图1所示是本发明一种深度成像超分辨显微系统结构的一个实施例的光路图，该实施例的系统包括：

第一激光器1、第一透镜2、第一二色镜3、第二二色镜4、第一望远系统5、第三二色镜6、第一反射镜7、变形反射镜8、第二望远系统9、X轴扫描振镜10、第三望远系统11、半波片12、第一四分之一波片13、Y轴扫描振镜14、第二透镜15、第二反射镜16、第三透镜17、第三反射镜18、第四透镜19、第四反射镜20、第五透镜21、第二四分之一波片22、显微物镜23、样品台24、第二激光器25、第六透镜26、第五反射镜27、空间光调制器28、第七透镜29、第三四分之一波片30、第六反射镜31、第四望远系统32、第七反射镜33、第八透镜34、第八反射镜35、第九反射镜36、第九透镜37、第十反射镜38、第十一反射镜39、第一滤光片40、波前传感器41、第二滤光片42、第十透镜43、成像器件44。

其中，第一激光器1为安扬激光公司的FemtoYLTM-100高功率飞秒光纤激光器，第二激光器25为Calmar Laser公司的MENDOCINO型皮秒激光器。

第一激光器1输出激发光，第二激光器25输出损耗光；激发光经第一透镜2扩束和第一二色镜3透射后到达第二二色镜4；损耗光经第六透镜26扩束和第五反射镜27反射后到达空间光调制器28对应的相位图区域，首先完成对损耗光中水平偏振光的相位调整，而从空间光调制器28出射的损耗光利用第六反射镜31两次经过第三四分之一波片30(从空间光调制器28出射的损耗光首先经过第七透镜29聚焦、第三四分之一波片30后，经过第六反射镜31反射，反射光依次经过第三四分之一波片30和第七透镜29再次到达空间光调制器28对应的相位图区域)，产生了半波的相位延迟，原来的水平偏振光的偏振方向变为垂直偏振方向，不会被空间光调制器28上相位图形影响，原来的垂直偏振光的偏振方向变为水平偏振方向，完成对损耗光中垂直偏振光的相位调整，最终产生一个三维的中空球形损耗光，经空间光调制器28调制后的损耗光经第四望远系统32准直和第七反射镜33反射后到达第二二色镜4；第二二色镜4反射激发光，透射损耗光，使得激发光和损耗光同轴重合，重合光经第一望远系统5扩束准直、第三二色镜6透射、第一反射镜7反射和变形反射镜8后进入第二望远系统9准直同时调整光束尺寸，再经过X轴扫描振镜10、第三望远系统11扩束准直，之后经半波片12和第一四分之一波片13组合补偿整个系统中的不确定的相位延迟，保证进入竖直光路折转匹配单元的重合光为线偏振光，相位补偿后的重合光经Y轴扫描振镜14、第二透镜15会聚、第二反射镜16反射、第三透镜17准直、第三反射镜18反射、第四透镜19会聚、第四反射镜20反射和第五透镜21准直后入射到第二四分之一波片22上，经过第二四分之一波片22后进入显微物镜23，最后由显微物镜23聚焦到样品台24的样品上激发荧光，样品被两种荧光标记，受激发后，发出两种波长不同的荧光；两种波长不同的荧光被显微物镜23反向收集，经显微物镜23收集的两种波长不同的荧光沿重合光入射光路原路返回直到入射到第三二色镜6，其中一种波长的荧光经第三二色镜6反射后，经第八透镜34会聚、第八反射镜35反射、第九反射镜36反射、第九透镜37准直、第十反射镜38反射、第十一反射镜39反射和第一滤光片40滤除杂散光后入射到波前传感器41，波前传感器41直接测量样品的波前相位，驱动变形反射镜8产生相反的相位延迟补偿两种不同波长的荧光的波前变化；经过波前变化补偿的另外一种波长的荧光透过第三二色镜6，经第一望远系统5准直、第二二色镜4和第一二色镜3反射、第二滤光片42滤除杂散光和第十透镜43会聚后进入成像器件44实现压缩像差的成像。

本实施例中，变形反射镜8用于校正样品表面不平整性和样品内部折射率分布的不均匀性产生的两个波长的荧光波前的变化，对两个波长的荧光进行相位补偿，从而达到压缩样品产生的像差的目的。

其中，第二反射镜16、第三透镜17、第三反射镜18、第四透镜19、第四反射镜20、第五透镜21、第二四分之一波片22、显微物镜23和样品台24在XZ平面，利于对样品的观测，其它器件置于XY平面。本实施例中显微物镜23可选用奥林巴斯公司的XLPN25XSVMP的专用物镜，放大倍率为25倍，数值孔径为1.0，工作距离4mm。

本实施例中，X轴扫描振镜10、Y轴扫描振镜14用于分别实现重合光在X、Y方向的偏转，X轴扫描振镜和Y轴扫描振镜相互配合，实现对样品进行XY面的逐点扫描。扫描振镜选用Cambridge Technology生产的型号为6231H的光学扫描振镜，线扫描宽度为15毫米。

本实施例中，样品台可以在Z轴方向上按照设定速度进行往复移动，当本发明的辨显微系统完成样品当前位置的成像后，移动样品台，开始对样品下一位置的成像，最终实现对样品的三维超分辨成像。

本实施例中，样品被ATTO647N和ATTO594两种荧光染料提前标定过。

本实施例中波前传感器41可选用Shack-Hartmann传感器。

本实施例中成像器件44可选用Excelitas公司的LY3056480雪崩式光电二极管(APD)。

最后需要说明的是，以上实施方式仅用以说明本发明的技术方案而非限制，本领域的普通技术人员来说不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干变型和改进，这也应视为本发明的保护范围。

Claims (9)

1.一种深度成像超分辨显微成像系统，其特征在于，包括第一激光器、第一透镜、第一二色镜、第二二色镜、第二激光器、第六透镜、相位调制组件、第三二色镜、变形反射镜、X轴扫描振镜、相位补偿组件、Y轴扫描振镜、竖直光路折转匹配单元、第二四分之一波片、显微物镜、样品台、水平光路折转匹配单元、第一滤光片、波前传感器、第二滤光片、第十透镜、成像器件；

所述第一激光器输出的激发光经第一透镜扩束和第一二色镜透射后到达第二二色镜；

所述第二激光器输出的损耗光经第六透镜扩束和相位调制组件调相后，到达第二二色镜，与到达第二二色镜的激发光重合，形成重合光；

所述重合光经第三二色镜透射和变形反射镜后，再经X轴扫描振镜扫描、相位补偿组件补偿相位、Y轴扫描振镜扫描，最终经过竖直光路折转匹配单元和第二四分之一波片后进入显微物镜，重合光在显微物镜聚焦平面形成分辨率小于衍射极限的聚焦光斑，激发样品台上样品的荧光；

所述样品被两种荧光标记，受激发后发射两种波长的荧光；

经显微物镜收集的两种波长的荧光沿重合光入射光路原路返回直到入射到第三二色镜，其中一种波长的荧光经第三二色镜反射后，经水平光路折转匹配单元和第一滤光片后被波前传感器探测，根据所述波前传感器件的波前信息控制所述变形反射镜工作；另一种波长的荧光透过第三二色镜，经第二和第一二色镜反射、第二滤光片和第十透镜后进入成像器件实现成像；

所述第二二色镜与第三二色镜之间，变形反射镜与X轴扫描振镜之间，X轴扫描振镜与Y轴扫描振镜之间，相位调制组件与第二二色镜之间，设置用于调整光束的望远系统。

2.根据权利要求1所述的深度成像超分辨显微成像系统，其特征在于，所述竖直光路折转匹配单元包括第二透镜、第二反射镜、第三透镜、第三反射镜、第四透镜、第四反射镜、第五透镜；

经X轴扫描振镜、Y轴扫描振镜扫描后的重合光依次通过第二透镜、第二反射镜、第三透镜、第三反射镜、第四透镜、第四反射镜、第五透镜和所述第二四分之一波片进入物镜。

3.根据权利要求1所述的深度成像超分辨显微成像系统，其特征在于，所述水平光路折转匹配单元包括第八透镜、第八反射镜、第九反射镜、第九透镜、第十反射镜、第十一反射镜；

所述第三二色镜反射后的荧光依次经过第八透镜、第八反射镜、第九反射镜、第九透镜、第十反射镜、第十一反射镜和所述第一滤光片进入波前传感器。

4.根据权利要求1所述的深度成像超分辨显微成像系统，其特征在于，所述相位调制组件包括第五反射镜、空间光调制器、第七透镜、第三四分之一波片、第六反射镜；

所述第六透镜扩束后的损耗光经过第五反射镜首次到达空间光调制器的对应的相位图区域进行首次相位调整；然后经首次相位调整的损耗光依次经过第七透镜、第三四分之一波片、第六反射镜，经第六反射镜反射后再次返回第三四分之一波片、第七透镜，最后到达空间光调制器的对应的相位图区域进行二次相位调整。

5.根据权利要求1所述的深度成像超分辨显微成像系统，其特征在于，所述相位补偿组件包括半波片和第一四分之一波片，所述半波片和第一四分之一波片组合补偿系统中的二色镜所带来的相位延迟。

6.根据权利要求1所述的深度成像超分辨显微成像系统，其特征在于，所述第三二色镜与变形反射镜之间设有第一反射镜。

7.根据权利要求1所述的深度成像超分辨显微成像系统，其特征在于，所述相位调制组件与第二二色镜之间设有第七反射镜。

8.根据权利要求1所述的深度成像超分辨显微成像系统，其特征在于，所述第一激光器用于产生飞秒激光，所述第二激光器用于产生皮秒激光。

9.根据权利要求1或8所述的深度成像超分辨显微成像系统，其特征在于，所述第一激光器输出激发光的波长为830纳米，所述第二激光器输出损耗光的波长为775纳米。