CN108002711A - 一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 47
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 title claims abstract description 20
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 16
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 49
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 14
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910007717 ZnSnO Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 195
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 126
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 114
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 63
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 60
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 45
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 45
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 42
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 42
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 42
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 30
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 24
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 13
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910000611 Zinc aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 12
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 8
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 claims description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- HXFVOUUOTHJFPX-UHFFFAOYSA-N alumane;zinc Chemical compound [AlH3].[Zn] HXFVOUUOTHJFPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 6
- GZCWPZJOEIAXRU-UHFFFAOYSA-N tin zinc Chemical compound [Zn].[Sn] GZCWPZJOEIAXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 4
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 abstract description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 abstract description 2
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 abstract 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004134 energy conservation Methods 0.000 description 2
- 241000227425 Pieris rapae crucivora Species 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000004035 construction material Substances 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000005344 low-emissivity glass Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3649—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer made of metals other than silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
- C03C2218/156—Deposition methods from the vapour phase by sputtering by magnetron sputtering
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
本发明提供了一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法，属于磁控溅射镀膜技术领域。该技术在双银膜层结构的基础上，通过膜层优化设计及新材料的引入，提高了膜层的透过率及耐氧化性能。一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片层G和镀膜层，镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十三个膜层，其中第一层为SiNx层，第二层为ZnSnO层,第三层ZnO层，第四层为Ag层，第五层为NiCr层,第六层为TixSiyNz层,第七层为SiNx层,第八层为ZnSnO层，第九层为ZnO层，第十层为Ag层，第十一层为NiCr层，第十二层为TixSiyNz层，第十三层为SiNx层，各镀膜层通过磁控溅射的方式依次镀在玻璃基片层上。本发明玻璃具有透过率高、耐氧化等优点。
Description
技术领域
本发明属于磁控溅射镀膜技术领域，具体涉及一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法。
背景技术
作为一种优良的建筑材料，玻璃由于其良好的通透性，具有透光防风雪的功能，被广泛应用于建筑上。随着现代科技水平的发展，玻璃被赋予各种新的内涵，其中low-E玻璃以其美观大方的颜色、较好的质感以及优良的节能特性，在建筑幕墙领域已受到广泛应用。Low-E玻璃又称低辐射玻璃，常使用磁控溅射法在玻璃基片表面沉积出纳米膜层，进而改变玻璃的光学、电学、机械和化学等方面的性能，达到装饰、节能、环保等目的。
作为节能建筑材料，low-E玻璃的节能特性与普通玻璃及热反射镀膜玻璃相比，Low-E玻璃对远红外辐射具有极高的反射率。可保持室内温度稳定，减少建筑加热或制冷的能耗，起到了非常优秀的节能降耗作用。而高透型Low-E玻璃在保障绝佳的保温性能的同时具有较高的可见光透射率，所以采光效果好，适用于北方寒冷地区和部分地域的高通透性建筑，突出自然采光效果。
现有技术的缺点：
1)现有高透双银低辐射镀膜玻璃透过率仍难以满足客户需求。
2)现有高透双银膜系普遍存在耐氧化性差，单片保存时间短的问题。
发明内容
本发明的目的是针对现有的技术存在的上述问题，提供一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法，本发明所要解决的技术问题是如何通过镀膜层的设计，提高镀膜玻璃透过率、耐氧化能力。
本发明的目的可通过下列技术方案来实现：一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十三个膜层，其中第一层为SiNx层，第二层为ZnSnO层,第三层为ZnO层，第四层为Ag层，第五层为NiCr层,第六层为TixSiyNz层,第七层为SiNx层,第八层为ZnSnO层，第九层为ZnO层，第十层为Ag层，第十一层为NiCr层，第十二层为TixSiyNz层，第十三层为SiNx层。
一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述基片层为透光率可达90％以上的高透玻璃。
一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一层、第二层、第三层为第一电介质组合层，第四层为低辐射功能层，第五层为第一阻挡保护层，第六层为钛掺杂微晶保护层，第七层、第八层、第九层为第二电介质组合层，第十层为低辐射功能层,第十一层为第二阻挡保护层，第十二层为钛掺杂微晶保护层，第十三层为第三电介质层。
由于本专利技术膜层透过率较高，使用普通白玻基片生产出的产品室外观察略带绿色，使用高透玻璃作为基片生产时产品外观为中性灰色。
一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，本方法包括如下步骤：
1)、磁控溅射镀膜层；
A、磁控溅射第一层：
靶材数量：交流旋转靶3～4个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为18～20nm；
B、磁控溅射第二层：
靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材配置为锌锡(ZnSn)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为7～8nm；
C、磁控溅射第三层：
靶材数量：交流旋转靶1～2个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为15～6nm；
D、磁控溅射第四层：
靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为7～7.5nm；
E、磁控溅射第五层：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为0.1～0.5nm；
F、磁控溅射第六层：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为钛掺杂硅陶瓷；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为5:1，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为5～6nm；
G、磁控溅射第七层：
靶材数量：交流旋转靶3～5个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为42～44nm；
H、磁控溅射第八层：
靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材配置为锌锡(ZnSn)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为,3～5×10-3mbar；镀膜厚度为18～20nm；
I、磁控溅射第九层：
靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为27～29nm；
J、磁控溅射第十层：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体比：纯氧，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为4～4.5nm；
磁控溅射第十层还可以为：
靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体比：纯氧，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为5.5～6nm；
K、磁控溅射第十一层：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体：纯氩，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为0.2～0.4nm；
L、磁控溅射第十二层：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为钛掺杂硅陶瓷；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为2～3×10-3mbar；；镀膜厚度为5～6nm；
M、磁控溅射第十二层：
靶材数量：交流旋转靶4～6个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为42～43nm；
2)、镀膜层总厚度控制在200～210nm之间，溅射室传动走速控制在4.5-5.0m/min。
其中高透中性色双银膜系各项具体的颜色值(CIE1976L*a*b*色空间)。
本发明优点：
1、单片透过率＞80％
2、外观颜色为中性，其中透过色a*∈[-4,-3]，b*∈[1，2]；玻面颜色a*∈[-1,0]，b*∈[-7，-6]；膜面颜色a*∈[-7,-6]，b*∈[1，3]；玻面小角度颜色a*∈[-2,-1]，b*∈[-8，-7]。
3、耐氧化性能好，车间放置实验，时间大于70小时(湿度≥70％，温度≥20℃)。
4、光热学性能优良，实测平均传热系数为1.67、遮阳系数为0.48。
附图说明
图1是本高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃层状结构示意图。
图中，G、玻璃基片层；1、第一层；2、第二层；3、第三层；4、第四层；5、第五层；6、第六层；7、第七层；8、第八层；9、第九层；10、第十层；11、第十一层；12、第十二层；13、第十三层。
具体实施方式
以下是本发明的具体实施例并结合附图，对本发明的技术方案作进一步的描述，但本发明并不限于这些实施例。
如图1所示，本高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基片层G和镀膜层，镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十三个膜层，其中第一层1为SiNx层，第二层2为ZnSnO层,第三层3为ZnO层，第四层4为Ag层，第五层5为NiCr层,第六层6为TixSiyNz层,第七层7为SiNx层,第八层8为ZnSnO层，第九层9为ZnO层，第十层10为Ag层，第十一层11为NiCr层，第十二层12为TixSiyNz层，第十三层13为SiNx层。所述基片层G为透光率可达90％以上的高透玻璃。所述第一层1、第二层2、第三层3为第一电介质组合层，第四层4为低辐射功能层，第五层5为第一阻挡保护层，第六层6为钛掺杂微晶保护层，第七层7、第八层8、第九层9为第二电介质组合层，第十层10为低辐射功能层,第十一层11为第二阻挡保护层，第十二层12为钛掺杂微晶保护层，第十三层13为第三电介质层。
一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃，其制备方法包括如下步骤：
1)、磁控溅射镀膜层；
A、磁控溅射第一层1：
靶材数量：交流旋转靶3～4个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为18～20nm；
B、磁控溅射第二层2：
靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材配置为锌锡(ZnSn)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为7～8nm；
C、磁控溅射第三层3：
靶材数量：交流旋转靶1～2个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为15～6nm；
D、磁控溅射第四层4：
靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为7～7.5nm；
E、磁控溅射第五层5：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为0.1～0.5nm；
F、磁控溅射第六层6：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为钛掺杂硅陶瓷；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为5:1，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为5～6nm；
G、磁控溅射第七层7：
靶材数量：交流旋转靶3～5个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为42～44nm；
H、磁控溅射第八层8：
靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材配置为锌锡(ZnSn)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为,3～5×10-3mbar；镀膜厚度为18～20nm；
I、磁控溅射第九层9：
靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为27～29nm；
J、磁控溅射第十层10：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体比：纯氧，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为4～4.5nm；
磁控溅射第十层10还可以为：
靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体比：纯氧，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为5.5～6nm；
K、磁控溅射第十一层11：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体：纯氩，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为0.2～0.4nm；
L、磁控溅射第十二层12：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为钛掺杂硅陶瓷；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为2～3×10-3mbar；；镀膜厚度为5～6nm；
M、磁控溅射第十二层13：
靶材数量：交流旋转靶4～6个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为42～43nm；
2)、镀膜层总厚度控制在200～210nm之间，溅射室传动走速控制在4.5-5.0m/min。
其中高透中性色双银膜系各项具体的颜色值(CIE1976L*a*b*色空间)。
本文中所描述的具体实施例仅仅是对本发明精神作举例说明。本发明所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本发明的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。
Claims (2)
1.一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片层G和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十三个膜层，其中第一层(1)为SiNx层，第二层(2)为ZnSnO层,第三层(3)为ZnO层，第四层(4)为Ag层，第五层(5)为NiCr层,第六层(6)为TixSiyNz层,第七层(7)为SiNx层,第八层(8)为ZnSnO层，第九层(9)为ZnO层，第十层(10)为Ag层，第十一层(11)为NiCr层，第十二层(12)为TixSiyNz层，第十三层(13)为SiNx层；所述基片G层为透光率可达90％以上的高透玻璃。所述第一层(1)、第二层(2)、第三层(3)为第一电介质组合层，第四层(4)为低辐射功能层，第五层(5)为第一阻挡保护层，第六层(6)为钛掺杂微晶保护层，第七层(7)、第八层(8)、第九层(9)为第二电介质组合层，第十层(10)为低辐射功能层,第十一层(11)为第二阻挡保护层，第十二层(12)为钛掺杂微晶保护层，第十三层(13)为第三电介质层。
2.一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，本方法包括如下步骤：
1)、磁控溅射镀膜层；
A、磁控溅射第一层(1)：
靶材数量：交流旋转靶3～4个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为18～20nm；
B、磁控溅射第二层(2)：
靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材配置为锌锡(ZnSn)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为7～8nm；
C、磁控溅射第三层(3)：
靶材数量：交流旋转靶1～2个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为15～6nm；
D、磁控溅射第四层(4)：
靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为7～7.5nm；
E、磁控溅射第五层(5)：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为0.1～0.5nm；
F、磁控溅射第六层(6)：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为钛掺杂硅陶瓷；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为5:1，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为5～6nm；
G、磁控溅射第七层(7)：
靶材数量：交流旋转靶3～5个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为42～44nm；
H、磁控溅射第八层(8)：
靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材配置为锌锡(ZnSn)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为,3～5×10-3mbar；镀膜厚度为18～20nm；
I、磁控溅射第九层(9)：
靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为27～29nm；
J、磁控溅射第十层(10)：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体比：纯氧，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为4～4.5nm；
磁控溅射第十层(10)还可以为：
靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体比：纯氧，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为5.5～6nm；
K、磁控溅射第十一层(11)：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体：纯氩，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为0.2～0.4nm；
L、磁控溅射第十二层(12)：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为钛掺杂硅陶瓷；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为2～3×10-3mbar；；镀膜厚度为5～6nm；
M、磁控溅射第十二层(13)：
靶材数量：交流旋转靶4～6个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为42～43nm；
2)、镀膜层总厚度控制在200～210nm之间，溅射室传动走速控制在4.5-5.0m/min。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201711213080.9A CN108002711A (zh) | 2017-11-28 | 2017-11-28 | 一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法 |
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| CN201711213080.9A CN108002711A (zh) | 2017-11-28 | 2017-11-28 | 一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN108002711A true CN108002711A (zh) | 2018-05-08 |
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Family Applications (1)
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| Country | Link |
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| CN (1) | CN108002711A (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110436794A (zh) * | 2019-08-16 | 2019-11-12 | 镇江爱豪科思电子科技有限公司 | 一种节能型阳光控制膜玻璃及其制备方法 |
| CN111704369A (zh) * | 2020-06-24 | 2020-09-25 | 咸宁南玻节能玻璃有限公司 | 一种全景灰色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法 |
| CN111847900A (zh) * | 2019-04-29 | 2020-10-30 | 贵州省巨三奇节能玻璃有限公司 | 一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101556901A (zh) * | 2008-04-07 | 2009-10-14 | 陈敏璋 | 光电元件及其制造方法 |
| CN104401059A (zh) * | 2014-11-05 | 2015-03-11 | 中山市格兰特实业有限公司 | 双面膜层玻璃及制备方法及应用该双面膜玻璃的中空玻璃 |
| CN105481267A (zh) * | 2015-11-26 | 2016-04-13 | 黑龙江健中特种玻璃有限公司 | 可后续加工的高透单银低辐射镀膜玻璃及其生产工艺 |
| CN107382093A (zh) * | 2017-09-04 | 2017-11-24 | 咸宁南玻节能玻璃有限公司 | 一种橘红色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法 |
| CN207845496U (zh) * | 2017-11-28 | 2018-09-11 | 咸宁南玻节能玻璃有限公司 | 一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃 |
-
2017
- 2017-11-28 CN CN201711213080.9A patent/CN108002711A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101556901A (zh) * | 2008-04-07 | 2009-10-14 | 陈敏璋 | 光电元件及其制造方法 |
| CN104401059A (zh) * | 2014-11-05 | 2015-03-11 | 中山市格兰特实业有限公司 | 双面膜层玻璃及制备方法及应用该双面膜玻璃的中空玻璃 |
| CN105481267A (zh) * | 2015-11-26 | 2016-04-13 | 黑龙江健中特种玻璃有限公司 | 可后续加工的高透单银低辐射镀膜玻璃及其生产工艺 |
| CN107382093A (zh) * | 2017-09-04 | 2017-11-24 | 咸宁南玻节能玻璃有限公司 | 一种橘红色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法 |
| CN207845496U (zh) * | 2017-11-28 | 2018-09-11 | 咸宁南玻节能玻璃有限公司 | 一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃 |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| 戴达煌等编著: "《功能薄膜及其沉积制备技术》", 31 January 2013, 冶金工业出版社 * |
| 白振中等编著: "《工程玻璃深加工技术手册》", 30 April 2014, 《中国建材工业出版社》 * |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111847900A (zh) * | 2019-04-29 | 2020-10-30 | 贵州省巨三奇节能玻璃有限公司 | 一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法 |
| CN110436794A (zh) * | 2019-08-16 | 2019-11-12 | 镇江爱豪科思电子科技有限公司 | 一种节能型阳光控制膜玻璃及其制备方法 |
| CN111704369A (zh) * | 2020-06-24 | 2020-09-25 | 咸宁南玻节能玻璃有限公司 | 一种全景灰色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法 |
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