CN107703714A - 一种显示器的基板的制造方法及光罩 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示器的基板的制造方法，所述方法包括：提供一基板本体；在所述基板本体上涂覆光阻层；利用曝光机多个镜头透过光罩对所述光阻层进行曝光，其中，所述光罩包括光线直射区以及光线重叠区，在所述光线重叠区中包括透光区以及非透光区，在所述光罩的光线直射区中包括透光区以及非透光区；其中，所述光线重叠区的每一透光区的面积均大于或小于所述光线直射区的每一透光区的面积；对曝光后的所述光阻层进行显影，以获得光阻图案。本发明还公开了相应的光罩。实施本发明，可以对光线重叠区的曝光图案进行补值，从而获得更加准确的曝光图案，能够提高产品良率。
Description
技术领域
本发明涉及显示领域，特别涉及一种显示器的基板的制造方法及相应基板的光罩。
背景技术
在薄膜晶体管-液晶显示器（ThinFilm Transistor-Liquid Crystal Display,TFT-LCD）生成过程中，特别是在阵列（Array）基板或彩膜（CF）基板的制程中，需要多次使用光刻工艺。在光刻工艺中，利用具有设计图案的光罩（Mask）和曝光机的紫外光对涂有光阻的基板进行曝光，可以将光罩上的图案投影到基板的光阻上，然后通过显影在玻璃基板上复制光罩的图案。在TFT-LCD的生成过程中，需要反复几次进行光刻才能完成薄膜晶体管阵列基板和彩膜基板的制作。
而在实际生产过程中，很多曝光机具有多组镜头（lens），例如现有的一种Nikon曝光机中具有6组镜头组成的光路系统，在实际照射中会存在多组镜头的紫外光照射到光罩中同一区域的情形，即不同镜头的光线照射在光罩的一个光线重叠区（overlap）上，由于不同镜头光线之间的重叠很难调整到最佳的对准位置，且在光线重叠区域的光照强度同镜头中心区域的光照强度存在差异性，极易造成透过该光线重叠区获得的光阻图案与实际需要的曝光图案（目标曝光图案）在关键尺寸上存在差异，一般来说，在重叠区的光照强度小于其镜头中心区的光照强度，则对于采用负性光阻，在重叠区由于曝光不足则其获得的曝光图案的厚度一般会小于目标曝光图案的厚度；对于采用正性光阻，则会曝光过量，其获得的曝光图案的厚度一般会大于于目标曝光图案的厚度；从而在宏观上会产生镜头光线不均（lens mura）的现象，而该现象易造成在具有较高解析度的小尺寸面板产生过程中良率的下降。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于，提供一种显示器的基板的制造方法及相应基板的光罩，可以对具有不同镜头的曝光机在光罩的光线重叠区获得曝光图案进行补值，从而获得更加准确的曝光图案，能提高产品良率。
为了解决上述技术问题，本发明的一方面提供一种显示器的基板的制造方法，所述方法包括：
提供一基板本体；
在所述基板本体上涂覆光阻层；
利用曝光机的多个镜头透过光罩对所述光阻层进行曝光，其中，所述光罩包括光线直射区以及光线重叠区，在所述光线重叠区中包括透光区以及非透光区，在所述光罩的光线直射区中包括透光区以及非透光区；其中，所述光线重叠区的每一透光区的面积均大于或小于所述光线直射区的每一透光区的面积；
对曝光后的所述光阻层进行显影，以获得光阻图案。
其中，所述基板为阵列基板或彩膜基板。
其中，当所述基板本体上涂覆的光阻层采用负性光阻时，所述光线重叠区的每一透光区的面积大于所述光线直射区的每一透光区的面积。
其中，当所述基板本体上涂覆的光阻层采用正性光阻时，所述光线重叠区的每一透光区的面积小于所述光线直射区的每一透光区的面积。
相应地，本发明还提供一种光罩，用于利用曝光机的多个镜头对涂覆有光阻层的基板进行曝光，所述光罩包括光线直射区以及光线重叠区，在所述光线重叠区中包括透光区以及非透光区，在所述光罩的光线直射区中包括透光区以及非透光区；所述光线重叠区的每一透光区的面积均大于或小于所述光线直射区的每一透光区的面积。
其中，所述基板为阵列基板或彩膜基板。
其中，当所述基板本体上涂覆的光阻层采用负性光阻时，所述光线重叠区的每一透光区的面积大于所述光线直射区的每一透光区的面积。
其中，当所述基板本体上涂覆的光阻层采用正性光阻时，所述光线重叠区的每一透光区的面积小于所述光线直射区的每一透光区的面积。
实施本发明，具有如下有益效果：
本发明提供的显示器的基板的制造方法及相应基板的光罩，通过在光罩的光线重叠区，对透光区进行补值处理，即将透光区的面积扩大或减小；从而图案化之后在衬底上交叠区域获得的曝光图案的尺寸更加接近目标曝光图案案的尺寸，从而可以获得更加准确的曝光图案，从而可以减轻或者消除镜头光线不均产生的影响，提高基板产品良率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1是本发明提供的一种显示器的基板的制造方法的一个实施例的主流程示意图；
图2是图1涉及的光罩的一个实施例的结构示意图；
图3是图1涉及的光罩的另一个实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
在此，还需要说明的是，为了避免因不必要的细节而模糊了本发明，在附图中仅仅示出了与根据本发明的方案密切相关的结构和/或处理步骤，而省略了与本发明关系不大的其他细节。
如图1所示，示出了本发明提供的一种显示器的基板的制造方法的一个实施例的主流程示意图；在该实施例中，该方法包括如下步骤：
步骤S10，提供一基板本体；例如在一个例子中，提供的基板本体为透明玻璃基板，需要对玻璃基板进行初始清选。此处的初始清洗一般为将玻璃基板放入清洗槽中，利用化学或物理的方法将在玻璃基板表面上的灰尘或杂质去除，防止这些杂质尘粒对后续的制造造成影响；
步骤S11，在所述基板本体上涂覆光阻层，该光阻层可以采用正性光阻或负性光阻；。
步骤S12，利用曝光机多个镜头透过光罩对所述光阻层进行曝光，其中，所述光罩包括光线直射区以及光线重叠区，在所述光线重叠区中包括透光区以及非透光区，在所述光罩的光线直射区中包括透光区以及非透光区；其中，当所述基板本体上涂覆的光阻层采用负性光阻时，所述光线重叠区的每一透光区的面积均大于所述光线直射区的每一透光区的面积；在这种情形下，通过增加透光区的面积，从而可以增加透过的光照的总强度，从而获得足够的曝光区域的厚度；而在另一种情形下，即当所述基板本体上涂覆的光阻层采用正性光阻时，所述光线重叠区的每一透光区的面积小于所述光线直射区的每一透光区的面积，从而可降低透过重叠区的透过区域的光照的总强度。
步骤S13，对曝光后的所述光阻层进行显影，以获得光阻图案。
可以理解的是，所述基板为阵列基板或彩膜基板，该方法可应用于制作阵列基板或彩膜基板的过程中。
具体地，如图2所示，示出了图1中利用的光罩的一个实施例的结构示意图。当所述基板本体上涂覆的光阻层采用负性光阻时，可采用图2示出的光罩，在该实施例中，该基板的光罩，用于利用曝光机的多个镜头对涂覆有光阻层的基板进行曝光，所述光罩1包括光线直射区10、12以及光线重叠区11，其中，一个镜头的光线覆盖区域a和区域b，另一个镜头的光线覆盖区域c和区域b，即区域a为第一个镜头的光线直射区10，区域c为第二镜头的光线直射区12；区域b为第一个镜头和第二个镜头光线均能照射到的光线重叠区11；
在所述光线重叠区11中包括透光区111以及非透光区110，在所述光罩的光线直射区10中包括透光区101以及非透光区100。所述光线重叠区的每一透光区111的面积均大于所述光线直射区的每一透光区101的面积，所述透光区101内的虚线区112的面积与所述透光区101的面积相等，即，R4>R1=R2=R3。具体地，所述光线重叠区的每一透光区111的面积可完全覆盖所述光线直射区的每一透光区101的面积，所述光线重叠区的每一透光区111包括所述光线直射区的一个透光区的面积（即标号112处虚线所包含的面积）和一个补值面积（透光区111中虚线112外侧的面积），可以理解的是，在不同的实施例中，可以选取不同的补值面积，例如可以选取所述补值面积小于所述光线直射区的透光区的面积的1/10，且其中的虚线区域仅为理解的方便，在实际光罩中并不标示该虚线区域112。
可以理解的是，由于增加了重叠区的每一透光区的面积，可以增加透过每一透光区的光照的总强度，从而获得足够的曝光区域的厚度；
具体地，如图3所示，示出了图1中利用的光罩的另一个实施例的结构示意图。当所述基板本体上涂覆的光阻层采用正性光阻时，可采用图3示出的光罩，在该实施例中，该光罩与图2中的区别在于，所述光线重叠区的每一透光区111的面积（实线所包围的区域）小于所述光线直射区的每一透光区的面积（即虚线区域112的面积），其中，R5<R1=R2=R3；可以理解的是，在不同的实施例中，可以选取不同的面积差值，例如在一个例子中，透光区111的面积可以比虚线区域112的面积小1/10，且其中的虚线区域仅为理解的方便，在实际光罩中并不标示该虚线区域112。
可以理解的是，对于基板本体上涂覆的光阻层采用正性光阻的情形，可采用图3所示的光罩，经过图1中的步骤S13，可以理解的是，由于减少了重叠区的每一透光区的面积，可以降低透过每一透光区的光照的总强度，从而获得合适的曝光区域的厚度。
可以理解的是，在图2和图3所示出的例子中，其中透光区和曝光图案均为圆形，仅为举例；在其他的例子中，可以为其他各种图案，如矩形、椭圆形、梯形等等或上述各种图案的组合。
实施本发明实施例，具有如下有益效果：
本发明实施例提供的显示器的基板的制造方法及相应基板的光罩，通过在光罩的光线重叠区，对透光区的面积扩大或缩小，从而图案化之后在衬底上交叠区域获得的曝光图案的尺寸更加接近目标曝光图案案的尺寸，从而可以获得更加准确的曝光图案，从而可以减轻或者消除镜头光线不均产生的影响，提高基板产品良率。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上所述仅是本申请的具体实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。
Claims (8)
1.一种显示器的基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：
提供一基板本体；
在所述基板本体上涂覆光阻层；
利用曝光机的多个镜头透过光罩对所述光阻层进行曝光，其中，所述光罩包括光线直射区以及光线重叠区，在所述光线重叠区中包括透光区以及非透光区，在所述光罩的光线直射区中包括透光区以及非透光区；其中，所述光线重叠区的每一透光区的面积均大于或小于所述光线直射区的每一透光区的面积；
对曝光后的所述光阻层进行显影，以获得光阻图案。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板为阵列基板或彩膜基板。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，当所述基板本体上涂覆的光阻层采用负性光阻时，所述光线重叠区的每一透光区的面积大于所述光线直射区的每一透光区的面积。
4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，当所述基板本体上涂覆的光阻层采用正性光阻时，所述光线重叠区的每一透光区的面积小于所述光线直射区的每一透光区的面积。
5.一种光罩，用于利用曝光机的多个镜头对涂覆有光阻层的基板进行曝光，所述光罩包括光线直射区以及光线重叠区，在所述光线重叠区中包括透光区以及非透光区，在所述光罩的光线直射区中包括透光区以及非透光区；其特征在于，所述光线重叠区的每一透光区的面积均大于或小于所述光线直射区的每一透光区的面积。
6.如权利要求5所述的光罩，其特征在于，所述基板为阵列基板或彩膜基板。
7.如权利要求6所述的光罩，其特征在于，当所述基板本体上涂覆的光阻层采用负性光阻时，所述光线重叠区的每一透光区的面积大于所述光线直射区的每一透光区的面积。
8.如权利要求7所述的光罩，其特征在于，当所述基板本体上涂覆的光阻层采用正性光阻时，所述光线重叠区的每一透光区的面积小于所述光线直射区的每一透光区的面积。
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