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CN107636536A - 树脂组合物和包括通过使用其制造的黑色堤部的显示装置 - Google Patents

树脂组合物和包括通过使用其制造的黑色堤部的显示装置 Download PDF

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CN107636536A CN201680034152.0A CN201680034152A CN107636536A CN 107636536 A CN107636536 A CN 107636536A CN 201680034152 A CN201680034152 A CN 201680034152A CN 107636536 A CN107636536 A CN 107636536A
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Abstract

本申请涉及包含化学式1的化合物、碱溶性树脂粘合剂、多官能单体、着色剂、光引发剂和溶剂的负型光敏树脂组合物，以及包括通过使用其形成的黑色堤部的显示设备。

Description

树脂组合物和包括通过使用其制造的黑色堤部的显示装置
技术领域
本发明要求于2015年10月19日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2015-0145618号的优先权和权益，其全部内容通过引用并入本文。
本申请涉及树脂组合物和包括通过使用其制备的黑色堤部的显示设备。
背景技术
有机发光器件(OLED)中的堤部(bank)用于通过在除了其中有机发光材料将沉积且充当像素的区域以外的所有其他区域中形成聚酰亚胺绝缘层来指定像素的形状，并且允许每个像素被电独立地驱动。作为用于形成堤部的材料，常常使用正型光敏聚酰亚胺(PSPI)。
现有的基于聚酰亚胺的透明堤部在防止由外部光引起的反射方面存在限制，并且在图像质量方面出现缺陷，例如由于由金属电极引起的反射而发生漏光。此外，当使用偏光板以缓解诸如外部光反射的这些问题时，透射率显著降低，结果，需要高电压驱动以获得更高的透射率，并且因此，由于这个原因而出现有机发光器件的寿命缩短的问题。
因此，需要对通过缓解本领域中有机发光器件中的外部光反射问题来提高可视性的材料进行研究。
发明内容
技术问题
本申请已经致力于提供一种树脂组合物，其适用于黑色堤部并且能够改善使用有机发光器件的显示设备中的外部光反射问题；以及包括通过使用其制备的黑色堤部的显示设备。
技术方案
本申请的一个示例性实施方案提供了一种负型光敏树脂组合物，其包含以下化学式1的化合物、碱溶性树脂粘合剂、多官能单体、着色剂、光引发剂、和溶剂。
[化学式1]
在化学式1中，
R1为氢、或者线性或支化烷基，
R2为CHR6CH(OH)CHR7(OH)，并且在此，R6和R7为氢、或者线性或支化烷基，
X为-NH-或-O-，
R3为线性或支化亚烷基、或亚芳烷基，以及
Y为线性或支化亚烷基，并且n为1至10的整数。
根据本申请的另一个示例性实施方案，所述负型树脂组合物还包含基于氟的或基于有机硅的表面活性剂。
本申请的又一个示例性实施方案提供了一种显示设备，其包括通过使用上述负型树脂组合物形成的黑色堤部。
有益效果
当通过使用本说明书中描述的示例性实施方案中的树脂组合物形成黑色堤部并应用其时，可通过阻挡外部光反射和金属反射来有效地改善由透明堤部产生的图像质量问题。此外，即使当将树脂组合物应用于具有不同高度的基板时，也可形成具有预定厚度或更大厚度的黑色堤部，并且因此，可均匀地获得期望的光学密度(OD)。
附图说明
图1是包括相关技术中的透明堤部的显示设备的示意图。
图2是包括根据本申请的一个示例性实施方案的黑色堤部的显示设备的示意图。
图3是示出了通过使用根据本申请的示例性实施方案的树脂组合物形成的漆膜的厚度的示意图。
<附图标记>
a：滤色器
b：上覆层
b1：滤色器的像素的平坦部分上的上覆层的厚度
b2：滤色器的像素的堆叠部分的上覆层的厚度
c：金属电极
d：白色像素
e：金属线
f1：滤色器的像素的堆叠部分和上覆层上的黑色堤部的厚度
f2：滤色器的像素的平坦部分和上覆层上的黑色堤部的厚度
f3：形成在白色像素上的黑色堤部的厚度
具体实施方式
本申请的一个示例性实施方案涉及负型光敏树脂组合物，其包含化学式1的化合物、碱溶性树脂粘合剂、多官能单体、着色剂、光引发剂和溶剂。通过添加化学式1的化合物，可改善包含着色剂的负型光敏树脂组合物的流动性。
具体地，图3例示了其中形成有黑色堤部的结构。如图3所示，在应用黑色堤部的下基板上，已经堆叠有滤色器(a)、上覆层(b)、金属电极(c)、金属线(e)等。根据一个实例，金属线(e)可充当薄膜晶体管(TFT)的栅极。在这种情况下，当在图2的堆叠结构中观察到电流的流动方向时，通过为薄膜晶体管(TFT)的栅极的金属线(e)施加电流，然后经由充当正电极的金属电极(c)流至有机发光层和负电极。例如，滤色器、上覆层和金属电极通常可形成为分别具有2μm至2.5μm、1μm至3μm和至的厚度。在图3中，附图标记b1是滤色器的像素的平坦部分上的上覆层的厚度，以及附图标记b2是滤色器的像素的堆叠部分的上覆层的厚度。
特别地，近来，为了提高透射率的目的，可添加白色像素(d)。在图3中，附图标记f1是在滤色器的像素的堆叠部分和上覆层上的黑色堤部的厚度，附图标记f2是在滤色器的像素的平坦部分和上覆层上的黑色堤部的厚度，以及附图标记f3是形成在白色像素上的黑色堤部的厚度。在其中各个颜色层彼此相接且堆叠的部分处的黑色堤部的厚度(f1)与填充有上覆层的白色像素部分上的黑色堤部的厚度(f3)之差变得极大。
由于如上所述应用黑色堤部的基板的堆叠结构的厚度差，因此表面粗糙度很大，并且当通过使用用于黑色堤部的树脂组合物形成漆膜时，由于表面粗糙度，组合物在具有高粗糙度的颜色堆叠部分处向下流动，使得不容易形成具有预定高度的黑色堤部。然而，在本发明中，通过使用化学式1的化合物改善树脂组合物的流动特性，使得即使用树脂组合物涂覆具有很大表面粗糙度的表面上的极粗糙部分，也可以形成具有预定厚度的黑色堤部，同时树脂组合物不向下流动。
根据本申请的一个实施方案，化学式1可由以下化学式2表示。
[化学式2]
在化学式2中，
R1、R2、R3、X和n与化学式1中定义的相同，
Y1和Y3为直接键、或者线性或支化亚烷基，以及
Y2为线性或支化亚烷基。
在本说明书中，亚烷基可为具有1至20个碳原子的亚烷基。
根据一个实例，R3可为具有1至20个碳原子的线性或支化亚烷基，或者具有7至20个碳原子的亚芳烷基。
根据另一个实例，Y可为具有1至6个碳原子的亚烷基。
根据又一个实例，Y1和Y3为直接键、或具有1至3个碳原子的亚烷基，以及Y2为具有1至3个碳原子的亚烷基。
在本说明书中，烷基可为具有1至20个碳原子的烷基。
例如，R1可为具有1至4个碳原子的线性或支化烷基。
作为另一个实例，R6和R7为氢、或具有1至6个碳原子的烷基。
在本说明书中，芳烷基为经芳基取代的烷基，并且其碳原子数可为7至20。在此，芳基的实例包括苯基、萘基等。
根据本申请的一个示例性实施方案，化学式1可由以下化学式3表示。
[化学式3]
在化学式3中，取代基的定义与化学式1中的相同。
根据本申请的一个示例性实施方案，化学式1可由以下化学式4或5表示：
[化学式4]
[化学式5]
在化学式4和5中，取代基的定义与化学式1中的相同。
根据本申请的另一个示例性实施方案，基于整个树脂组合物，化学式1的化合物的含量为100ppm至3,000ppm。当含量为100ppm或更大时，有效地形成了在滤色器的堆叠部分上的黑色堤部的厚度(f1)。当未有效地形成在滤色器的堆叠部分上的黑色堤部的厚度(f1)时，可能难以确保光学密度(OD)。当含量为3,000ppm或更小时，有效地形成了在滤色器的堆叠部分上的黑色堤部的厚度(f1)，并且在保持工艺裕度方面是有利的。根据一个实例，基于整个树脂组合物，化学式1的化合物的含量为500ppm至3,000ppm。
根据本申请的另一个示例性实施方案，负型树脂组合物还可包含表面活性剂。作为表面活性剂，可使用基于氟的或基于有机硅的表面活性剂。相关领域中的负型树脂组合物以500ppm或更大的量使用基于氟的或基于有机硅的表面活性剂。根据本申请的示例性实施方案，可以以50ppm或更大且450ppm或更小的量使用基于氟的或基于有机硅的表面活性剂。在这种情况下，即使当下涂覆基板的粗糙度很大时，表面的流平效果也受到控制，并且因此，可基于粗糙度形成预定厚度或更大厚度。当以小于50ppm的量使用表面活性剂时，即使可以在滤色器的堆叠部分上形成黑色堤部的厚度(f1)，也几乎不存在表面平整化效果，使得因为可能出现表面缺陷，可在后续过程中引起问题，并且在涂覆基板的边缘处形成厚的珠粒。当以大于450ppm的量使用表面活性剂时，平整化效果过于良好使得在滤色器的堆叠部分上形成黑色堤部的厚度(f1)是不利的。根据本申请的又一个示例性实施方案，作为碱溶性树脂粘合剂，可以使用通过使包含酸官能团的单体和能够与所述单体共聚的单体共聚而形成的共聚物。与通过均聚反应制备的树脂相比，通过如上所述的共聚反应，可提高膜的强度。另外，也可以使用通过所形成的共聚物与含有环氧基的烯键式不饱和化合物的聚合物反应制备的聚合物化合物。此外，也可以一起使用通过将含有环氧基的烯键式不饱和化合物与共聚物结构组合而形成的聚合物化合物。
包含酸官能团的单体的非限制性实例包括：(甲基)丙烯酸、巴豆酸、衣康酸、马来酸、富马酸、单甲基马来酸、异戊二烯磺酸、苯乙烯磺酸、5-降冰片烯-2-羧酸等。这些单体可单独使用或者以其两种或更多种的混合物使用。
能够与包含酸官能团的单体共聚的单体的非限制性实例包括：苯乙烯、氯苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸-2-苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基-3-氯丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基甲酯、二乙基氨基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸酰基辛氧基-2-羟基丙酯、丙烯酸乙基己酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、乙氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、对壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、对壬基苯氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸1,1,1,3,3,3-六氟异丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯、(甲基)丙烯酸三溴苯酯、β-(甲基)丙烯酰氧基乙基氢琥珀酸酯、丙烯酸甲基α-羟基甲酯、丙烯酸乙基α-羟基甲酯、丙烯酸丙基α-羟基甲酯、丙烯酸丁基α-羟基甲酯、N-苯基马来酰亚胺、N-(4-氯苯基)马来酰亚胺等。这些单体可单独使用或者以其两种或更多种的混合物使用。
此外，含有环氧基的烯键式不饱和化合物(其能够与包含酸官能团的单体和能够与所述单体共聚的单体的共聚物聚合)的非限制性实例包括：(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、乙烯基苄基缩水甘油醚、乙烯基缩水甘油醚、烯丙基缩水甘油醚、4-甲基-4,5-环氧戊烯、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、降冰片基衍生物等。这些化合物可单独使用或者以其两种或更多种的混合物使用。
根据一个实例，作为碱溶性树脂粘合剂，可使用包含芴基的二醇化合物与二异氰酸酯化合物的共聚物。例如，作为碱溶性树脂粘合剂，可使用以下化学式6的基于芴的树脂聚合物。
[化学式6]
在该式中，Rx为衍生自二异氰酸酯的二价烃基，Ry为构成衍生自酸酐的酸组分的基团，m为0至3，并且n为3至8。
作为包含芴基的二醇化合物，可使用以下化学式7的化合物。
[化学式7]
在该式中，m为0至3。
二异氰酸酯没有特别限制，只要其为具有2个异氰酸酯基的化合物即可，例如，可以使用选自以下的化合物：三亚甲基二异氰酸酯、四亚甲基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、五亚甲基二异氰酸酯、1,2-亚丙基二异氰酸酯、2,3-亚丁基二异氰酸酯、1,3-亚丁基二异氰酸酯、十二亚甲基二异氰酸酯、2,4,4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯、w,w’-二异氰酸酯-1,3-二甲基苯、w,w’-二异氰酸酯-1,4-二甲基苯、w,w’-二异氰酸酯-1,3-二乙基苯、1,4-四甲基二甲苯二异氰酸酯、1,3-四甲基二甲苯二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、1,3-环戊烷二异氰酸酯、1,3-环己烷二异氰酸酯、1,4-环己烷二异氰酸酯、甲基-2,4-环己烷二异氰酸酯、甲基-2,6-环己烷二异氰酸酯、4,4’-亚甲基双异氰酸酯甲基环己烷、2,5-异氰酸酯甲基双环[2,2,2]庚烷、和2,6-异氰酸酯甲基双环[2,2,1]庚烷。
根据一个实例，包含芴基的二醇化合物:二异氰酸酯的反应当量比可为1.1:1至3:1。作为碱溶性树脂粘合剂，还可使用上述实例中之一，并且其两种或更多种可一起使用。
碱溶性树脂粘合剂的酸值为约30KOH mg/g至300KOH mg/g，并且优选地，重均分子量为2,000至200,000。更优选地，重均分子量可以为约5,000至40,000。当碱溶性树脂粘合剂的分子量在该范围内时，当形成绝缘膜时，可防止锥度角过度增加，并且该范围在关于水性碱性溶液的显影和防止残余物方面是有利的。在使用具有如上所述的酸值和分子量范围的树脂粘合剂的情况下，当通过使用预定的图案掩模使根据本说明书中描述的示例性实施方案的树脂组合物光聚合，然后通过显影形成图案时，显影后的漆膜的锥度角可具有35°或更小的平缓角度。当如上所述漆膜的锥度角变得平缓时，即使在图案上形成电极，在电极中发生短路的可能性也变得非常低。
碱溶性树脂粘合剂可单独使用或者以其两种或更多种的混合物使用。
基于树脂组合物的总重量，碱溶性树脂粘合剂的含量可为1重量％至30重量％。当其含量为1重量％或更大时，该含量在漆膜的粘附方面是有利的，并且当其含量为30重量％或更小时，可以防止漆膜的强度和敏感度降低。
在本申请的另一个示例性实施方案中，作为多官能单体，可使用具有烯键式不饱和双键的多官能单体。
具有烯键式不饱和双键的多官能单体的实例包括在分子中具有至少一个或两个或更多个可加成-聚合的不饱和基团且沸点为100℃或更高的化合物，或其中引入有己内酯的多官能单体等。
在分子中具有至少一个或两个或更多个可加成-聚合的不饱和基团且沸点为100℃或更高的化合物的非限制性实例包括：多官能单体，例如聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、或(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯；多官能单体，例如聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、新戊二醇(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、或二季戊四醇六丙烯酸酯等。
其中引入有己内酯的多官能单体的非限制性实例包括将己内酯引入二季戊四醇中的情况，将己内酯引入丙烯酸四氢呋喃酯中的情况，将己内酯引入新戊二醇羟基新戊酸酯中的情况，将己内酯引入双酚A衍生物中的情况，将己内酯引入基于氨基甲酸酯的多官能单体中的情况等。
其具体实例包括其中将己内酯引入二季戊四醇、FA-2D、FA1DT、FA-3等中的KAYARAD DPCA-20、30、60、120等，并且可以使用其中将己内酯引入丙烯酸四氢呋喃酯中的KAYARAD TC-110S，或者其中将己内酯引入新戊二醇羟基新戊酸酯中的KAYARAD HX-220、KAYARADHK-620等。
其其他实例包括其中将己内酯引入双酚A衍生物的环氧丙烯酸酯或酚醛清漆-环氧丙烯酸酯中的那些，以及其中将己内酯引入为基于氨基甲酸酯的多官能丙烯酸酯的U-324A、U15HA、U-4HA等中的那些。
具有烯键式不饱和双键的多官能单体可单独使用或者以其两种或更多种的混合物使用。
优选的是，基于树脂组合物的总重量，具有烯键式不饱和双键的多官能单体的含量为1重量％至30重量％。当其含量为1重量％或更大时，该含量在绝缘膜的光敏性或强度方面是有利的，并且当其含量为30重量％或更小时，可以防止漆膜的粘性过大，并且可以防止绝缘膜的强度降低以及图案在显影期间损失。
作为一个实例，作为碱溶性树脂粘合剂和具有烯键式不饱和双键的多官能单体的用量，重量比优选为1:0.3至1:1，并且更优选地，可以将该比例调节至1:0.4至1:0.8。当以上述比例进行制备时，当通过使用预定的图案掩模使根据本说明书中描述的示例性实施方案的树脂组合物光聚合，然后通过显影形成图案时，显影后的图案化膜的锥度角可具有35°或更小的平缓角度。当如上所述锥度角变得平缓时，即使在图案上形成电极，在电极中发生短路的可能性也变低。
根据本申请的一个示例性实施方案，着色剂包括黑色有机颜料。在本说明书中，黑色有机颜料意指由有机材料组成且作为单一种类吸收可见光波长范围内的光以表现出基于黑色的颜色的颜料。作为黑色颜料，有机颜料可用于以比两种或更多种颜料的现有组合颜料或无机颜料更少的量获得期望的光学密度(OD)。根据本说明书的示例性实施方案的组合物可包含一种或两种或更多种作为黑色有机颜料。
根据一个示例性实施方案，基于内酰胺的颜料或基于的颜料可用作黑色有机颜料。
根据一个实例，黑色有机颜料包含由以下化学式11或12表示的化合物。
[化学式11]
在化学式11中，
Ra为H或烷基，
R4、R5、R6和R7彼此相同或不同，并且各自独立地为H、卤素、-COOR8、-CONR8R9、-OR8、-OOCR8、-OOCNR8R9、OH、CN、NO2、NR8R9、-NR8COR9、-N＝CR8R9、-SR8、-SOR8、-SOxR8(x＝1至3)或-SO2NR8R9，或者R4和R5、R5和R6、或R6和R7直接彼此结合，或者通过O、S或NR8桥彼此结合形成环，
Rb是包含N、O、S、CO和COO中之一的单环或多环基团，
R8和R9彼此相同或不同，并且各自独立地为H、C1至C12烷基、C3至C12环烷基、C2至C12烯基、C3至C12环烯基、或C2至C12炔基，构成上述基团的-CH2-、-CH＝和-C≡中的至少一个经-COO-、-O-、-CONR10-、＝N-、-NR10-、-S-、或-CO-取代，或者与碳键合的氢中的至少一个可经卤素、-COOR10、-CONR10R11、-OR10、-OOCR10、-OOCNR10R11、OH、CN、NO2、-NR10COR11、-N＝CR10R11、SR10、-SOR10、-SOxR10(x＝1至3)、-SO2NR10R10或-NR10R11取代，并且在此，R10和R11各自独立地为C2至C6烷基、或者包含O、S或NH的基团。
[化学式12]
在化学式12中，
R11和R13彼此相同或不同，并且各自独立地为H、C1至C12烷基、C3至C12环烷基、C6至C12芳基、或C3至C12杂芳基，构成上述基团的-CH2-和-CH＝中的至少一个经＝N-、-N＝N-、-O-、-CO-、-COO-或-NR15-取代，与碳键合的氢中的至少一个可经卤素、-OR15、CN或NO2取代，R15为H、C1至C6烷基、C2至C6烯基、或苯基，R12和R14彼此相同或不同，并且各自为独立地为O或NR16，并且R16为C1至C12烷基或C2至C12烯基，
R11和R12或R13和R14也可彼此结合形成环(环状)，并且
Re和Rf为卤素基团，并且m和n各自为0至4的整数。
根据一个实例，化学式11的Rb可由以下结构式表示。
在该结构式中，Rc和Rd彼此相同或不同，并且各自独立地为H、CH3、CF3、F或Cl。
根据一个实例，化学式11可由以下结构式表示。
化学式11的化合物的代表性产物的实例包括由BASF Corp.制造的颜料IRGAPHORBk S0100CF，以及化学式12的代表性实例包括C.I.颜料黑31和32等。
根据本申请的另一个示例性实施方案，着色剂还包含一种或更多种吸收波长为400nm至600nm的至少一部分的光的颜料。在这种情况下，黑色有机颜料与吸收波长为400nm至600nm的至少一部分的光的颜料的重量比可为100:0至90:10。
根据一个示例性实施方案，吸收波长为400nm至600nm的至少一部分的光的颜料可包含基于黄色的颜料、基于橙色的颜料、基于棕色的颜料和基于红色的颜料中的至少一种。具体地，吸收波长为400nm至600nm的至少一部分的光的颜料的实例包括基于黄色的颜料，例如C.I.颜料黄138、C.I.颜料黄139、C.I.颜料黄150、C.I.颜料黄151、C.I.颜料黄83、C.I.颜料黄93、和C.I.颜料黄110；C.I.颜料红123、C.I.颜料红149、C.I.颜料红178、C.I.颜料红179、C.I.颜料红224、C.I.颜料红139、C.I.颜料红143、C.I.颜料红166、C.I.颜料红242、C.I.颜料红175、C.I.颜料红176、C.I.颜料红177、C.I.颜料红185、C.I.颜料红208、C.I.颜料红254、C.I.颜料红255、C.I.颜料红264、C.I.颜料红272；C.I.颜料橙36、C.I.颜料橙62、C.I.颜料橙64、C.I.颜料橙72、C.I.颜料橙71、C.I.颜料橙73、C.I.颜料棕23、C.I.颜料棕41、C.I.颜料棕42等。
根据本申请的另一个示例性实施方案，着色剂还可以包含基于在漆膜中使用的50重量％的含量体积电阻为1011Ω.cm或更大的高电阻炭黑。黑色有机颜料和高电阻炭黑的重量比可为99.5:0.5至90:10。
根据一个实例，基于树脂组合物的总重量，着色剂可以以1重量％至50重量％的量使用。
根据本申请的又一个示例性实施方案，光引发剂是用于通过光产生自由基的材料，并且优选使用选自以下的一种化合物或者两种或更多种化合物的混合物：基于苯乙酮的化合物、基于联咪唑的化合物、基于三嗪的化合物、和基于肟的化合物。
作为可以用作光引发剂的基于苯乙酮的化合物，可以使用选自以下的化合物：2-羟基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙-1-酮、4-(2-羟基乙氧基)-苯基-(2-羟基-2-丙基)酮、1-羟基环己基苯基酮、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丁基醚、苯偶姻丁基醚、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2-甲基-(4-甲硫基)苯基-2-吗啉代-1-丙-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁-1-酮、2-(4-溴-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁-1-酮和2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代丙-1-酮。
为基于联咪唑的化合物，可以使用选自以下的化合物：2,2-双(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基联咪唑、2,2’-双(邻氯苯基)-4,4’,5,5’-四(3,4,5-三甲氧基苯基)-1,2’-联咪唑、2,2’-双(2,3-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基联咪唑和2,2’-双(邻氯苯基)-4,4,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑。
作为基于三嗪的化合物，可以使用选自以下的化合物：3-{4-[2,4-双(三氯甲基)-s-三嗪-6-基]苯硫基}丙酸、1,1,1,3,3,3-六氟异丙基-3-{4-[2,4-双(三氯甲基)-s-三嗪-6-基]苯硫基}丙酸酯、乙基-2-{4-[2,4-双(三氯甲基)-s-三嗪-6-基]苯硫基}乙酸酯、2-环氧乙基-2-{4-[2,4-双(三氯甲基)-s-三嗪-6-基]苯硫基}乙酸酯、环己基-2-{4-[2,4-双(三氯甲基)-s-三嗪-6-基]苯硫基}乙酸酯、苄基-2-{4-[2,4-双(三氯甲基)-s-三嗪-6-基]苯硫基}乙酸酯、3-{氯-4-[2,4-双(三氯甲基)-s-三嗪-6-基]苯硫基}丙酸、3-{4-[2,4-双(三氯甲基)-s-三嗪-6-基]苯硫基}丙酰胺、2,4-双(三氯甲基)-6-对甲氧基苯乙烯基-s-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-(1-对二甲基氨基苯基)-1,3-丁二烯基-s-三嗪和2-三氯甲基-4-氨基-6-对甲氧基苯乙烯基-s-三嗪。
基于肟的化合物的实例包括1,2-辛二酮-1-(4-苯硫基)苯基-2-(邻苯甲酰基肟)(Ciba-Geigy,Co.,Ltd.,CGI 124)、乙酮-1-(9-乙基)-6-(2-甲基苯甲酰基-3-基)-1-(邻乙酰基肟)(CGI 242)、肟OX-03(Ciba-Geigy,Co.,Ltd.)、NCI-831(ADEKACo.,Ltd.)、PI-102(LGChem.Co.,Ltd.)、PBG 304、PBG 305、和PBG 3057(Tronly Co.,Ltd.)等。优选的是，基于树脂组合物的总重量，光引发剂的含量为0.5重量％至10重量％。更优选地，基于100重量份的具有烯键式不饱和双键的多官能单体，光引发剂可以以10重量份至300重量份(基于所使用的光引发剂的总量)的量使用，并且特别地，基于树脂组合物的总重量，基于苯乙酮的化合物可以以0.5重量％至5重量％的量使用，或者也可使用基于苯乙酮的化合物与0.01重量％至3重量％的基于肟的引发剂的混合物。
基于树脂组合物的总重量，光引发剂可另外包含0.01重量％至5重量％的促进产生自由基的光交联敏化剂作为辅助组分，或0.01重量％至5重量％的促进固化的固化促进剂。
作为光交联敏化剂，可以使用基于二苯甲酮的化合物，例如二苯甲酮、4,4-双(二甲基氨基)二苯甲酮、4,4-双(二乙基氨基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基氨基二苯甲酮、甲基邻苯甲酰基苯甲酸酯、3,3-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮和3,3,4,4-四(叔丁基过氧羰基)二苯甲酮；基于芴酮的化合物，例如9-芴酮、2-氯-9-芴酮和2-甲基-9-芴酮；基于噻吨酮的化合物，例如噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、1-氯-4-丙氧基噻吨酮、异丙基噻吨酮和二异丙基噻吨酮；基于呫吨酮的化合物，例如呫吨酮和2-甲基呫吨酮；基于蒽醌的化合物，例如蒽醌、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、叔丁基蒽醌和2,6-二氯-9,10-蒽醌；基于吖啶的化合物，例如9-苯基吖啶、1,7-双(9-吖啶基)庚烷、1,5-双(9-吖啶基戊烷)和1,3-双(9-吖啶基)丙烷；二羰基化合物，例如苄基、1,7,7-三甲基-双环[2,2,1]庚-2,3-二酮和9,10-菲醌；基于氧化膦的化合物，例如2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦和双(2,6-二甲氧基苯甲酰基)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦；基于苯甲酸酯的化合物，例如甲基-4-(二甲基氨基)苯甲酸酯、乙基-4-(二甲基氨基)苯甲酸酯和2-正丁氧基乙基-4-(二甲基氨基)苯甲酸酯；氨基增效剂，例如2,5-双(4-二乙基氨基亚苄基)环戊酮、2,6-双(4-二乙基氨基亚苄基)环己酮和2,6-双(4-二乙基氨基亚苄基)-4-甲基环戊酮；基于香豆素的化合物，例如3,3-羰基乙烯基-7-(二乙基氨基)香豆素、3-(2-苯并噻唑基)-7-(二乙基氨基)香豆素、3-苯甲酰基-7-(二乙基氨基)香豆素、3-苯甲酰基-7-甲氧基-香豆素和10,10-羰基双[1,1,7,7-四甲基-2,3,6,7-四氢-1H,5H,11H-Cl]-苯并吡喃并[6,7,8-ij]-喹嗪-11-酮；查耳酮化合物，例如4-二乙基氨基查耳酮和4-叠氮亚苄基苯乙酮；和2-苯甲酰基亚甲基或3-甲基-b-萘并噻唑啉等。
此外，作为固化促进剂，可以使用2-巯基苯并咪唑、2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并唑、2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑、2-巯基-4,6-二甲基氨基吡啶、季戊四醇-四(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇-三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(2-巯基乙酸酯)、季戊四醇-三(2-巯基乙酸酯)、三羟甲基丙烷-三(2-巯基乙酸酯)、或三羟甲基丙烷-三(3-巯基丙酸酯)等。
在本申请的再一个示例性实施方案中，作为溶剂，考虑到溶解度、颜料分散性、可涂覆性等，可以使用丙二醇单甲基醚、乙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯、二乙二醇二甲基醚、环己酮、2-庚酮、3-庚酮、2-羟基乙基丙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、乙基-3-甲氧基丙酸酯、甲基-3-乙氧基丙酸酯、乙基-3-乙氧基丙酸酯、乙酸丁酯、甲酸戊酯、乙酸异戊酯、乙酸异丁酯、丙酸丁酯、丁酸异丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、丙酮酸乙酯或γ-丁醇乙酸酯等。溶剂可单独使用或者以其两种或更多种的混合物使用。
根据上述示例性实施方案的树脂组合物可另外包含添加剂，只要本发明的目的不受到不利影响即可。例如，还可使用选自以下的一种或更多种添加剂：分散剂、粘合促进剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、热聚合抑制剂和流平剂。
分散剂可通过以下方法使用：将分散剂内部添加至颜料(以预先使颜料经受表面处理的形式)中的方法，或者将分散剂外部添加至颜料中的方法。作为分散剂，可以使用聚合物形式、非离子、阴离子或阳离子分散剂。分散剂的非限制性实例包括：聚亚烷基二醇及其酯、聚氧化烯烃多元醇、酯环氧烷烃加成产物、醇环氧烷烃加成产物、磺酸酯、磺酸盐、羧酸酯、羧酸盐、烷基酰胺环氧烷烃加成产物、或烷基胺等。分散剂可单独添加或者以其两种或更多种的组合添加。
粘合促进剂的非限制性实例包括：乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)-硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、2-(3,4-乙氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、或3-巯基丙基三甲氧基硅烷等。
抗氧化剂的非限制性实例包括2,2-硫代双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)或2,6-g,t-丁基苯酚等，以及紫外线吸收剂的非限制性实例包括2-(3-叔丁基-5-甲基-2-羟基苯基)-5-氯-苯并三唑或烷氧基二苯甲酮等。此外，热聚合抑制剂的非限制性实例包括氢醌、对甲氧基苯酚、二叔丁基对甲酚、连苯三酚、叔丁基邻苯二酚、苯醌、4,4-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、或2-巯基咪唑等。
此外，在树脂组合物中，还可使用选自以下的一种或更多种添加剂：颜料混合物分散体、具有官能团的树脂粘合剂、单体、辐射敏感性化合物和其他添加剂。
根据上述示例性实施方案的树脂组合物可通过混合上述组分来制备。根据一个实例，首先，制备颜料分散体溶液。颜料分散体溶液的制备可由使用以分散体溶液状态市售的颜料来代替。树脂组合物可通过如下来制备：将碱溶性树脂粘合剂与颜料分散体溶液混合，向其中添加多官能单体、光引发剂和溶剂，并搅拌所得混合物。
由于根据上述示例性实施方案的树脂组合物为负型的，因此可使用具有高紫外线敏感性且没有图案残余物的材料。根据一个实例，当形成厚度为2μm的漆膜时，树脂组合物的体积电阻可为1012Ω.cm或更大，并且介电常数为3至6。根据另一个实例，当形成厚度为2μm的漆膜时，在380nm至600nm下的透光率可小于1％，并且光学密度(OD)可为1/μm或更大。根据又一个实例，当形成厚度为2μm的漆膜时，树脂组合物的锥度角为15°至35°。通过形成如上所述的平缓的锥度角，即使在其上形成电极，在电极中发生短路的可能性也变得非常低。
本申请的另一个示例性实施方案提供了包括通过使用上述负型光敏树脂组合物形成的黑色堤部的显示设备。图1是包括相关技术中的透明堤部的显示设备的示意图，以及图2是包括根据本发明的黑色堤部的显示设备的示意图。
形成黑色堤部的方法的实例如下。
可通过将上述树脂组合物涂覆在基板的表面上并通过预烘烤除去溶剂来形成膜。作为涂覆方法，可使用诸如喷涂法、辊涂法、旋涂法、棒涂法和狭缝涂覆法的方法。预烘烤的条件根据共混组分和组成的比例而变化，但是预烘烤通常可在70℃至150℃下进行0.5分钟至30分钟。
接着，通过将辐射(例如紫外线)经由预定的图案掩模照射到预烘烤的涂覆膜上，并使用水性碱性溶液使所述膜显影以除去不需要的部分来形成图案。作为显影方法，可应用浸渍法、冲淋法等而没有限制。显影时间通常为30秒至180秒。作为当作显影溶液的水性碱性溶液，可以使用以下的水溶液：无机碱，例如氢氧化钠、氢氧化钾、硅酸钠、偏硅酸钠和氨；伯胺，例如乙胺和正丙胺；仲胺，例如二乙胺和二正丁胺；叔胺，例如三甲胺、甲基二乙基胺和二甲基乙基胺；叔醇胺，例如二甲基乙醇胺、甲基二乙醇胺和三乙醇胺；环状叔胺，例如吡咯、哌啶、n-甲基哌啶、n-甲基吡咯烷、1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一碳烯和1,5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯；芳族叔胺，例如吡啶、可力丁(collidine)、二甲基吡啶(lutidine)和喹啉；季铵盐，例如四甲基氢氧化铵和四乙基氢氧化铵等。
在显影之后，用流水洗涤显影的膜30秒至90秒，并用空气或氮气干燥以形成图案。可通过使用加热设备例如热板和烘箱后烘烤图案来获得完整的黑色堤部。在这种情况下，作为后烘烤的条件，优选在150℃至230℃下加热图案约10分钟至90分钟。
完整的黑色堤部的体积电阻为1012Ω.cm或更大，介电常数为3至6，并且光学密度(OD)为1/μm至2/μm。
根据一个示例性实施方案的包括有机发光器件的显示设备的制备方法没有特别限制，但是例如，显示设备可如下制备。通过溅射使透明电极例如氧化铟锡(ITO)沉积在透明基板(例如玻璃)上，使其经受诸如PR施加、曝光、显影、蚀刻和PR移除的过程，以形成图案化的透明电极，然后通过使用上述树脂组合物形成黑色堤部。例如，将上述树脂组合物涂覆在其上形成有电极的基板上，以形成漆膜，通过使用光掩模等和包括紫外线的辐射使基板曝光，然后可使曝光的基板显影，进行洗涤，然后干燥以使基板图案化。随后，可在形成的黑色堤部上形成用于划分每个像素的分区。
然后，使有机薄膜沉积为单层或多层。有机薄膜包括发光层，并且如果需要的话，还可包括用于传输或阻挡电荷的层，例如电子注入层、电子传输层、空穴阻挡层、空穴传输层、空穴注入层和/或电子阻挡层。然后，在其上沉积金属电极层。接着，可通过用封装材料(密封材料)例如环氧树脂封装(密封)具有中空结构的SUS罐和基板，然后将封装产品组装成模块来制备包括有机发光器件的显示设备。
如图3所示，显示设备包括色彩图案(a)、设置在色彩图案上的上覆层(b)和设置在上覆层上的黑色堤部，并且所述黑色堤部可具有0.5μm至2μm的厚度差。显示设备还可包括其中不存在色彩图案层的白色像素(d)。即使在这种情况下，也可保持黑色堤部的厚度的均匀性。具体地，滤色器的像素的堆叠部分和上覆层上的黑色堤部的厚度(f1)可为0.5μm至2μm，滤色器的像素的平坦部分和上覆层上的黑色堤部的厚度(f2)以及形成在白色像素上的黑色堤部的厚度(f3)可各自为1μm至3μm，并且f3-f1可为0.5μm至2μm。
实施方式
在下文中，将提出用于帮助理解本发明的优选实施例。然而，以下实施例仅用于例示本发明，并且本发明的范围不限于以下实施例。
实施例
基于100重量份的光引发剂1，以下表1中的重量份的量混合以下组分以制备树脂组合物。
黑色颜料分散体溶液：16重量％的由Tokushiki Co.,Ltd.制造的有机颜料IRGAPHOR Bk S0100CF，分散体溶剂PGMEA
粘合剂1：由添加有丙烯酸的双酚芴环氧丙烯酸酯/1,3-环己基二异氰酸酯以65/35的摩尔比组成且重均分子量为4,000且酸值为80KOH mg/g的碱溶性粘合剂树脂
粘合剂2：由甲基丙烯酸苄酯/N-苯基马来酰亚胺/苯乙烯/甲基丙烯酸＝55/9/11/25(摩尔比)组成且数均分子量为13,000且酸值为100KOH mg/g的粘合剂树脂
多官能单体：二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)
光引发剂1：由BASF Corp.制造的I-369
光引发剂2：由BASF Corp.制造的OX-03
粘合促进剂：由Shin-EtsuChemical Co.,Ltd.制造的KBM 503
表面活性剂：DIC_F560
PGMEA：丙二醇甲基醚乙酸酯
MBA：3-甲氧基丁基乙酸酯
MBDG：二乙二醇甲基丁基醚
[表1]
将上述制备的树脂组合物施加到涂覆有滤色器(约2μm)和上覆层(约2μm)的基板(370mm×470cm)上。在这种情况下，使用狭缝式涂布机，并且涂覆条件如下。
涂覆速度250mm/秒
涂覆间隙100μm
排出量2,215μL/秒
随后，通过低压干燥工艺(VCD，真空干燥)干燥基板直至压力达到65Pa，然后在具有接触和接近模式的数字热板上于100℃下进行预烘烤100秒。
随后，作为UV曝光步骤，使用通过利用短波长截止滤光器从其中去除波长为330nm或更小的光的光，并且通过使用80mJ/cm2UV使用具有50μm间隙的黑色堤部掩膜使基板曝光。
随后，在1.5kgf/cm2的压力下于25℃下通过使用0.043％KOH进行显影60秒，并且通过使用去离子水进行洗涤步骤。随后，在230℃下在对流烘箱中进行后烘烤20分钟。
评估流动特性、漆膜特性和可加工性并且示于下表2中。
[表2]
表面缺陷：当通过肉眼或通过光学显微镜观察涂覆的漆膜时，在不存在表面不均匀或缺陷的情况下，将表面缺陷标记为O，并且在观察到不均匀或缺陷的情况下，标记为×。
加工容限：当其中在显影过程中获得最佳图案的显影容限范围为15秒或更长、10秒或更长且小于15秒、和小于10秒时，加工容限分别标记为O、△和X。
根据表2，实施例4和7在表面缺陷和加工容限方面表现出优异的效果，但是就f1厚度而言，实施例1至3与实施例4和7相比表现出更好的效果。此外，就表面缺陷或加工容限而言，实施例1至3与实施例5和6相比表现出优异的效果。

Claims (15)

1.一种负型光敏树脂组合物，包含：
以下化学式1的化合物；
碱溶性树脂粘合剂；
多官能单体；
着色剂；
光引发剂；和
溶剂：
[化学式1]
在化学式1中，
R1为氢、或者线性或支化烷基，
R2为CHR6CH(OH)CHR7(OH)，并且其中，R6和R7为氢、或者线性或支化烷基，
X为-NH-或-O-，
R3为线性或支化亚烷基、或亚芳烷基，以及
Y为线性或支化亚烷基，并且n为1至10的整数。
2.根据权利要求1所述的负型光敏树脂组合物，其中化学式1由以下化学式2表示：
[化学式2]
在化学式2中，
R1、R2、R3、X和n与化学式1中定义的相同，
Y1和Y3为直接键、或者线性或支化亚烷基，以及
Y2为线性或支化亚烷基。
3.根据权利要求1所述的负型光敏树脂组合物，其中化学式1由以下化学式3表示：
[化学式3]
在化学式3中，取代基的定义与化学式1中的相同。
4.根据权利要求1所述的负型光敏树脂组合物，其中化学式1由以下化学式4或5表示：
[化学式4]
[化学式5]
在化学式4和5中，取代基的定义与化学式1中的相同。
5.根据权利要求1所述的负型光敏树脂组合物，其中基于整个树脂组合物，所述化学式1的化合物的含量为100ppm至3,000ppm。
6.根据权利要求1所述的负型光敏树脂组合物，还包含：
50ppm至450ppm的表面活性剂。
7.根据权利要求6所述的负型光敏树脂组合物，其中所述表面活性剂为基于氟的或基于有机硅的表面活性剂。
8.根据权利要求1所述的负型光敏树脂组合物，其中所述着色剂包含黑色有机颜料。
9.根据权利要求8所述的负型光敏树脂组合物，其中所述着色剂还包含一种或更多种吸收波长为400nm至600nm的至少一部分的光的颜料。
10.根据权利要求9所述的负型光敏树脂组合物，其中所述黑色有机颜料与所述吸收波长为400nm至600nm的至少一部分的光的颜料的重量比为100:0至90:10。
11.根据权利要求8所述的负型光敏树脂组合物，其中所述着色剂还包含基于在漆膜中使用的50重量％的含量体积电阻为1011Ω.cm或更大的高电阻炭黑。
12.根据权利要求11所述的负型光敏树脂组合物，其中所述黑色有机颜料与所述高电阻炭黑的重量比为99.5:0.5至90:10。
13.根据权利要求1所述的负型光敏树脂组合物，其中当形成厚度为2μm的漆膜时，所述负型光敏树脂组合物的体积电阻为1012Ω.cm或更大，介电常数为3至6，在380nm至600nm下的透光率小于1％，光学密度(OD)为1/μm或更大，并且锥度角为15°至35°。
14.根据权利要求1所述的负型光敏树脂组合物，其中基于整个树脂组合物，所述碱溶性树脂粘合剂、所述多官能单体和所述光引发剂各自以0.5重量％至10重量％的量包含在内，并且基于整个树脂组合物，所述着色剂的含量为1重量％至50重量％。
15.一种显示设备，包括通过使用根据权利要求1至14中任一项所述的负型光敏树脂组合物形成的黑色堤部。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109065585A (zh) * 2018-08-06 2018-12-21 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制作方法、和显示装置
CN112666795A (zh) * 2019-10-16 2021-04-16 常州强力先端电子材料有限公司 碱溶性树脂、感光性树脂组合物及滤光片
CN114450322A (zh) * 2019-12-17 2022-05-06 株式会社Lg化学 化合物、粘合剂树脂、负型光敏树脂组合物和包括使用所述负型光敏树脂组合物形成的黑堤的显示装置

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10193098B2 (en) * 2016-11-10 2019-01-29 Int Tech Co., Ltd. Light emitting device manufacturing method and apparatus thereof
US10461139B2 (en) * 2016-11-10 2019-10-29 Int Tech Co., Ltd. Light emitting device manufacturing method and apparatus thereof
CN106952939B (zh) * 2017-05-24 2019-07-26 京东方科技集团股份有限公司 有机电致发光阵列基板和显示装置
JP7047642B2 (ja) * 2017-09-05 2022-04-05 Jsr株式会社 隔壁形成用感光性組成物、隔壁および表示素子
JP2019160473A (ja) * 2018-03-09 2019-09-19 三菱ケミカル株式会社 有機電界発光素子隔壁形成用着色感光性組成物、隔壁、有機電界発光素子、画像表示装置及び照明
KR102549410B1 (ko) 2018-11-19 2023-06-28 엘지디스플레이 주식회사 전계 발광 표시 장치
US12275814B2 (en) 2018-12-11 2025-04-15 Mitsui Chemicals, Inc. (Meth)acrylate, monomer composition, molded body, composition for dental material, and dental material
CN110649185B (zh) * 2019-09-26 2022-08-09 合肥京东方卓印科技有限公司 显示基板及其喷墨打印方法、显示装置
KR102837120B1 (ko) * 2019-11-08 2025-07-21 주식회사 엘지화학 화합물, 바인더 수지, 네가티브형 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 형성된 블랙뱅크를 포함하는 디스플레이 장치
KR102768890B1 (ko) * 2019-11-27 2025-02-14 주식회사 엘지화학 바인더 수지, 감광성 수지 조성물, 블랙뱅크 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
KR102782512B1 (ko) * 2019-12-10 2025-03-14 주식회사 엘지화학 블랙 절연막용 감광성 조성물, 블랙 절연막, 및 디스플레이 장치
JP7592989B2 (ja) * 2020-06-26 2024-12-03 東レ株式会社 感光性組成物、硬化物および有機ｅｌ表示装置
CN112162463B (zh) * 2020-08-28 2021-09-28 上海玟昕科技有限公司 一种负性高弹性感光树脂组合物
US12295204B2 (en) 2021-08-20 2025-05-06 Apple Inc. Polarizer-free displays
WO2023022830A1 (en) * 2021-08-20 2023-02-23 Apple Inc. Polarizer-free display
KR102859607B1 (ko) * 2022-01-07 2025-09-16 덕산네오룩스 주식회사 패턴성이 우수한 감광성 조성물
KR20240149708A (ko) * 2023-04-06 2024-10-15 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러 필터

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101617272A (zh) * 2007-02-21 2009-12-30 Lg化学株式会社 用于黑矩阵的光敏树脂组合物、由该组合物制备的黑矩阵和包括该黑矩阵的液晶显示器
CN102436142A (zh) * 2010-09-29 2012-05-02 第一毛织株式会社 黑色光敏树脂组合物以及使用其的光阻层
JP2012189961A (ja) * 2011-03-14 2012-10-04 Funai Electric Co Ltd 映像表示装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NZ223178A (en) 1987-01-17 1990-01-29 Nippon Paint Co Ltd Water-developable photosensitive resin composition capable of being hot melt molded, printing plates therefrom and methods of preparation
KR100583092B1 (ko) 2000-06-15 2006-05-24 주식회사 하이닉스반도체 레지스트 플로우 공정용 포토레지스트 조성물의 첨가제
JP2007154073A (ja) * 2005-12-06 2007-06-21 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd 乳化重合用乳化剤、ポリマーエマルションの製造方法及びポリマーエマルション
CN104536263B (zh) * 2008-09-26 2019-06-21 株式会社Lg化学 用于黑矩阵的光敏树脂组合物
EP2264082A1 (de) 2009-06-19 2010-12-22 BYK-Chemie GmbH Terminal ungesättigte, glycidol-basierte Markomonomere, daraus erhältliche Polymere, Herstellung und Verwendung
KR101265313B1 (ko) 2009-12-22 2013-05-16 주식회사 엘지화학 다관능 아크릴 화합물 및 이를 포함하는 감광성 조성물
KR100994633B1 (ko) * 2010-04-08 2010-11-15 동우 화인켐 주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 블랙 매트릭스 및 상기 블랙 매트릭스를 구비하는 컬러 필터
WO2012008736A2 (ko) 2010-07-14 2012-01-19 주식회사 엘지화학 파지티브 타입 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자 블랙 뱅크
JP6113078B2 (ja) * 2011-01-18 2017-04-12 エルジー・ケム・リミテッド 感光性樹脂組成物、感光材及び感光材の製造方法
KR102008340B1 (ko) * 2012-08-09 2019-08-08 삼성디스플레이 주식회사 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 블랙 매트릭스의 제조 방법
KR101364229B1 (ko) 2012-12-20 2014-02-17 동우 화인켐 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조되는 절연막

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101617272A (zh) * 2007-02-21 2009-12-30 Lg化学株式会社 用于黑矩阵的光敏树脂组合物、由该组合物制备的黑矩阵和包括该黑矩阵的液晶显示器
JP2010519592A (ja) * 2007-02-21 2010-06-03 エルジー・ケム・リミテッド ブラックマトリクス用感光性樹脂組成物、これによって形成されるブラックマトリクス、およびこれを含む液晶表示装置
CN102436142A (zh) * 2010-09-29 2012-05-02 第一毛织株式会社 黑色光敏树脂组合物以及使用其的光阻层
JP2012189961A (ja) * 2011-03-14 2012-10-04 Funai Electric Co Ltd 映像表示装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109065585A (zh) * 2018-08-06 2018-12-21 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制作方法、和显示装置
CN112666795A (zh) * 2019-10-16 2021-04-16 常州强力先端电子材料有限公司 碱溶性树脂、感光性树脂组合物及滤光片
CN114450322A (zh) * 2019-12-17 2022-05-06 株式会社Lg化学 化合物、粘合剂树脂、负型光敏树脂组合物和包括使用所述负型光敏树脂组合物形成的黑堤的显示装置
CN114450322B (zh) * 2019-12-17 2023-06-27 株式会社Lg化学 化合物、粘合剂树脂、负型光敏树脂组合物和包括使用所述负型光敏树脂组合物形成的黑堤的显示装置

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