CN107601426A - 一种疏水防雾表面的制备方法 - Google Patents
一种疏水防雾表面的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN107601426A CN107601426A CN201710803556.8A CN201710803556A CN107601426A CN 107601426 A CN107601426 A CN 107601426A CN 201710803556 A CN201710803556 A CN 201710803556A CN 107601426 A CN107601426 A CN 107601426A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- glass
- substrate
- square hole
- micro
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 title claims abstract description 28
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 86
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims abstract description 14
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000003491 array Methods 0.000 claims abstract description 4
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 claims abstract 4
- CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N octamethyltrisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 238000004987 plasma desorption mass spectroscopy Methods 0.000 claims abstract 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 92
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 claims description 3
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 claims 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims 6
- 206010068150 Acoustic shock Diseases 0.000 claims 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 4
- 238000000233 ultraviolet lithography Methods 0.000 abstract description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 abstract 1
- 238000002174 soft lithography Methods 0.000 abstract 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 10
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 10
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 5
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 4
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- -1 Polydimethylsiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
本发明涉及一种疏水防雾表面的制备方法，属于防雾表面和微纳米制造技术领域。该疏水防雾表面的制备结合了一种紫外光刻和软光刻工艺。首先以SU‑8 2005光刻胶为基材，采用紫外光刻工艺制备出微方孔阵列结构，且该基底可以重复使用，然后以PDMS为结构材料，复制得到微方柱阵列结构，通过调整微方柱阵列的尺寸和间距就可以得到不同的疏水防雾表面。该方法制备出的防雾表面结构不易破坏，同时表现出了不错的透过率、疏水性和防雾性能，并且该制备方法工艺简单，实验参数可控，将十分有利于工业化大面积生产与应用。
Description
技术领域
本发明涉及一种疏水防雾表面的制备方法，属于防雾表面和微纳米制造技术领域。
背景技术
亲水性甚至超亲水性防雾表面已经受到了广泛的关注，雾滴会在材料表面迅速铺展，形成一层薄薄的水膜，从而减少光的散射，保持材料表面的透过率，然而，在恶劣的大雾天气下，这些表面可能会出现结霜或水滴凝结等现象。疏水性是指对水具有排斥能力的性能，当液滴与表面的接触角大于90度时，则称表面是疏水性的，疏水防雾表面利用雾滴自身的重力以及低的粘附力让表面附着的雾滴从材料表面滚落。
目前疏水防雾表面主要还是通过在疏水材料表面构筑微纳复合结构，然而这种表面上的结构很容易受到外力破坏，并且它的制备工艺也是相对复杂的。
发明内容
本发明的目的是提供一种疏水防雾表面的制备方法，在表面结构特征和表面化学成分之间建立适当的组合以有效地制备疏水防雾表面。聚二甲基硅氧烷(PDMS)是一种低表面能材料，它常常被用来制备疏水表面。此外它还具有良好的柔性变形、防水性、耐腐蚀性和优异的透光性，因此可以用来制备防雾薄膜，特别地，一旦基于PDMS的疏水防雾表面形成，良好的化学稳定性使其性能很难发生改变。最重要的是，聚二甲基硅氧烷良好的复制性和无毒。
该方法包括以下步骤：
一、玻璃基底的清洁：首先,为了提高光刻胶对玻璃基底的附着以及得到更平整的膜；将玻璃基底超声震洗10min，去除玻璃基底表面的有机物；其次将玻璃基底在无水乙醇里超声震洗10min，去除玻璃基底表面残余的丙酮；接着将玻璃基底在去离子水中震洗10min，去除玻璃基底表面的无机物；然后将玻璃基底放在200℃的加热台上烘烤10min，用来增加光刻胶与玻璃基底表面附着力；
二、涂覆SU-8 2005光刻胶：在步骤一处理后的玻璃基底上涂覆SU-8 2005光刻胶；后放入热烘板中烘烤，然后玻璃基底自然冷却至室温；
三、采用紫外光刻光刻制备出微方孔阵列结构：
玻璃基底可以重复使用，掩模板在紫外光源下垂直曝光，玻璃基底再次移入热烘板烘烤，冷却后的玻璃基底在显影中超声震洗，接着用异丙醇清洗，最后用氮气枪吹干玻璃基底表面；
然后以PDMS为结构材料，复制得到微方柱阵列结构：将Sylgard184基底液和固化剂以重量比10:1的比例混合均匀，抽真空30min；分别在微方孔阵列上浇铸2ml的PDMS，抽真空40min，烘台上100℃下加热固化2h，然后立即用冷水冲，最后将PDMS薄膜缓慢地从玻璃基底上剥离下来，得到相应的微方柱阵列，通过调整微方柱阵列的尺寸和间距就可以得到不同的疏水防雾表面。
所述的掩模板具有五种不同的微方孔阵列：
单个方孔的边长是10um，相邻方孔的间距是10um；
单个方孔的边长是20um，相邻方孔的间距是15um；
单个方孔的边长是20um，相邻方孔的间距是20um；
单个方孔的边长是20um，相邻方孔的间距是25um；
单个方孔的边长是30um，相邻方孔的间距是30um。
不同的微方孔阵列的掩模板相应的光刻参数不同：
一、边长是10um，间距是10um的微方孔阵列掩模板的光刻参数：台式匀胶机的转速为500r/min 5s，接着3500r/min 30s后放入热烘板中，在110℃下烘烤5min，待玻璃基底自然冷却至室温后，掩模板在110mJ/cm2的紫外光源下垂直曝光10s，玻璃基底再次移入热烘板，在110℃下烘烤8min，冷却后的玻璃基底在显影中超声震洗15s，接着用异丙醇清洗10s，最后用氮气枪吹干玻璃基底表面。
二、边长是20um，间距是15um的微方孔阵列掩模板的光刻参数：台式匀胶机的转速为500r/min 5s,接着3000r/min 30s后放入热烘板中，在100℃下烘烤5min，待玻璃基底自然冷却至室温后，掩模板在110mJ/cm2的紫外光源下垂直曝光9s，再次移入热烘板，在100℃下烘烤8min，冷却后的玻璃基底在显影中超声震洗15s，接着用异丙醇清洗10s，最后用氮气枪吹干玻璃基底表面。
三、边长是20um，间距是20um的微方孔阵列掩模板的光刻参数：台式匀胶机的转速为500r/min 5s,接着3000r/min 30s后放入热烘板中，在100℃下烘烤4min，待玻璃基底自然冷却至室温后，掩模板在110mJ/cm2的紫外光源下垂直曝光8s，再次移入热烘板，在100℃下烘烤8min，冷却后的玻璃基底在显影中超声震洗20s，接着用异丙醇清洗10s，最后用氮气枪吹干玻璃基底表面。
四、边长是20um，间距是25um的微方孔阵列掩模板的光刻参数：台式匀胶机的转速为500r/min 5s,接着3000r/min 30s后放入热烘板中，在95℃下烘烤4min，待玻璃基底自然冷却至室温后，掩模板在105mJ/cm2的紫外光源下垂直曝光9s，再次移入热烘板，在100℃下烘烤8min，冷却后的玻璃基底在显影中超声震洗25s，接着用异丙醇清洗10s，最后用氮气枪吹干玻璃基底表面。
五、边长是30um，间距是30um的微方孔阵列掩模板的光刻参数：台式匀胶机的转速为500r/min 5s,接着2500r/min 30s后放入热烘板中，在95℃下烘烤3min，待玻璃基底自然冷却至室温后，掩模板在105mJ/cm2的紫外光源下垂直曝光8s，再次移入热烘板，在95℃下烘烤10min，冷却后的玻璃基底在显影中超声震洗30s，接着用异丙醇清洗10s，最后用氮气枪吹干玻璃基底表面。
本发明的有益效果是：
1、该防雾表面的尺寸结构相对简单，同时紫外光刻制备出的负模板可以重复使用，降低了生产成本，十分有利于工业化大面积生产与应用。
2、该方法制备出的防雾表面表现出了不错的透过率、疏水性和防雾性能，并且具有良好的机械稳定性和较好的耐久性。
附图说明
图1是本发明一种疏水防雾表面的制备过程示意图。
图2是本发明方孔阵列掩模板的结构示意图(以边长是20um，间距是20um的微方孔阵列为例)。
图3是本发明负模板的激光共聚焦显微镜照片(以边长是20um，间距是20um的微方孔阵列为例)。
图4是本发明实施例1制备的微方柱阵列结构的扫描电子显微镜照片。
图5是本发明实施例1制备的疏水防雾表面的静态接触角。
图6是本发明实施例2制备的微方柱阵列结构的扫描电子显微镜照片。
图7是本发明实施例2制备的疏水防雾表面的静态接触角。
图8是本发明实施例3制备的微方柱阵列结构的扫描电子显微镜照片。
图9是本发明实施例3制备的疏水防雾表面的静态接触角。
图10是本发明实施例4制备的微方柱阵列结构的扫描电子显微镜照片。
图11是本发明实施例4制备的疏水防雾表面的静态接触角。
图12是本发明实施例5制备的微方柱阵列结构的扫描电子显微镜照片。
图13是本发明实施例5制备的疏水防雾表面的静态接触角。
具体实施方式
如图1和所示，本发明的制备方法包括以下步骤：
一、玻璃基底的清洁：首先,为了提高光刻胶对玻璃基底的附着以及得到更平整的膜；将玻璃基底超声震洗10min，去除玻璃基底表面的有机物；其次将玻璃基底在无水乙醇里超声震洗10min，去除玻璃基底表面残余的丙酮；接着将玻璃基底在去离子水中震洗10min，去除玻璃基底表面的无机物；然后将玻璃基底放在200℃的加热台上烘烤10min，用来增加光刻胶与玻璃基底表面附着力；
二、涂覆SU-8 2005光刻胶：在步骤一处理后的玻璃基底上涂覆SU-8 2005光刻胶；后放入热烘板中烘烤，然后玻璃基底自然冷却至室温；
三、采用紫外光刻制备出微方孔阵列结构：
掩模板在紫外光源下垂直曝光，玻璃基底再次移入热烘板烘烤，冷却后的玻璃基底在显影中超声震洗，接着用异丙醇清洗，最后用氮气枪吹干玻璃基底表面，得到具有如图2结构的图3(以边长是20um，间距是20um的微方孔阵列为例)；
然后以PDMS为结构材料，复制得到微方柱阵列结构：将Sylgard184基底液和固化剂以重量比10:1的比例混合均匀，抽真空30min；分别在微方孔阵列上浇铸2ml的PDMS，抽真空40min，烘台上100℃下加热固化2h，然后立即用冷水冲，最后将PDMS薄膜缓慢地从玻璃基底上剥离下来，得到相应的微方柱阵列，通过调整微方柱阵列的尺寸和间距就可以得到不同的疏水防雾表面。
所述的掩模板具有五种不同的微方孔阵列：
单个方孔的边长是10um，相邻方孔的间距是10um；
单个方孔的边长是20um，相邻方孔的间距是15um；
单个方孔的边长是20um，相邻方孔的间距是20um；
单个方孔的边长是20um，相邻方孔的间距是25um；
单个方孔的边长是30um，相邻方孔的间距是30um。
不同的微方孔阵列的掩模板相应的光刻参数不同：
一、边长是10um，间距是10um的微方孔阵列掩模板的光刻参数：台式匀胶机的转速为500r/min 5s，接着3500r/min 30s后放入热烘板中，在110℃下烘烤5min，待玻璃基底自然冷却至室温后，掩模板在110mJ/cm2的紫外光源下垂直曝光10s，玻璃基底再次移入热烘板，在110℃下烘烤8min，冷却后的玻璃基底在显影中超声震洗15s，接着用异丙醇清洗10s，最后用氮气枪吹干玻璃基底表面，如图4和图5。
二、边长是20um，间距是15um的微方孔阵列掩模板的光刻参数：台式匀胶机的转速为500r/min 5s,接着3000r/min 30s后放入热烘板中，在100℃下烘烤5min，待玻璃基底自然冷却至室温后，掩模板在110mJ/cm2的紫外光源下垂直曝光9s，再次移入热烘板，在100℃下烘烤8min，冷却后的玻璃基底在显影中超声震洗15s，接着用异丙醇清洗10s，最后用氮气枪吹干玻璃基底表面，如图6和图7。
三、边长是20um，间距是20um的微方孔阵列掩模板的光刻参数：台式匀胶机的转速为500r/min 5s,接着3000r/min 30s后放入热烘板中，在100℃下烘烤4min，待玻璃基底自然冷却至室温后，掩模板在110mJ/cm2的紫外光源下垂直曝光8s，再次移入热烘板，在100℃下烘烤8min，冷却后的玻璃基底在显影中超声震洗20s，接着用异丙醇清洗10s，最后用氮气枪吹干玻璃基底表面，如图8和图9。
四、边长是20um，间距是25um的微方孔阵列掩模板的光刻参数：台式匀胶机的转速为500r/min 5s,接着3000r/min 30s后放入热烘板中，在95℃下烘烤4min，待玻璃基底自然冷却至室温后，掩模板在105mJ/cm2的紫外光源下垂直曝光9s，再次移入热烘板，在100℃下烘烤8min，冷却后的玻璃基底在显影中超声震洗25s，接着用异丙醇清洗10s，最后用氮气枪吹干玻璃基底表面，如图10和图11。
五、边长是30um，间距是30um的微方孔阵列掩模板的光刻参数：台式匀胶机的转速为500r/min 5s,接着2500r/min 30s后放入热烘板中，在95℃下烘烤3min，待玻璃基底自然冷却至室温后，掩模板在105mJ/cm2的紫外光源下垂直曝光8s，再次移入热烘板，在95℃下烘烤10min，冷却后的玻璃基底在显影中超声震洗30s，接着用异丙醇清洗10s，最后用氮气枪吹干玻璃基底表面，如图12和图13。
Claims (7)
1.一种疏水防雾表面的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
一、玻璃基底的清洁：首先，为了提高光刻胶对玻璃基底的附着以及得到更平整的膜；将玻璃基底超声震洗10min，去除玻璃基底表面的有机物；其次将玻璃基底在无水乙醇里超声震洗10min，去除玻璃基底表面残余的丙酮；接着将玻璃基底在去离子水中震洗10min，去除玻璃基底表面的无机物；然后将玻璃基底放在200℃的加热台上烘烤10min，用来增加光刻胶与玻璃基底表面附着力；
二、涂覆SU-8 2005光刻胶：在步骤一处理后的玻璃基底上涂覆SU-8 2005光刻胶；后放入热烘板中烘烤，然后玻璃基底自然冷却至室温；
三、采用紫外光刻制备出微方孔阵列结构：
玻璃基底可以重复使用，掩模板在紫外光源下垂直曝光，玻璃基底再次移入热烘板烘烤，冷却后的玻璃基底在显影中超声震洗，接着用异丙醇清洗，最后用氮气枪吹干玻璃基底表面；
然后以PDMS为结构材料，复制得到微方柱阵列结构：将Sylgard184基底液和固化剂以重量比10:1的比例混合均匀，抽真空30min；分别在微方孔阵列上浇铸2ml的PDMS，抽真空40min，烘台上100℃下加热固化2h，然后立即用冷水冲，最后将PDMS薄膜缓慢地从玻璃基底上剥离下来，得到相应的微方柱阵列，通过调整微方柱阵列的尺寸和间距就可以得到不同的疏水防雾表面。
2.根据权利要求1所述的一种疏水防雾表面的制备方法，其特征在于：所述步骤三所用的掩模板具有五种不同的微方孔阵列：
单个方孔的边长是10um，相邻方孔的间距是10um；
单个方孔的边长是20um，相邻方孔的间距是15um；
单个方孔的边长是20um，相邻方孔的间距是20um；
单个方孔的边长是20um，相邻方孔的间距是25um；
单个方孔的边长是30um，相邻方孔的间距是30um。
3.根据权利要求1所述的一种疏水防雾表面的制备方法，其特征在于：所述步骤三的光刻参数如下：
边长是10um，间距是10um的微方孔阵列掩模板的光刻参数：台式匀胶机的转速为500r/min 5s，接着3500r/min 30s后放入热烘板中，在110℃下烘烤5min，待玻璃基底自然冷却至室温后，掩模板在110mJ/cm2的紫外光源下垂直曝光10s，玻璃基底再次移入热烘板，在110℃下烘烤8min，冷却后的玻璃基底在显影中超声震洗15s，接着用异丙醇清洗10s，最后用氮气枪吹干玻璃基底表面。
4.根据权利要求1所述的一种疏水防雾表面的制备方法，其特征在于：所述步骤三的光刻参数如下：
边长是20um，间距是15um的微方孔阵列掩模板的光刻参数：台式匀胶机的转速为500r/min 5s,接着3000r/min 30s后放入热烘板中，在100℃下烘烤5min，待玻璃基底自然冷却至室温后，掩模板在110mJ/cm2的紫外光源下垂直曝光9s，再次移入热烘板，在100℃下烘烤8min，冷却后的玻璃基底在显影中超声震洗15s，接着用异丙醇清洗10s，最后用氮气枪吹干玻璃基底表面。
5.根据权利要求1所述的一种疏水防雾表面的制备方法，其特征在于：所述步骤三的光刻参数如下：
边长是20um，间距是20um的微方孔阵列掩模板的光刻参数：台式匀胶机的转速为500r/min 5s,接着3000r/min 30s后放入热烘板中，在100℃下烘烤4min，待玻璃基底自然冷却至室温后，掩模板在110mJ/cm2的紫外光源下垂直曝光8s，再次移入热烘板，在100℃下烘烤8min，冷却后的玻璃基底在显影中超声震洗20s，接着用异丙醇清洗10s，最后用氮气枪吹干玻璃基底表面。
6.根据权利要求1所述的一种疏水防雾表面的制备方法，其特征在于：所述步骤三的光刻参数如下：
边长是20um，间距是25um的微方孔阵列掩模板的光刻参数：台式匀胶机的转速为500r/min 5s,接着3000r/min 30s后放入热烘板中，在95℃下烘烤4min，待玻璃基底自然冷却至室温后，掩模板在105mJ/cm2的紫外光源下垂直曝光9s，再次移入热烘板，在100℃下烘烤8min，冷却后的玻璃基底在显影中超声震洗25s，接着用异丙醇清洗10s，最后用氮气枪吹干玻璃基底表面。
7.根据权利要求1所述的一种疏水防雾表面的制备方法，其特征在于：所述步骤三的光刻参数如下：
边长是30um，间距是30um的微方孔阵列掩模板的光刻参数：台式匀胶机的转速为500r/min 5s,接着2500r/min 30s后放入热烘板中，在95℃下烘烤3min，待玻璃基底自然冷却至室温后，掩模板在105mJ/cm2的紫外光源下垂直曝光8s，再次移入热烘板，在95℃下烘烤10min，冷却后的玻璃基底在显影中超声震洗30s，接着用异丙醇清洗10s，最后用氮气枪吹干玻璃基底表面。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201710803556.8A CN107601426A (zh) | 2017-09-08 | 2017-09-08 | 一种疏水防雾表面的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201710803556.8A CN107601426A (zh) | 2017-09-08 | 2017-09-08 | 一种疏水防雾表面的制备方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN107601426A true CN107601426A (zh) | 2018-01-19 |
Family
ID=61063187
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201710803556.8A Pending CN107601426A (zh) | 2017-09-08 | 2017-09-08 | 一种疏水防雾表面的制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN107601426A (zh) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108390150A (zh) * | 2018-02-11 | 2018-08-10 | 哈尔滨工业大学 | 一种伸缩式频率可重构液态金属天线及该天线的制备方法 |
| CN108394858A (zh) * | 2018-02-27 | 2018-08-14 | 合肥工业大学 | 一种pdms柔性超疏水薄膜的制作方法 |
| CN108641084A (zh) * | 2018-03-30 | 2018-10-12 | 江南大学 | 一种基于非连续性润湿性改良的聚二甲基硅氧烷制备方法及产品 |
| CN117979673A (zh) * | 2024-03-29 | 2024-05-03 | 西北工业大学 | 一种防腐透明电磁屏蔽薄膜及其制备方法和应用 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0497189A2 (en) * | 1991-01-23 | 1992-08-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Water- and oil-repelling absorbed film and method of manufacturing the same |
| CN1760112A (zh) * | 2005-11-22 | 2006-04-19 | 华中科技大学 | 具有双微观结构的超疏水表面及其制作方法 |
| JP2008189836A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Asahi Glass Co Ltd | 撥水性領域のパターンを有する処理基材、その製造方法、および機能性材料の膜からなるパターンが形成された部材の製造方法 |
| JP2010247333A (ja) * | 2009-04-10 | 2010-11-04 | Kagawa Univ | 撥水撥油性部材とその製造方法及びそれらを用いた物品 |
| CN105504327A (zh) * | 2016-02-03 | 2016-04-20 | 华中科技大学 | 一种具有3d微图案的生物材料及其制备方法 |
| CN106082111A (zh) * | 2016-06-16 | 2016-11-09 | 哈尔滨工业大学 | 一种各向同性和各项异性可切换超疏水表面的制备方法 |
| CN106185792A (zh) * | 2016-07-22 | 2016-12-07 | 西北工业大学 | 一种超疏水微纳复合结构的全参数可控制备方法 |
-
2017
- 2017-09-08 CN CN201710803556.8A patent/CN107601426A/zh active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0497189A2 (en) * | 1991-01-23 | 1992-08-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Water- and oil-repelling absorbed film and method of manufacturing the same |
| CN1760112A (zh) * | 2005-11-22 | 2006-04-19 | 华中科技大学 | 具有双微观结构的超疏水表面及其制作方法 |
| JP2008189836A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Asahi Glass Co Ltd | 撥水性領域のパターンを有する処理基材、その製造方法、および機能性材料の膜からなるパターンが形成された部材の製造方法 |
| JP2010247333A (ja) * | 2009-04-10 | 2010-11-04 | Kagawa Univ | 撥水撥油性部材とその製造方法及びそれらを用いた物品 |
| CN105504327A (zh) * | 2016-02-03 | 2016-04-20 | 华中科技大学 | 一种具有3d微图案的生物材料及其制备方法 |
| CN106082111A (zh) * | 2016-06-16 | 2016-11-09 | 哈尔滨工业大学 | 一种各向同性和各项异性可切换超疏水表面的制备方法 |
| CN106185792A (zh) * | 2016-07-22 | 2016-12-07 | 西北工业大学 | 一种超疏水微纳复合结构的全参数可控制备方法 |
Non-Patent Citations (8)
| Title |
|---|
| 中国机械工程学会特种加工分会: "《第13届全国特种加工学术会议论文集》", 31 October 2009, 哈尔滨工业大学出版社 * |
| 吴元庆、鲁继、刘春梅: ""采用SU-8胶制作模具的工艺研究"", 《传感器与微系统》 * |
| 张云龙: "《碳化硅及其复合材料的制造与应用》", 31 July 2015, 国防工业出版社 * |
| 张亚非，陈达: "《薄膜体声波谐振器的原理、设计与应用》", 31 January 2011, 上海交通大学出版社 * |
| 张润香等: ""ICP刻蚀硅模板用于PDMS规则超疏水表面的制作"", 《电化学》 * |
| 普朝光: "《非制冷红外探测材料技术》", 30 September 2011, 国防工业出版社 * |
| 曹向群: "《光学刻划技术论文精选》", 31 October 1991, 机械工业出版社 * |
| 马宏: "《精密刻划与超精密特种加工技术》", 31 August 2008, 兵器工业出版社 * |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108390150A (zh) * | 2018-02-11 | 2018-08-10 | 哈尔滨工业大学 | 一种伸缩式频率可重构液态金属天线及该天线的制备方法 |
| CN108394858A (zh) * | 2018-02-27 | 2018-08-14 | 合肥工业大学 | 一种pdms柔性超疏水薄膜的制作方法 |
| CN108641084A (zh) * | 2018-03-30 | 2018-10-12 | 江南大学 | 一种基于非连续性润湿性改良的聚二甲基硅氧烷制备方法及产品 |
| CN117979673A (zh) * | 2024-03-29 | 2024-05-03 | 西北工业大学 | 一种防腐透明电磁屏蔽薄膜及其制备方法和应用 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN107601426A (zh) | 一种疏水防雾表面的制备方法 | |
| Torun et al. | Water impact resistant and antireflective superhydrophobic surfaces fabricated by spray coating of nanoparticles: interface engineering via end-grafted polymers | |
| CN101663249B (zh) | 超斥水表面的制备 | |
| Sung et al. | Fabrication of superhydrophobic surfaces with nano-in-micro structures using UV-nanoimprint lithography and thermal shrinkage films | |
| CN107384191B (zh) | 一种制备柔性超疏水涂层的方法及其制备的超疏水涂层 | |
| CN108394858A (zh) | 一种pdms柔性超疏水薄膜的制作方法 | |
| CN111330829B (zh) | 一种硅基底超疏水表面及其制备方法与应用 | |
| CN109251345A (zh) | 一种耐久性的超亲水或超疏水塑料表面及其制备方法 | |
| CN104476895B (zh) | 模板压印和表面起皱相结合构筑多级有序微结构的方法 | |
| CN112679771B (zh) | 一种可拉伸的超疏水表面材料及其制备方法 | |
| CN104438021A (zh) | 一种在疏水表面制备亲水涂膜的方法 | |
| CN105197879A (zh) | 一种超疏液薄膜及其制备方法 | |
| CN111268640A (zh) | 一种自适应性超疏水表面及其制备方法 | |
| CN104112544A (zh) | 一种防硫化氢气体腐蚀的银纳米线透明导电薄膜的制备方法 | |
| CN104804210B (zh) | 一种疏水橡胶的制备方法 | |
| CN103928296B (zh) | 一种将石墨烯转移到具有pdms过渡层硬质衬底上的方法 | |
| CN107649346A (zh) | Pdms燃烧法制备超疏水表面的方法及燃烧室 | |
| CN105807557A (zh) | 一种用于光学曝光的高分辨率柔性复合掩模板及其制备方法 | |
| CN103616739B (zh) | 圆片级聚合物光学微球腔的集成制造方法 | |
| WO2017057220A1 (ja) | 撥水性部材及びその製造方法 | |
| CN109987578A (zh) | 一种在微型柱子表面上构造单内凹结构的方法 | |
| CN107151337A (zh) | 一种液体润湿性能可控的表面制备方法 | |
| CN104409332B (zh) | 一种在疏水绝缘层表面涂布光刻胶的方法 | |
| CN110596805B (zh) | 一种双面微结构聚酰亚胺薄膜光学器件的制备方法 | |
| CN106950618A (zh) | 一种利用仿生超疏水结构防止光学镜头结雾的方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20180119 |
|
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |