CN107511915A - 一种日用陶瓷施釉后坯体底部釉液擦拭装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种日用陶瓷施釉后坯体底部釉液擦拭装置，涉及日用陶瓷技术领域，包括机架、擦拭机构和清洗机构，所述擦拭机构由第一转轮、第二转轮、环绕设在第一转轮与第二转轮上的传送带以及驱动第一转轮旋转的第一电机组成，传送带上紧密外套有擦釉布，所述清洗机构由装有清洗液的清洗槽、通过辊筒安装在清洗槽内部的海绵清洗辊和驱动海绵清洗辊旋转的第二电机组成，清洗槽内清洗液液面没过辊筒，海绵清洗辊旋转时海绵外壁与擦釉布过盈接触，且海绵清洗辊的旋转方向与第一转轮的旋转方向相反。本发明通过擦拭机构和清洗机构的配合使用，保证陶瓷坯体施釉后擦底工作的有序进行，从而提高陶瓷坯体的施釉质量。
Description
技术领域：
本发明涉及日用陶瓷技术领域，具体涉及一种日用陶瓷施釉后坯体底部釉液擦拭装置。
背景技术：
陶瓷坯体施釉后，一般都必须将坯体底部的瓷釉擦去。在传统加工工艺中，通常采用手工擦拭方法，但往往存在擦拭不净或偏擦的问题，常造成釉刺、粘釉、滴油、夹口等缺陷，并且劳动强度大，工作效率低。随着自动化机械技术的不断发展，人们开始使用自动化坯体擦底设备对坯体底部的瓷釉进行擦拭，不仅节省人力，提高加工效率，而且能保证擦拭效果，避免擦拭不净或偏擦现象的发生。
专利CN 201241036Y公开了一种日用陶瓷施釉坯体擦底机，以外套海绵套或绕有擦釉布的滚柱来对日用陶瓷施釉坯体进行擦底，并通过水槽的设置来对海绵套或擦釉布进行清洗。由于釉液中含有粘合剂，只通过短时间的清水浸泡方式难以有效除去海绵套或擦釉布上附着的釉液，从而直接影响后续坯体的擦底效果。
发明内容：
本发明所要解决的技术问题在于提供一种能有效清除坯体底部多余釉液且自动化程度高的日用陶瓷施釉后坯体底部釉液擦拭装置。
本发明所要解决的技术问题采用以下的技术方案来实现：
一种日用陶瓷施釉后坯体底部釉液擦拭装置，包括机架、擦拭机构和清洗机构，所述擦拭机构由第一转轮、第二转轮、环绕设在第一转轮与第二转轮上的传送带以及驱动第一转轮旋转的第一电机组成，传送带上紧密外套有擦釉布，所述清洗机构由装有清洗液的清洗槽、通过辊筒安装在清洗槽内部的海绵清洗辊和驱动海绵清洗辊旋转的第二电机组成，清洗槽内清洗液液面没过辊筒，海绵清洗辊旋转时海绵外壁与擦釉布过盈接触，且海绵清洗辊的旋转方向与第一转轮的旋转方向相反。
所述海绵清洗辊由第一海绵清洗辊和第二海绵清洗辊组成，第二电机通过皮带传动驱动第一海绵清洗辊旋转，第一海绵清洗辊再通过皮带传动驱动第二海绵清洗辊同向旋转。
所述机架底部设有带锁紧开关的滑轮。
所述清洗液由如下重量份数的原料制成：泊洛沙姆40715-25份、羟丙基 -β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖5-10份、羟丙基淀粉醚1-5份、田菁胶1-5份、水解聚马来酸酐1-5份、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚0.5-2份、水200-300份；
其制备方法包括如下步骤：
(1)将泊洛沙姆407加热至120-125℃保温搅拌10min，再加入水解聚马来酸酐和三羟甲基丙烷三缩水甘油醚，继续在120-125℃保温搅拌30min，研磨下自然冷却至室温，即得改性泊洛沙姆；
(2)向水中加入改性泊洛沙姆和羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖，并加热至回流状态保温搅拌15min，再加入羟丙基淀粉醚和田菁胶，继续于回流状态下保温搅拌15min，所得混合物趁热送入球磨机中，球磨至出料粒度小于 30μm即可。
所述羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖是由羟丙基-β-环糊精、多聚谷氨酸与壳寡糖经酯化反应制成，其具体制备方法为：搅拌下向羟丙基-β-环糊精和土壤级多聚谷氨酸的混合粉体中滴加55-60℃热水直至完全溶解，并利用微波处理器微波回流处理10min，间隔10min后继续微波回流处理10min，然后加入壳寡糖，补加55-60℃热水使壳寡糖完全溶解，再次微波回流处理10 min，所得混合物以5-10℃/min的冷却速度冷却至10℃以下并保温静置30min，最后于70-75℃下保温研磨至水分挥干，即得羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖。
所述羟丙基-β-环糊精、多聚谷氨酸、壳寡糖的质量比为5-10:15-25:5-10。
所述微波处理器的工作条件为微波频率2450MHz、输出功率700W。
羟丙基-β-环糊精、多聚谷氨酸与壳寡糖经酯化反应(化学交联)后制得羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖，在保证水溶性的基础上显著增强其对釉液的清洗能力。
本发明的有益效果是：
(1)通过传送带与擦釉布的分开设置，避免直接以擦釉布作为传送带存在的转轮磨擦损耗，延长擦釉布的使用寿命，并且便于擦釉布的更换；再通过海绵清洗辊与擦釉布的过盈接触以及反向旋转，利用粘附有清洗液的海绵清洗辊即时将擦釉布上附着的釉液清洗除去，以保证擦釉布对后续陶瓷坯体底部釉液的擦拭效果，防止擦釉布因粘附过多釉液而难以正常工作；
(2)所述清洗液属于水性清洗液，不含有机溶剂，使用安全性高；且该清洗液能有效清除擦釉布上附着的釉液，从而显著降低擦釉布上釉液的残留率，经试验测得其釉液残留率最低低至0.06％以下；同时该清洗液的使用周期长，降低了清洗液的更换频率，在废弃时只需通过简单的水处理工艺处理后即可直排，减轻了废水处理难度和对环境的污染；
(3)通过擦拭机构和清洗机构的配合使用，保证陶瓷坯体施釉后擦底工作的有序进行，从而提高陶瓷坯体的施釉质量，并且延长擦釉布的使用寿命，减少擦釉布的更换次数，以提高擦底工序的工作效率。
附图说明：
图1为本发明的结构示意图；
其中：1-机架；2-第一转轮；3-第二转轮；4-传送带；5-第一电机；6-擦釉布；7-清洗槽；8-辊筒；9-第二电机；10-第一海绵清洗辊；11-第二海绵清洗辊；12-锁紧开关；13-滑轮。
具体实施方式：
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示和实施例，进一步阐述本发明。
实施例1
如图1所示，一种日用陶瓷施釉后坯体底部釉液擦拭装置，包括机架1、擦拭机构和清洗机构，擦拭机构由第一转轮2、第二转轮3、环绕设在第一转轮与第二转轮上的传送带4以及驱动第一转轮旋转的第一电机5组成，传送带上紧密外套有擦釉布6，清洗机构由装有清洗液的清洗槽7、通过辊筒8安装在清洗槽内部的海绵清洗辊和驱动海绵清洗辊旋转的第二电机9组成，清洗槽内清洗液液面没过辊筒，海绵清洗辊旋转时海绵外壁与擦釉布过盈接触，且海绵清洗辊的旋转方向与第一转轮的旋转方向相反。
海绵清洗辊由第一海绵清洗辊10和第二海绵清洗辊11组成，第二电机通过皮带传动驱动第一海绵清洗辊旋转，第一海绵清洗辊再通过皮带传动驱动第二海绵清洗辊同向旋转，机架底部设有带锁紧开关12的滑轮13。
实施例2
如图1所示，一种日用陶瓷施釉后坯体底部釉液擦拭装置，包括机架1、擦拭机构和清洗机构，擦拭机构由第一转轮2、第二转轮3、环绕设在第一转轮与第二转轮上的传送带4以及驱动第一转轮旋转的第一电机5组成，传送带上紧密外套有擦釉布6，清洗机构由装有清洗液的清洗槽7、通过辊筒8安装在清洗槽内部的海绵清洗辊和驱动海绵清洗辊旋转的第二电机9组成，清洗槽内清洗液液面没过辊筒，海绵清洗辊旋转时海绵外壁与擦釉布过盈接触，且海绵清洗辊的旋转方向与第一转轮的旋转方向相反。
海绵清洗辊由第一海绵清洗辊10和第二海绵清洗辊11组成，第二电机通过皮带传动驱动第一海绵清洗辊旋转，第一海绵清洗辊再通过皮带传动驱动第二海绵清洗辊同向旋转，机架底部设有带锁紧开关12的滑轮13。
清洗液的制备包括如下步骤：
(1)将20g泊洛沙姆407加热至120-125℃保温搅拌10min，再加入3g水解聚马来酸酐和0.5g三羟甲基丙烷三缩水甘油醚，继续在120-125℃保温搅拌30 min，研磨下自然冷却至室温，即得改性泊洛沙姆；
(2)向250g水中加入改性泊洛沙姆和10g羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸- 壳寡糖，并加热至回流状态保温搅拌15min，再加入2g羟丙基淀粉醚和2g田菁胶，继续于回流状态下保温搅拌15min，所得混合物趁热送入球磨机中，球磨至出料粒度小于30μm即可。
羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖的制备：搅拌下向10g羟丙基-β-环糊精和25g土壤级多聚谷氨酸的混合粉体中滴加55-60℃热水直至完全溶解，并利用微波频率2450MHz、输出功率700W的微波处理器微波回流处理10min，间隔10min后继续微波回流处理10min，然后加入10g壳寡糖，补加55-60℃热水使壳寡糖完全溶解，再次微波回流处理10min，所得混合物以5-10℃/min的冷却速度冷却至10℃以下并保温静置30min，最后于70-75℃下保温研磨至水分挥干，即得羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖。
实施例3
如图1所示，一种日用陶瓷施釉后坯体底部釉液擦拭装置，包括机架1、擦拭机构和清洗机构，擦拭机构由第一转轮2、第二转轮3、环绕设在第一转轮与第二转轮上的传送带4以及驱动第一转轮旋转的第一电机5组成，传送带上紧密外套有擦釉布6，清洗机构由装有清洗液的清洗槽7、通过辊筒8安装在清洗槽内部的海绵清洗辊和驱动海绵清洗辊旋转的第二电机9组成，清洗槽内清洗液液面没过辊筒，海绵清洗辊旋转时海绵外壁与擦釉布过盈接触，且海绵清洗辊的旋转方向与第一转轮的旋转方向相反。
海绵清洗辊由第一海绵清洗辊10和第二海绵清洗辊11组成，第二电机通过皮带传动驱动第一海绵清洗辊旋转，第一海绵清洗辊再通过皮带传动驱动第二海绵清洗辊同向旋转，机架底部设有带锁紧开关12的滑轮13。
清洗液的制备包括如下步骤：
(1)将25g泊洛沙姆407加热至120-125℃保温搅拌10min，再加入5g水解聚马来酸酐和1g三羟甲基丙烷三缩水甘油醚，继续在120-125℃保温搅拌30 min，研磨下自然冷却至室温，即得改性泊洛沙姆；
(2)向300g水中加入改性泊洛沙姆和10g羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸- 壳寡糖，并加热至回流状态保温搅拌15min，再加入2g羟丙基淀粉醚和1g田菁胶，继续于回流状态下保温搅拌15min，所得混合物趁热送入球磨机中，球磨至出料粒度小于30μm即可。
羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖的制备：搅拌下向5g羟丙基-β-环糊精和15g土壤级多聚谷氨酸的混合粉体中滴加55-60℃热水直至完全溶解，并利用微波频率2450MHz、输出功率700W的微波处理器微波回流处理10min，间隔10min后继续微波回流处理10min，然后加入5g壳寡糖，补加55-60℃热水使壳寡糖完全溶解，再次微波回流处理10min，所得混合物以5-10℃/min的冷却速度冷却至10℃以下并保温静置30min，最后于70-75℃下保温研磨至水分挥干，即得羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖。
对照例1
如图1所示，一种日用陶瓷施釉后坯体底部釉液擦拭装置，包括机架1、擦拭机构和清洗机构，擦拭机构由第一转轮2、第二转轮3、环绕设在第一转轮与第二转轮上的传送带4以及驱动第一转轮旋转的第一电机5组成，传送带上紧密外套有擦釉布6，清洗机构由装有清洗液的清洗槽7、通过辊筒8安装在清洗槽内部的海绵清洗辊和驱动海绵清洗辊旋转的第二电机9组成，清洗槽内清洗液液面没过辊筒，海绵清洗辊旋转时海绵外壁与擦釉布过盈接触，且海绵清洗辊的旋转方向与第一转轮的旋转方向相反。
海绵清洗辊由第一海绵清洗辊10和第二海绵清洗辊11组成，第二电机通过皮带传动驱动第一海绵清洗辊旋转，第一海绵清洗辊再通过皮带传动驱动第二海绵清洗辊同向旋转，机架底部设有带锁紧开关12的滑轮13。
清洗液的制备包括如下步骤：
(1)将25g泊洛沙姆407加热至120-125℃保温搅拌10min，再加入5g水解聚马来酸酐和1g三羟甲基丙烷三缩水甘油醚，继续在120-125℃保温搅拌30 min，研磨下自然冷却至室温，即得改性泊洛沙姆；
(2)向300g水中加入改性泊洛沙姆、2g羟丙基-β-环糊精、6g多聚谷氨酸和2g壳寡糖，并加热至回流状态保温搅拌15min，再加入2g羟丙基淀粉醚和1 g田菁胶，继续于回流状态下保温搅拌15min，所得混合物趁热送入球磨机中，球磨至出料粒度小于30μm即可。
对照例2
如图1所示，一种日用陶瓷施釉后坯体底部釉液擦拭装置，包括机架1、擦拭机构和清洗机构，擦拭机构由第一转轮2、第二转轮3、环绕设在第一转轮与第二转轮上的传送带4以及驱动第一转轮旋转的第一电机5组成，传送带上紧密外套有擦釉布6，清洗机构由装有清洗液的清洗槽7、通过辊筒8安装在清洗槽内部的海绵清洗辊和驱动海绵清洗辊旋转的第二电机9组成，清洗槽内清洗液液面没过辊筒，海绵清洗辊旋转时海绵外壁与擦釉布过盈接触，且海绵清洗辊的旋转方向与第一转轮的旋转方向相反。
海绵清洗辊由第一海绵清洗辊10和第二海绵清洗辊11组成，第二电机通过皮带传动驱动第一海绵清洗辊旋转，第一海绵清洗辊再通过皮带传动驱动第二海绵清洗辊同向旋转，机架底部设有带锁紧开关12的滑轮13。
清洗液的制备包括如下步骤：
向300g水中加入25g泊洛沙姆407和10g羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖，并加热至回流状态保温搅拌15min，再加入2g羟丙基淀粉醚和1g田菁胶，继续于回流状态下保温搅拌15min，所得混合物趁热送入球磨机中，球磨至出料粒度小于30μm即可。
羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖的制备：搅拌下向5g羟丙基-β-环糊精和15g土壤级多聚谷氨酸的混合粉体中滴加55-60℃热水直至完全溶解，并利用微波频率2450MHz、输出功率700W的微波处理器微波回流处理10min，间隔10min后继续微波回流处理10min，然后加入5g壳寡糖，补加55-60℃热水使壳寡糖完全溶解，再次微波回流处理10min，所得混合物以5-10℃/min的冷却速度冷却至10℃以下并保温静置30min，最后于70-75℃下保温研磨至水分挥干，即得羟丙基-β-环糊精-多聚谷氨酸-壳寡糖。
实施例4
分别测定实施例2、实施例3、对照例1、对照例2中当相同材质的干净擦釉布使用12h后其表面釉液残留率，结果如表1所示，并以等量清水替代清洗剂作为对照例3。
表1实施例2-3、对照例1-3所制清洗剂对擦底海绵的清洗效果
| 测定项目 | 实施例2 | 实施例3 | 对照例1 | 对照例2 | 对照例3 |
| 釉液残留率/％ | 0.21 | 0.18 | 0.39 | 0.97 | 10.56 |
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (3)
1.一种日用陶瓷施釉后坯体底部釉液擦拭装置，其特征在于：包括机架、擦拭机构和清洗机构，所述擦拭机构由第一转轮、第二转轮、环绕设在第一转轮与第二转轮上的传送带以及驱动第一转轮旋转的第一电机组成，传送带上紧密外套有擦釉布，所述清洗机构由装有清洗液的清洗槽、通过辊筒安装在清洗槽内部的海绵清洗辊和驱动海绵清洗辊旋转的第二电机组成，清洗槽内清洗液液面没过辊筒，海绵清洗辊旋转时海绵外壁与擦釉布过盈接触，且海绵清洗辊的旋转方向与第一转轮的旋转方向相反。
2.根据权利要求1所述的日用陶瓷施釉后坯体底部釉液擦拭装置，其特征在于：所述海绵清洗辊由第一海绵清洗辊和第二海绵清洗辊组成，第二电机通过皮带传动驱动第一海绵清洗辊旋转，第一海绵清洗辊再通过皮带传动驱动第二海绵清洗辊同向旋转。
3.根据权利要求1所述的日用陶瓷施釉后坯体底部釉液擦拭装置，其特征在于：所述机架底部设有带锁紧开关的滑轮。
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