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CN107406980A - 用于涂覆基底表面的喷嘴头和设备 - Google Patents

用于涂覆基底表面的喷嘴头和设备 Download PDF

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CN107406980A CN201580076499.7A CN201580076499A CN107406980A CN 107406980 A CN107406980 A CN 107406980A CN 201580076499 A CN201580076499 A CN 201580076499A CN 107406980 A CN107406980 A CN 107406980A
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Abstract

本发明涉及用于根据原子层沉积的原理，通过使基底(1、48)的表面(3)经受至少两种前体(A、B；C、D；E、F)的相继表面反应而在基底(1、48)的表面(3)上提供涂覆的喷嘴头(5、40、50)、设备和方法。喷嘴头(5、40、50)包括设置有至少两个不同的前体区(A+B、C+D、E+F)的输出面(11、45、51)，所述至少两个不同的前体区(A+B、C+D、E+F)被布置成在基底(1)的表面(3)上提供不同的涂覆层(AB、CD、EF)。

Description

用于涂覆基底表面的喷嘴头和设备
技术领域
本发明涉及用于根据原子层沉积的原理，通过使基底(substrate)的表面经受至少两种前体的相继表面反应而在基底的表面上提供涂覆的喷嘴头；并且本发明特别是涉及根据权利要求1的前序部分的喷嘴头。本发明还涉及用于涂覆工艺的设备，其中，根据原子层沉积的原理，通过至少两种前体的相继表面反应而在基底的表面提供了涂覆层；并且本发明特别是涉及根据权利要求17的前序部分的设备。
背景技术
原子层沉积(ALD)用于在用于制造产品(所述产品诸如半导体、电子部件、光学部件或光伏电池)的基底上提供涂覆层。根据ALD的基本特性，涂覆层在基底的所有表面上生长，并且完全地覆盖每个表面。然而，当制造这样的产品时，并不总是期望提供整个地覆盖一个表面的涂覆层。例如，可以对基底设置电连接件，并且不期望在电连接件上形成涂覆层。因此，期望制造用于产品生产的基底，其中仅在基底的表面的有限子区域上形成涂覆ALD涂覆层。在一些应用中，需要两个或更多个叠置的涂覆层，以形成纳米叠层涂覆层结构。此外，在许多应用中，在基底的表面的不同区域或子区域处需要不同的涂覆层。一些区域子区域也可能需要两个或更多个叠置的涂覆层，而基底的表面的其他区域仅需要一个涂覆层或不同的叠置涂覆层。
在现有技术中，基底的表面的不同涂覆区域或基底的表面上的不同叠置或相邻的涂覆层总是在不同的制造步骤中提供。产生纳米叠层，使得在基底的表面上形成第一涂覆层，并且随后在基底的表面上提供不同涂覆材料的第二涂覆层。这在工业工艺中是效率低下的。
在现有技术中，仅基底的有限子区域涂覆有ALD涂覆层的基底通过以下两种不同的方式形成：使用覆盖基底的表面的一部分的掩模防止在基底的表面上涂覆形成涂覆层，或者在涂覆工艺之后从基底的表面的一部分去除涂覆层。掩模等放置在基底的表面上，以防止在涂覆工艺期间在掩膜覆盖的基底的表面的区域上材料生长。通常，在基底的表面上产生涂覆层之后，通过蚀刻等去除工艺从基底的表面去除所产生的涂覆层。
用于生产仅在基底的表面的有限子区域上具有ALD涂覆层的基底的现有技术方法需要在实际涂覆工艺之前或在实际涂覆工艺之后执行额外的工艺步骤，如上所述关于使用掩模以及去除所产生的涂覆层的部分。这些额外的工艺步骤降低了生产效率，因为它们是耗时的并且使生产工艺更加复杂。此外，掩模不会有效地防止涂覆层在掩模区域上生长，因为前体气体易于从掩模与基底的表面之间的掩模的边缘区域渗透。
发明内容
本发明的目的是提供喷嘴头、设备和方法，以克服或至少减轻现有技术的缺点。本发明的目的通过一种喷嘴头实现，该喷嘴头的特征是权利要求1的特征部分中所述的内容。本发明的目的还通过一种设备来实现，该设备的特征是权利要求17的特征部分中所述的内容。
在从属权利要求中公开了本发明的优选实施方案。
本发明基于以下理念：提供喷嘴头，用于根据原子层沉积的原理，通过使基底的表面经受至少两种前体的相继表面反应而在基底的表面上提供涂覆。喷嘴头包括输出面，至少两种前体经由该输出面被供应到基底的表面。输出面具有宽度和长度，宽度横向于喷嘴头和基底的相对移动方向延伸，长度在喷嘴头和基底的相对移动方向上延伸。输出面包括两个或更多个前体区，该两个或更多个前体区被设置到喷嘴头的输出面，并且被布置成将至少两种前体供应到基底的表面，用于在基底的表面上形成涂覆层。根据本发明，前体区中的至少两个前体区的宽度小于输出面的宽度，并且被布置成在输出面的宽度方向上位于喷嘴头的输出面上的不同位置处。
在一个实施方案中，前体区中的至少两个前体区的宽度小于输出面的宽度方向，并且被布置成在输出面的宽度方向上在喷嘴头的输出面上彼此相邻或成直线。
在另一个实施方案中，前体区中的至少两个前体区的宽度小于输出面的宽度，并且被布置成在输出面的宽度方向上位于喷嘴头的输出面上的不同位置处以及在输出面的长度方向上位于喷嘴头的输出面上的不同位置处。
在再一个实施方案中，前体区中的至少两个前体区被布置成在输出面的长度方向上至少部分地重叠。
喷嘴头还可以包括：一个或多个第一前体区，该一个或多个第一前体区被设置到喷嘴头的输出面，并且被布置成将至少两种前体供应到基底的表面，用于在基底的表面上形成第一涂覆层：以及一个或多个第二前体区，该一个或多个第二前体区被设置到喷嘴头的输出面，并且被布置成将至少两种前体供应到基底的表面，用于在基底的表面上形成第二涂覆层，第二涂覆层与第一涂覆层不同。第一前体区和第二前体区可以被布置成供应不同的前体，用于在基底的表面上形成不同涂覆材料的涂覆层。可替代地或附加地，第一前体区和第二前体区在喷嘴头的输出面上具有不同的尺寸，用于在基底的表面上提供不同尺寸的涂覆层。
本发明还基于以下理念：提供用于涂覆工艺的设备，其中根据原子层沉积的原理，通过至少两种前体的相继表面反应而在基底的表面上提供涂覆层。该设备包括喷嘴头，该喷嘴头具有输出面，该输出面具有宽度和长度，宽度横向于喷嘴头和基底的相对移动方向延伸，并且长度在喷嘴头和基底的相对移动方向上延伸。该设备还包括移动系统，该移动系统用于使喷嘴头相对于基底在相对移动方向上移动，用于使基底的表面经受至少两种前体的相继表面反应。输出面设置有至少两个前体区，该至少两个前体区被布置成在输出面的宽度方向上位于喷嘴头的输出面上的不同位置处。
在一个实施方案中，前体区中的至少两个前体区被布置成在输出面的宽度方向上在喷嘴头的输出面上彼此相邻或成直线。
在另一个实施方案中，前体区中的至少两个前体区被布置成在输出面的宽度方向上位于喷嘴头的输出面上的不同位置处以及在输出面的长度方向上位于喷嘴头的输出面上的不同位置处。
前体区可以被布置成使得前体区中的至少两个前体区被布置成在输出面的长度方向上至少部分地重叠，或者前体区中的至少两个前体区被布置成在输出面的宽度方向上至少部分地重叠，或者前体区中的至少两个前体区被布置成在输出面的长度方向和宽度方向上至少部分地重叠。
喷嘴头的输出面可以包括至少两个不同的前体区，至少两个不同的前体区被布置成在基底的表面上提供不同的涂覆层。因此，设备被布置成通过用前体供应系统供应前体并且使喷嘴头移动而在基底的表面上形成不同的涂覆层。通过将前体供应系统和第一前体区和第二前体区布置成供应不同的前体，以在基底的表面上形成不同涂覆材料的涂覆层来实现不同的涂覆层。可替代地，不同的涂覆层通过喷嘴头并且通过使喷嘴头相对于基底移动而实现，该喷嘴头在喷嘴头的输出面上具有不同尺寸的第一前体区和第二前体区，以在基底的表面上提供不同尺寸的涂覆层。
通过以下实现不同的涂覆层：经由设置到喷嘴头的输出面的一个或多个第一前体区向基底的表面供应至少第一前体和第二前体，用于使用布置成在输出面的宽度方向上位于喷嘴头的输出面上的不同位置处的两个或更多个前体区在基底的表面上形成第一涂覆层。因此，可以在基底的表面的不同的有限子区域上形成不同的涂覆层，或者可以在基底的表面的不同的子区域上分离地形成类似的涂覆层。可替代地或附加地，通过分别同步地从前体喷嘴供应前体并且同时使喷嘴头相对于基底移动，而在基底的表面的一个或多个第一有限子区域上提供不同的涂覆层，并且留下没有涂覆层的一个或多个第二有限子区域。
本申请中的前体可以根据ALD方法的基本原理并且取决于待沉积的膜的类型来选择。例如，对于包含氧化铝(Al2O3)的膜，可以使用前体(前体A)三甲基铝(TMA)和水蒸汽(前体B；H2O)。氧化铝的其他替代物是氯化铝(AlCl3；用于前体A)和臭氧(O3；用于前体B)。也可以使用等离子体从相对非反应性蒸汽中局部产生反应性前体，例如等离子体可以从氧(O2)产生高度反应性的臭氧(O3)和相关基团。还可以利用载气(carrier gas)或吹扫气体来提供等离子体，例如使得等离子体仅偶尔被激活，或者替代地连续地被激活，以将相对非反应性气体转化为反应性气体。如对于本领域技术人员明显的，也可以使用其他前体蒸汽，这取决于待生长的膜的特性。
本发明的优点在于在一个工艺步骤诸如几个相继的涂覆步骤中，可以在基底的表面上提供不同的涂覆层。本发明还能够仅在基底的表面的第一有限子区域上提供ALD涂覆层，而不需要在涂覆工艺之前或之后实行附加的工艺步骤。因此，在本发明中，仅在基底的表面的预定的第一有限子区域上形成涂覆层。这意味着仅这些第一有限子区域经受至少第一前体和第二前体的相继表面反应。本发明的方法和设备能够以有效的方式提供清晰边缘的涂覆的子区域。因此，本发明提供了用于工业规模制造的简单并有效的工艺。
附图说明
在下文中，将参考随附附图通过优选实施方案来更详细地描述本发明，在附图中：
图1是现有技术喷嘴头的示意图；
图2A和图2B是图1的现有技术喷嘴头的另一示意图。
图3是根据本发明的喷嘴头和设备的一个实施方案的示意图；
图4是图3的喷嘴头的输出面的示意图；
图5A和图5B是图3的喷嘴头的输出面的另一示意图；
图6A、图6B和图6C是通过图3的喷嘴头提供的涂覆层的示意图；
图7是使喷嘴头在基底的表面上方移动的示意图；
图8是通过使喷嘴根据图7移动提供的涂覆层的示意图；
图9是根据本发明的喷嘴头的另一实施方案的示意图；
图10是通过使喷嘴根据图9移动提供的涂覆层的示意图；
图11是通过使喷嘴根据图9移动提供的涂覆层的另一示意图；
图12是根据本发明的设备和喷嘴头的另一实施方案的示意图；
图13是根据本发明的喷嘴头的另一实施方案的示意图；以及
图14是根据本发明的喷嘴头的又一实施方案的示意图。
具体实施方式
本发明涉及喷嘴头、涂覆设备以及涂覆方法。在本申请的上下文中，省略了前体供应系统的详细描述和附图，因为它们可以以许多方式来实施。基本上，前体供应系统包括用于输送前体的气体源、导管、泵和阀。设备可以包括用于在反应室中的真空环境中操作设备的真空泵。如果方法和设备在正常空气压力下操作，则可以省略真空泵。在本申请的上下文中，还省略了对用于移动基底和前体喷嘴或喷嘴头的移动系统的非常详细的描述，因为它们也可以以各种不同的方式来实施。可以通过控制系统控制设备的操作，该控制系统可以包括若干不同的电气部件、控制单元(诸如使用控制软件的计算机)、以及其他必要的部件。本发明不限于任何特定的前体供应系统、移动系统或控制系统，但是本发明提供了操作方法和用于实施操作方法的设备。
图1示意性地示出了用于涂覆工艺的现有技术设备，其中，根据原子层沉积的原理，通过至少第一前体和第二前体的相继表面反应而在基底1的表面3上提供一个或多个涂覆层。设备包括基底移动系统，在该实施方案中，基底移动系统包括输送辊60，基本上平坦的基底1沿箭头方向S在输送辊上被输送。设备还包括布置在基底1的表面3(顶表面)上方的喷嘴头5。喷嘴头5包括朝向基底1的表面3放置的输出面11。输出面11包括在基底1的移动方向S上交替地布置的第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4。喷嘴头5或设备可以包括至少一个第一前体喷嘴2和至少一个第二前体喷嘴4。第一前体喷嘴2被布置成将第一前体供应在基底的表面3上，并且第二前体喷嘴4被布置成将第二前体供应在基底1的表面3上。第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4设置至喷嘴头5，喷嘴头被布置成通过移动系统相对于基底1移动，使得第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴相对于彼此是静止的。
在图1的实施方案的一种操作模式中，喷嘴头5以及因此第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4保持静止，并且基底1或成分离的基底片形式的一系列基底通过移动系统在喷嘴头5下方沿箭头方向S以恒定速度被输送或移动。可替代地，喷嘴头5可以在基底1的表面3上方以恒定的速度被输送或移动，或者喷嘴头5和基底1可以在相同或相反的方向上以不同的恒定速度被输送。换句话说，喷嘴头5以及第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4通过设备的移动系统相对于基底1移动。使喷嘴头5，或第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4相对于基底1移动，能够使得基底1的表面3经受同时且分别从第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4供应的第一前体和第二前体的相继表面反应。
在图1的实施方案的另一种操作模式中，基底1保持静止，并且喷嘴头5通过移动系统在基底1的表面3上方沿箭头方向M以往复移动方式移动。喷嘴头5以及第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4的同时往复移动使基底1的表面3相继经受从第一前体喷嘴2供应的第一前体和从第二前体喷嘴4供应的第二前体，因为由于喷嘴头5的往复运动，基底的表面经受第一前体和第二前体两者。可替代地，基底1可以相应地以往复移动的方式移动。
在图1的实施方案的又一种操作模式中，基底1和喷嘴头5以及第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4均通过移动系统在相同箭头的方向S和H上以相同的平均速度移动。喷嘴头5还通过移动系统在基底1的表面3上方沿箭头方向M以往复移动的方式移动。喷嘴头5以及第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4的同时往复移动使基底1的表面3相继经历从第一前体喷嘴2供应的第一前体和从第二前体喷嘴4供应的第二前体。根据该实施方案，喷嘴头5跟随基底1的移动并且同时以往复移动的方式移动。应当注意的是，在可替代的实施方案中，基底1可以以往复移动的方式移动并且喷嘴头5仅以恒定的速度移动。
图2A从侧面示出了现有技术的喷嘴头5。喷嘴头5包括设置有第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4的第一前体区A+B，第一前体喷嘴和第二前体喷嘴分别被布置成供应第一前体A和第二前体B。每个第一前体区A+B包括被交替地布置到喷嘴头5的输出面11的一个或多个第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4。应当注意的是，图中仅示意性地示出了喷嘴头5。喷嘴头5通常还包括设置在前体喷嘴2、4之间的吹扫气体喷嘴和排放喷嘴。吹扫气体喷嘴被布置成将吹扫气体供应到基底1的表面3，并且排放喷嘴被布置成从基底1的表面3排放吹扫气体和过量的前体。因此，每个前体区A+B还可以包括一个或多个吹扫气体喷嘴以及一个或多个排放喷嘴。
图2B示意性地示出了图2A的现有技术的喷嘴头5的输出面11。输出面11包括一个或多个(在图中为3(三)个)第一前体区A+B。这些前体区A+B中的每一个均包括一个或多个第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4。因此，在该现有技术的喷嘴头5中，所有的第一前体区A+B都是类似的，意味着它们被布置成经由一个或多个第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4供应相同的第一前体A和第二前体B，并且进一步地所有的第一前体区A+B在喷嘴头5的输出面11上具有相同的尺寸。因此，所有的第一前体区A+B在基底1的表面3上提供类似或相同的第一涂覆层AB。
图3示出了根据本发明的一个实施方案的设备和喷嘴头5。喷嘴头5包括至少两个不同的前体区，在该实施方案中，存在三个不同的前体区A+B、C+D、E+F。喷嘴头5的输出面11包括一个或多个第一前体区A+B，该一个或多个第一前体区被设置到喷嘴头5的输出面11，并且被布置成将至少两种前体A、B供应到基底1的表面3，用于在基底1的表面3上形成第一涂覆层AB。喷嘴头5的输出面11进一步还包括一个或多个第二前体区C+D，该一个或多个第二前体区被设置到喷嘴头5的输出面11，并且被布置成将至少两种前体C、D供应到基底1的表面3，用于在基底1的表面3上形成第二涂覆层CD。第二涂覆层CD与第一涂覆层AB不同。喷嘴头5的输出面11进一步还包括一个或多个第三前体区E+F，该一个或多个第三前体区设置到喷嘴头5的输出面11，并且被布置成将至少两种前体E、F供应到基底1的表面3，用于在基底1的表面3上形成第三涂覆层EF。第三涂覆层EF与第一涂覆层AB和第二涂覆层CD不同。
根据上述内容，喷嘴头5包括在基底1的表面3上提供不同的涂覆层AB、CD、EF的两个或更多个不同的前体区A+B、C+D、E+F。在该实施方案中，布置不同的前体区A+B、C+D、E+F，以供应不同的前体A、B、C、D、E、F。如图3所示，一个或多个第一前体区A+B被设置到喷嘴头5的输出面11，并且被布置成将至少第一前体A和第二前体B供应到基底1的表面3，用于在基底1的表面3上形成第一涂覆层AB。一个或多个第二前体区C+D被设置到喷嘴头5的输出面11，并且被布置成将至少第三前体C和第四前体D供应到基底1的表面3，用于在基底1的表面3上形成第二涂覆层CD。此外，一个或多个第三前体区E+F被设置到喷嘴头5的输出面11，并且被布置成将至少第五前体E和第六前体F供应到基底1的表面3，用于在基底1的表面3上形成第三涂覆层EF。
如图3所示，第一前体区A+B包括至少一个第一前体喷嘴2和至少一个第二前体喷嘴4，用于使基底1的表面3经受第一前体A和第二前体B的相继表面反应，用于在基底1的表面3上形成第一涂覆层AB。第二前体区C+D包括至少一个第三前体喷嘴8和至少一个第四前体喷嘴10，用于使基底1的表面3经受第三前体C和第四前体D的相继表面反应，用于在基底1的表面3上形成第二涂覆层CD。此外，第三前体区E+F包括至少一个第五前体喷嘴12和至少一个第六前体喷嘴14，用于使基底1的表面3经受第五前体E和第六前体F的相继表面反应，用于在基底1的表面3上形成第三涂层EF。在本申请的实施方案中，前体喷嘴2、4、8、10、12、14被示出为设置到输出面11的纵向喷嘴或开口，然而它们还可以具有不同的形状和尺寸。
图3的设备可以包括如结合图1所描述的类似的移动系统。设备进一步包括前体供应系统，该前体供应系统包括用于输送前体的前体源、导管、泵以及阀。如图3所示，前体供应系统包括分别用于前体A、B、C、D、E、F的前体源21、23、25、27、29、31，以及分别设置在前体源21、23、25、27、29、31与前体喷嘴2、4、8、10、12、14之间的前体导管20、22、24、26、28、30。前体系统可以进一步设置有用于将前体从第一前体源21、第二前体源23、第三前体源25、第四前体源27、第五前体源29和第六前体源31供给到前体喷嘴2、4、8、10、12、14的泵(未示出)和阀。设备进一步包括控制系统80。控制系统80可以被布置成通过同时控制设备的前体系统和移动系统的操作来控制涂覆工艺。控制系统80可以包括若干不同的电气部件、控制单元(诸如使用控制软件的计算机或微处理器)、以及其他必要部件。控制系统可以操作地连接到移动系统和前体供应系统。
移动系统可以被布置成通过使喷嘴头5和基底相对于彼此移动而使基底1一次或多次移动经过喷嘴头5的输出面11。可替代地，喷嘴头5可以被布置成在基底1的表面3上方以往复移动方式移动。往复移动也可以与线性平移移动组合。
关于上述内容，应该注意的是，每种前体A、B、C、D、E和F可以是不同的前体。然而，在一些实施方案中，在至少两个不同的前体区或所有不同的前体区A+B、C+D、E+F中，一种前体可以是相同的前体，并且另一种前体可以是不同的。这意味着例如第二前体喷嘴4、第四前体喷嘴10和第六前体喷嘴14可以被布置成供应相同的前体，并且第一前体喷嘴2、第三前体喷嘴8和第五前体喷嘴12被布置成供应不同的前体材料，用于在基底1的表面3上形成不同的涂覆层AB、CD、EF。例如，第一前体区A+B的至少一个第一前体喷嘴2和至少一个第二前体喷嘴4可以被布置成分别供应第一前体A和第二前体B，并且第二前体区C+D的至少一个第三前体喷嘴8和至少一个第四前体喷嘴10可以被布置成分别供应第三前体C和第四前体D。在该实施例中，第一前体A、第二前体B、第三前体C和第四前体D可以是不同的前体，或者可替代地，第一前体A和第三前体C是不同的前体，而第二前体B和第四前体D是相同的前体且它们与第一前体A和第三前体C不同。因此，所产生的第一涂覆层AB和第二涂覆层CD是不同的，因为第一前体A和第三前体C是不同的前体。此外，应当注意的是，不同的前体A、B、C、D、E、F也可以从一个前体喷嘴2、4、8、10、12、14以交替的方式供应或使用前体混合物同时供应。
前体A、B、C、D、E、F或者前体A、B、C、D、E、F中的至少一种可以通过前体供应系统经由前体喷嘴2、4、8、10、12、14连续地供应。可替代地，前体A、B、C、D、E、F或前体A、B、C、D、E、F中的至少一种可以通过前体供应系统经由前体喷嘴2、4、8、10、12、14以脉冲式的方式供应。前体供应还可以通过前体供应系统执行，使得一种或多种前体A、B、C、D、E、F连续地被供应，而同时一种或多种前体A、B、C、D、E、F以脉冲式的方式被供应。
图4示意性地示出了根据本发明的一个实施方案的喷嘴头5的输出面11的一个实施方案，该喷嘴头的输出面包括不同的前体区A+B、C+D、E+F。从图4可以看出，除了前体喷嘴2、4、8、10、12、14之外，输出面11还包括排放喷嘴7和吹扫气体喷嘴9，用于将前体区A+B、C+D、E+F彼此分离。排放喷嘴7可以连接到排放泵(未示出)，用于从基底1的表面3排放或吸取前体A、B、C、D、E、F。应当注意的是，吹扫气体喷嘴9也可以省略。吹扫气体喷嘴9可以连接到吹扫气体源(未示出)，用于将吹扫气体输送到吹扫气体喷嘴9。所有的喷嘴被示出为设置到喷嘴头5的输出面11的纵向喷嘴或开口，然而它们也可以具有不同的形状和尺寸。在图4中，前体区A+B、C+D、E+F以括号示出。根据图4，喷嘴头5包括至少一个排放喷嘴7，所述至少一个排放喷嘴在相邻的前体区A+B、C+D、E+F之间设置到输出面11，以用于排放前体A、B、C、D、E、F。可替代地，当存在相邻地布置的两个或更多个类似的前体区A+B、C+D、E+F时，至少一个排放喷嘴7可以在不同的前体区A+B、C+D、E+F之间(例如在第一前体区A+B与第二前体区C+D之间)设置到输出面11，用于排放前体。以类似的方式，喷嘴头5包括至少一个吹扫气体喷嘴9，所述至少一个吹扫气体喷嘴在相邻的前体区A+B、C+D、E+F之间设置到输出面11，用于供应吹扫气体。可替代地，当存在相邻地布置的两个或更多个类似的前体区A+B、C+D、E+F时，至少一个吹扫气体喷嘴9可以在不同的前体区A+B、C+D、E+F之间(例如在第一前体区A+B与第二前体区C+D之间)设置到输出面11，用于供应吹扫气体。
根据图4的实施方案，前体区A+B、C+D、E+F可以进一步包括一个或多个排放喷嘴7和/或一个或多个吹扫气体喷嘴9，用于将前体A、B、C、D、E、F和前体喷嘴2、4、8、10、12、14彼此分离。前体区A+B、B+C、E+F可以包括设置到输出面11并且在前体区A+B、B+C、E+F的前体喷嘴2、4、8、10、12、14之间的至少一个排放喷嘴7和/或至少一个吹扫气体喷嘴9。在一个实施方案中，一个或多个第一前体区A+B包括设置到输出面11并且在第一前体喷嘴2与第二前体喷嘴4之间的至少一个排放喷嘴7，和/或一个或多个第二前体区C+D包括设置到输出面11并且在第三前体喷嘴8与第四前体喷嘴10之间的至少一个排放喷嘴7，和/或一个或多个第三前体区E+F包括设置到输出面11并且在第五前体喷嘴12与第六前体喷嘴14之间的至少一个排放喷嘴7。以类似的方式，在一个实施方案中，一个或多个第一前体区A+B包括设置到输出面11并且在第一前体喷嘴2与第二前体喷嘴4之间的至少一个吹扫气体喷嘴9，和/或一个或多个第二前体区C+D包括设置到输出面11并且在第三前体喷嘴8与第四前体喷嘴10之间的至少一个吹扫气体喷嘴9，和/或一个或多个第三前体区E+F包括设置到输出面11并且在第五前体喷嘴12与第六前体喷嘴14之间的至少一个吹扫气体喷嘴9。如图4所示，前体区A+B、B+C、E+F还可以包括设置到前体区A+B、C+D、E+F的边缘区域(该边缘区域是指最外面的前体喷嘴2、4、8、10、12、14的外侧)的一个或多个吹扫气体喷嘴9和排放喷嘴7。在图4的实施方案中，每个前体区A+B、C+D、E+F在前体喷嘴2、4、8、10、12、14之间包括排放喷嘴7、吹扫气体喷嘴9和排放喷嘴7。
图5A和5B示意性地示出了根据本发明的一个实施方案的图4的喷嘴头5和输出面11的简化视图。喷嘴头5包括设置到输出面11的第一前体区A+B、第二前体区C+D以及第三前体区E+F。输出面11包括彼此相邻的第一前体区A+B、第二前体区C+D以及第三前体区E+F。应当注意的是，输出面11还可以包括每个前体区A+B、C+D、E+F中的两个或更多个，并且前体区A+B、C+D、E+F的顺序变化。根据本发明，输出面11包括至少两个不同的前体区A+B、C+D、E+F。
图6A、图6B和图6C示出了根据本发明的一个实施方案，取决于设备的操作模式，使图3、图4、图5A和图5B的喷嘴头5相对于基底1移动并供应前体，而通过喷嘴头5提供的不同的涂覆层。在6A中，设备和喷嘴头5被布置成在基底1上形成三个叠置的不同涂覆材料的涂覆层AB、CD和EF。在图6B中，设备和喷嘴头5被布置成在基底1上形成三个相邻的不同涂覆材料的涂覆层AB、CD和EF。在图6C中，设备和喷嘴头5被布置成形成三个不同的纳米叠层(在此，为了简洁示出了三个层，纳米叠层通常包括数百层至少两种不同的交替材料)，每个纳米叠层包括在基底1上的不同涂覆材料的叠置的涂覆层AB、CD和EF。设备和喷嘴头5可以被布置成取决于操作模式和喷嘴头5的构造形成许多不同的涂层。
在本发明的一种操作模式中，控制系统80可以被布置成通过控制前体供应系统而引入或供给前体A、B、C、D、E、F，并且同时通过控制移动系统M、H、S使喷嘴头5相对于基底1移动，使得仅一个或多个有限子区域经受相应的前体区A+B、C+D、E+F的两种不同的前体A、B、C、D、E、F。换句话说，供应第一前体和第二前体中的至少一种，使得这两种前体或一个前体区A+B、C+D、E+F的前体A、B、C、D、E、F中的至少两种仅在表面3的有限子区域上被供应到基底1的表面3。可以这样执行前体供应，即，使得仅在前体喷嘴在基底的表面的预定的有限子区域上方时才供应前体。
因此，设备可以进一步包括用于控制涂覆工艺的控制系统80。控制系统80可以被布置成控制前体供应系统20、21、22、23、24、25、26、27、28、29以及移动系统H、M、S协同操作，用于通过分别从前体喷嘴2、4、8、10、12、14同步地供应前体A、B、C、D、E、F并且同时使喷嘴头5相对于基底1移动，而在基底1的表面3的一个或多个有限子区域上提供一个或多个涂覆层AB、CD、EF并留下没有涂覆层的一个或多个第二有限子区域。
图7示意性地示出了本发明的实施方案，其中基底1相对于喷嘴头5移动，使得一个前体区A+B、C+D、E+F的前体喷嘴2、4、8、10、12、14在基底1的表面3上方的移动仅在基底1的表面3的第一有限子区域上重叠，以在第一有限子区域上提供一个或多个涂覆层。换句话说，前体供应不是间歇地引入的，而是从第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4连续地供应前体。如图7所示，基底1和喷嘴头5在基底1的表面3上方在第一相对位置X与第二相对位置Y之间相对于基底1以往复移动或摆动移动的方式移动，使得第一前体区A+B的第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4(第二前体区C+D的第三前体喷嘴8和第四前体喷嘴10；第三前体区E+F的第五前体喷嘴12和第六前体喷嘴14)在基底1的表面3上的往复移动在第一有限子区域上重叠。喷嘴头5(以及因此前体喷嘴2、4、8、10、12、14)在第一相对位置X与第二相对位置Y之间以往复移动的方式移动距离a、b。仅在图7的右侧示出了第六前体喷嘴14的相对位置X和Y。第一相对位置X可以是起始位置，并且以虚线示出的第二相对位置Y是往复移动的终点位置。在往复移动中，每个前体区A+B、C+D、E+F的相邻的前体喷嘴2、4、8、10、12、14在第一有限子区域上重叠。如图7所示，涂层仅形成在第一有限子区域上，在该第一有限子区域中，每个前体区A+B、C+D、E+F的相邻的前体喷嘴2、4、8、10、12、14的移动在基底1的表面3(是指在图7中相邻的前体喷嘴2、4、8、10、12、14的箭头b重叠的区域)上重叠。换句话说，喷嘴头5的移动使得前体区A+B、C+D、E+F的两种前体仅沉积在基底1的表面3的第一有限子区域上。
在图7的实施方案中，喷嘴头5在基底1的表面3上方在第一相对位置X与第二相对位置Y之间相对于基底1以往复移动方式移动，使得在往复移动期间，一个前体喷嘴2、8、12的第二相对位置Y与相邻的前体喷嘴4、10、14的第一相对位置X基本上重叠，以使基底1的表面3在由第一相对位置X和第二相对位置Y的重叠区域提供的一个或多个第一有限子区域处经受两种不同的前体。因此，前体喷嘴2、4、8、10、12、14的形状影响被涂覆的第一有限子区域的形状。喷嘴头5还可以在基底1的表面3上方在第一相对位置X与第二相对位置Y之间相对于基底1以往复移动的方式移动，使得一个前体喷嘴2、8、12的第二相对位置Y与相邻的前体喷嘴4、10、14的第一相对位置X仅部分地重叠。因此，可以形成被不同地涂覆的第一有限子区域。通过调整喷嘴头5的移动距离a、b，可以调整被涂覆的有限子区域的长度。在本申请中，术语长度是指基底1相对于喷嘴头5的相对移动方向。这意味着长度方向是基底1相对于喷嘴头5的移动方向或者喷嘴头5相对于基底1的移动方向。类似地，宽度是指与基底1相对于喷嘴头5的相对移动方向基本垂直的方向。这意味着宽度方向是与基底1相对于喷嘴头5的移动方向或喷嘴头5相对于基底1的移动方向垂直的方向。
在基底1是纵向腹板(web)、条带、板等的实施方案中，长度也可以在基底1的纵向方向上延伸，并且宽度在横向于或垂直于基底1的纵向方向的方向上延伸。换句话说，长度方向可以是基底1的纵向方向，并且宽度方向垂直于基底的纵向方向。进一步地，在这种情况下，喷嘴头5在基底1的纵向方向上移动。
图8示出了通过根据本发明的一个实施方案的设备、喷嘴头5以及结合图7描述的操作模式和方法形成的被涂覆的第一有限子区域20。图8清楚地表明了涂覆层仅形成在有限子区域20上，在该有限子区域处，每个前体区A+B、C+D、E+F的前体喷嘴2、4、8、10、12、14的往复移动、距离a、b在基底1的表面3的上方重叠。因此，基底1的表面3仅在前体区A+B、C+D、E+F的前体喷嘴2、4、8、10、12、14的往复移动重叠的这些重叠的子区域30上经受前体区A+B、C+D、E+F的两种前体。在该实施方案中，有限第一子区域是条带状的，但是可替代地，它们可以是任何几何形状或预定的形状。这通过使喷嘴头5移动同时经由前体喷嘴2、4、8、10、12、14供应前体而实现。
如图7和图8所示，喷嘴头5具有三个不同的前体区A+B、C+D、E+F，并且因此在基底1的表面3的有限子区域30上形成三个不同的涂覆层AB、CD、EF，因为前体区A+B、C+D、E+F的前体喷嘴2、4、8、10、12、14的移动a、b是重叠的。
在替代的实施方案中，通过控制移动系统，喷嘴头5可以在基底1的表面3上方沿着弯曲或环形的涂覆路径相对于基底1移动，使得在弯曲的涂覆路径中，前体区A+B、C+D、E+F的前体喷嘴2、4、8、10、12、14重叠。
根据上述，控制系统80可以被布置成通过控制移动系统H、M、S来使喷嘴头5相对于基底1移动，使得第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4在基底1的表面3上方的移动仅在基底1的表面3的第一有限子区域30上重叠，用于在第一有限子区域30上提供一个或多个涂覆层AB，和/或第三前体喷嘴8和第四前体喷嘴10在基底1的表面3上方的移动仅在基底1的表面3的第一有限子区域30上重叠，用于在第一有限子区域30上提供一个或多个涂覆层CD，和/或第五前体喷嘴12和第六前体喷嘴14在基底1的表面3上方的移动仅在基底1的表面3的第一有限子区域30上重叠，用于在第一有限子区域30上提供一个或多个涂覆层EF。
不同的前体区A+B、C+D和E+F可以可替代地或附加地由在喷嘴头5的输出面11中具有不同尺寸或形状的前体区A+B、C+D、E+F提供。这意味着通过从所有的前体喷嘴2、4、8、10、12、14和前体区A+B、C+D、E+F供应相同的前体A、B、C、D、E、F可以形成不同的涂覆层AB、CD、EF。在这种情况下，所形成的涂覆层之间的差异在于所产生的涂覆层AB、CD、EF的形状的尺寸不同。这通过提供具有至少两个具有不同尺寸或形状的前体区A+B、C+D、E+F的喷嘴头5来实现。然而，应当注意的是，具有不同尺寸的前体区A+B、C+D、E+F也可以被布置成供应不同的前体A、B、C、D、E、F，如结合图3至9所描述的。
根据上述内容，所有一个或多个第一前体区A+B在喷嘴头5的输出面11上可以具有相同的尺寸，和/或所有一个或多个第二前体区C+D在喷嘴头5的输出面11上可以具有相同的尺寸，和/或所有一个或多个第三前体区E+F在喷嘴头5的输出面11上可以具有相同的尺寸。可替代地，第一前体区A+B中的至少两个在喷嘴头5的输出面11上具有不同的尺寸，和/或第二前体区C+D中的至少两个在喷嘴头5的输出面11上具有不同的尺寸，和/或第三前体区E+F中的至少两个在喷嘴头5的输出面11上具有不同的尺寸。
在一个实施例中，所有第一前体区A+B、第二前体区C+D和第三前体区E+F在喷嘴头5的输出面11上可以具有相同的尺寸，或者一个或多个第二前体区C+D在喷嘴头5的输出面11上可以具有与一个或多个第一前体区A+B和/或一个或多个第三前体区E+F不同的尺寸。可替代地，一个或多个第二前体区C+D中的至少一个在喷嘴头5的输出面11上可以具有与一个或多个第一前体区A+B和/或一个或多个第三前体区E+F不同的尺寸。
因为前体区A+B、C+D、E+F在输出面11上可以具有不同的尺寸或形状，所以前体喷嘴2、4、8、10、12、14在输出面11上也可以具有不同的尺寸或形状。在一个实施方案中，第一前体区A+B的所有至少一个第一和第二前体喷嘴2、4在喷嘴头5的输出面11上具有相同的尺寸，和/或第二前体区C+D的所有至少一个第三和第四前体喷嘴8、10在喷嘴头5的输出面11上具有相同的尺寸，和/或第三前体区E+F的所有至少一个第五和第六前体喷嘴12、14在喷嘴头5的输出面11上具有相同的尺寸。可替代地，第一前体区A+B的至少一个第一和第二前体喷嘴2、4中的至少两个在喷嘴头5的输出面11上具有不同的尺寸，和/或第二前体区C+D的至少一个第三和第四前体喷嘴8、10中的至少两个在喷嘴头5的输出面11上具有不同的尺寸，和/或第三前体区E+F的至少一个第五和第六前体喷嘴12、14中的至少两个在喷嘴头5的输出面11上具有不同的尺寸。在另一个实施方案中，所有至少一个第一、第二、第三、第四、第五和第六前体喷嘴2、4、8、10、12、14在喷嘴头5的输出面11上具有相同的尺寸，或者至少一个第一和第二前体喷嘴2、4在喷嘴头5的输出面11上具有与至少一个第三和第四前体喷嘴8、10和/或第五和第六前体喷嘴12、14不同的尺寸。
图9示出了喷嘴头5的一个实施方案，喷嘴头具有设置到喷嘴头5的输出面11的三个不同的前体区A+B、C+D、E+F。输出面11具有长度L和宽度W。输出面11的长度L在喷嘴头5与基底1的相对移动方向H、M、S上延伸。输出面11的宽度W垂直于或横向于喷嘴头5与基底1的相对移动方向H、M、S延伸。不同的前体区A+B、C+D、E+F具有不同的形状或尺寸，并且因此它们在基底的表面3上产生不同的涂覆层，如图10和图11所示。第一前体区A+B形成大面积的第一涂覆层AB，并且第二前体区C+D在第一涂覆层AB的边缘上形成第二涂覆层CD，以及第三前体区E+F在第一涂覆层AB的中部形成第三涂覆层EF。应当注意的是，不同的前体区A+B、C+D、E+F中的全部或至少一个可以被布置成供应与其他前体区A+B、C+D、E+F不同的前体A、B、C、D、E、F。
此外，在前体喷嘴2、4、8、10、12、14的情况下，术语宽度意味着前体喷嘴2、4、8、10、12、14的纵向方向或纵向尺寸。类似地，在前体喷嘴2、4、8、10、12、14的情况下，术语长度意味着与前体喷嘴2、4、8、10、12、14的纵向方向或纵向尺寸垂直的方向。前体喷嘴2、4、8、10、12、14的纵向方向垂直于喷嘴头5和基底1的相对移动方向延伸。
根据图9，前体区A+B、C+D、E+F具有不同的尺寸或形状。前体区可以具有不同的宽度和/或不同的长度，宽度是垂直于基底1与喷嘴头5沿着基底的表面的相对移动的尺寸，长度是平行于基底1与喷嘴头5的相对移动的尺寸。如图9所示，第一前体区A+B基本上沿着输出面11的整个宽度W延伸，而第二前体区C+D和第三前体区E+F仅沿着输出面11的宽度W的一部分延伸。因此，第一前体区A+B的宽度与第二前体区C+D和第三前体区E+F在输出面11的宽度方向W上的宽度或形状不同，并且进一步地，第二前体区C+D在输出面11的宽度方向W上的宽度或形状与第三前体区E+F在输出面11的宽度方向W上的宽度或形状不同。因此，第一前体区A+B的面积可以大于或小于第二前体区C+D和/或第三前体区E+F的面积。因此，第一前体区A+B的第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4在输出面11的宽度W的方向上可以具有与第二前体区C+D的第三前体喷嘴8和第四前体喷嘴10和/或第三前体区E+F的第五前体喷嘴12和第六前体喷嘴14不同的宽度、纵向尺寸或形状。因此，第一前体区A+B的第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4可以基本上沿着输出面11的整个宽度W延伸，而第二前体区C+D和第三前体区E+F的第三前体喷嘴8、第四前体喷嘴10、第五前体喷嘴12和第六前体喷嘴14可以仅沿着输出面11的宽度W的一部分延伸。
在可替代的实施方案中，除了第一前体区A+B的宽度之外或者代替第一前体区的宽度，第一前体区的长度不同于第二前体区C+D和第三前体区E+F在输出面11的长度方向L上的长度或形状，并且进一步地，第二前体区C+D在输出面11的长度方向L上的长度或形状不同于第三前体区E+F在输出面11的长度方向L上的长度或形状。因此，第一前体区A+B的面积可以大于或小于第二前体区C+D和/或第三前体区E+F的面积。因此，与第二前体区C+D的第三前体喷嘴8和第四前体喷嘴10和/或第三前体区E+F的第五前体喷嘴12和第六前体喷嘴14相比，第一前体区A+B的第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4可具有不同的长度、垂直于纵向方向的尺寸或在输出面11的长度方向L上的形状。
如图9所示，前体区A+B、C+D、E+F也可以位于输出面11上的不同位置上。因此，不同位置的前体区A+B、C+D、E+F可以在基底1的表面3的不同位置上提供涂覆层AB、CD、EF。
喷嘴头的输出面11包括在输出面5的宽度W的方向上被布置在喷嘴头5的输出面11上的不同位置处的至少两个第二前体区C+D。第二前体区在宽度W的方向上的长度小于输出面的宽度W。如图9所示，第二前体区C+D被布置成在输出面5的宽度W的方向上在喷嘴头5的输出面11上彼此相邻或成直线。在该实施方案中，第二前体区的长度小于输出面11的宽度W的一半。
在可替代的实施方案中，前体区C+D、E+F可以在输出面5的宽度方向上被布置在喷嘴头5的输出面11上的不同位置处，以及在输出面5的长度L的方向上被布置在喷嘴头5的输出面11上的不同位置处。如图9所示，第二前体区C+D和第三前体区E+F在输出面5的宽度W的方向上被布置在输出面上在喷嘴头5的输出面11上的不同位置处并且在输出面5的长度L的方向上被布置在喷嘴头5的输出面11上的不同位置处。应当注意的是，也可以省却一个第二前体区C+D，或者一个第二前体区可以相对于另一个第二前体区C+D和第三前体区E+F在输出面5的长度L的方向上被布置在喷嘴头5的输出面11上的不同位置处。
第二前体区C+D或第二前体区和第三前体区可以被布置成在输出面5的长度L的方向上至少部分地重叠和/或在输出面5的宽度W的方向上至少部分地重叠。这意味着在宽度W的方向上的重叠区域上，前体区在宽度W的方向上至少部分地成直线，在极端的情况下它们相邻。在长度L的方向上的重叠区域上，前体区在长度L的方向上至少部分地成直线，在极端情况下，它们在长度方向L上是连续地，使得可以形成叠置的涂覆层。
图10示出了通过图9的喷嘴头5提供的涂覆层AB、CD和EF。涂覆层AB、CD和EF仅位于基底的表面3的有限子区域上并且通过喷嘴头5的前体区A+B、C+D和E+F使用喷嘴头5相对于基底的表面3的小的往复移动而提供。另一方面，图11示出了通过使喷嘴5在基底1的表面上方完全地移动而在基底1的表面3上提供的涂覆层AB、CD和EF。因此，在表面3的边缘部分处，提供有叠置的涂覆层AB+CD，并且在表面3的中间部分提供有叠置的涂覆层AB+EF。在表面3的边缘部分与中间部分之间，为仅具有第一涂覆层AB的区域。因此，可以通过改变设备和移动系统的操作模式来改变涂覆层AB、CD、EF的形成。
图12示出了根据本发明的一个实施方案的设备的可替代的实施方案，其中基底48通过具有基底移动装置的移动系统运送，其中基底48在输送滚筒47的外表面46上沿箭头方向K从第一基底辊43被运送到第二基底辊41。通过使输送滚筒47或外表面46上的独立输送元件以与输送基底48相同的速度旋转，可以沿着输送滚筒47的外表面46运送基底48。可替代地，输送滚筒47在外表面46上设置有滑动表面，使得基底48可以沿着外表面46滑动，同时通过使第一基底辊43和第二基底辊41旋转而执行移动基底48。设备进一步设置有与输送滚筒47连接布置的喷嘴头40。如上所述，喷嘴头40包括设置有第一前体喷嘴和第二前体喷嘴的输出面45。喷嘴头40的输出面45形成为符合圆柱形外表面46的一部分，如图5所示。喷嘴头40定位在基底48和外表面46的上方，使得在输出面45和外表面46、运送面之间存在间隙。
图12的设备包括移动系统，该移动系统具有用于使喷嘴头40相对于输送滚筒47和基底48移动的喷嘴头移动装置。移动机构被布置成使喷嘴头2围绕输送滚筒47的中心轴线42在第一端部位置与第二端部位置之间以往复移动或摆动移动的方式移动，如图5中箭头R所示。图5的设备可以以与图1至图3示出的设备相同的三种操作模式操作。因此，基底喷嘴头40相对于基底48可以是静止的，或者它可以围绕轴线42以往复移动或摆动移动的方式移动，并且可以如上所述引入来自第一前体喷嘴和第二前体喷嘴的第一前体和第二前体的供应。喷嘴头40可以设置有与结合图3至图11的上述实施方案所描述的不同的前体区。
图13和图14中示出了根据本发明的可替代的实施方案。喷嘴头50形成为可围绕旋转轴线旋转的圆柱体，并且前体区A+B、C+D、E+F被设置在喷嘴头50的外表面、输出面51上。在该实施方案中，基底1可以被设置成在喷嘴头50的外表面51上方或前方移动。喷嘴头50是圆柱形喷嘴头，并且基底1可以被布置成在喷嘴头50的圆柱形外表面51的至少一部分上方移动，前体通过喷嘴头50被引入。在图12中，前体区A+B、C+D、E+F具有相同的尺寸，并且在图13中，这些前体区具有不同的尺寸。图12和图13的实施方案的不同的前体区A+B、C+D、E+F中的全部或至少一个可以被布置成供应与其他前体区A+B、C+D、E+F不同的前体A、B、C、D、E、F。前体区的尺寸可以以与图9的实施方案相同的方式设置。
在图14中，喷嘴头50的输出面51具有宽度W和长度L，宽度横向于喷嘴头50与基底的相对移动方向延伸，宽度为圆柱体的长度，长度在喷嘴头50与基底的相对移动方向上延伸，并且长度是圆柱体的周长。输出面51包括在输出面51的宽度W的方向上被布置在输出面51上的不同的位置处的前体区C+D、E+F。四个第二前体区C+D在宽度方向上彼此相邻地布置，并且两个第三前体区E+F彼此相邻地布置。
第二前体区C+D在宽度W的方向上的长度小于输出面51的宽度W的四分之一。如图9所示，第二前体区C+D在输出面50的宽度W的方向上被布置成在喷嘴头50的输出面51上彼此相邻或成直线。第三前体区E+F在宽度W的方向上的长度小于输出面51的宽度W的一半。如图14所示，第三前体区E+F在输出面50的宽度W的方向上被布置成在喷嘴头50的输出面51上彼此相邻或成直线。
在可替代的实施方案中，前体区C+D、E+F在输出面5的宽度W的方向上可以被布置在喷嘴头50的输出面51上的不同位置处，以及在输出面50的长度L的方向上被布置在喷嘴头50的输出面51上的不同位置处。如图9所示，第二前体区C+D和第三前体区E+F在输出面50的宽度W的方向上被布置在输出面上且在喷嘴头50的输出面51上的不同位置处，以及在输出面50的长度L的方向上被布置在喷嘴头50的输出面51上的不同位置处。
第二前体区C+D，或者第二前体区和第三前体区可以被布置成在输出面5的长度L的方向上至少部分地叠置，和/或在输出面5的宽度W的方向上至少部分地重叠，如在图9的上下文中所描述的。
本发明进一步提供了用于根据原子层沉积原理，通过前体A、B、C、D、E、F的相继表面反应，在基底1、48的表面3上提供涂覆层AB、CD、EF的方法。在该方法中，使用根据本发明的设备和喷嘴，用于形成不同的涂覆层。该方法可以包括从设置在喷嘴头5的输出面11上的前体喷嘴2、4、8、10、12、14供应前体A、B、C、D、E、F，并且使喷嘴头5相对于基底1移动，用于使基底1的表面3经受至少第一前体和第二前体的相继表面反应。该方法进一步包括通过从设置到喷嘴头5的输出面11的一个或多个第一前体区A+B供应前体而在基底1的表面3上形成一个或多个第一涂覆层AB，并且通过从设置到喷嘴头5的输出面11的一个或多个第二前体区A+B供应前体而在基底1的表面3上形成一个或多个第二涂覆层CD，一个或多个第二涂覆层CD不同于一个或多个第一涂覆层AB。第一涂覆层AB和第二涂覆层CD的差异可以是第一涂覆层AB和第二涂覆层CD的不同材料和/或不同的形状或尺寸。
该方法可以包括经由设置到喷嘴头5的输出面11的一个或多个第一前体区A+B向基底1的表面3供应至少第一前体A和第二前体B，以在基底1的表面3上形成第一涂覆层AB，并且经由设置到喷嘴头5的输出面11的一个或多个第二前体区C+D向基底1的表面3供应至少第三前体C和第四前体D，以在基底1的表面3上形成第二涂覆层CD，第二涂覆层CD与第一涂覆层AB的材料不同。
在一个实施方案中，该方法包括从至少一个第一前体喷嘴2供应第一前体A，并且从至少一个第二前体喷嘴4供应第二前体B，用于使基底1的表面3经受第一前体A和第二前体B的相继表面反应，并且在基底1的表面3上形成第一涂覆层AB，至少一个第一和第二前体喷嘴2、4被设置到第一前体区A+B，并且从至少一个第三前体喷嘴8供应第三前体C以及从至少一个第四前体喷嘴10供应第四前体D，用于使基底1的表面3经受第三前体C和第四前体D的相继表面反应，并且在基底1的表面3上形成第二涂覆层CD，至少一个第三和第四前体喷嘴8、10被设置到第二前体区A+B。第一前体A、第二前体B、第三前体C和第四前体D是不同的前体，或者可替代地，第一前体A和第三前体C是不同的前体，并且第二前体B和第四前体D是相同的前体并且与第一前体A和第三前体C不同。
在一个实施方案中，该方法包括通过分别同步地从前体喷嘴2、4、8、10、12、14供应前体A、B、C、D、E、F，并且同时使喷嘴头5相对于基底1移动而在基底1的表面3的一个或多个第一有限子区域30上提供一个或多个涂覆层AB、CD，并且留下没有涂覆层的一个或多个第二有限子区域。这可以通过使喷嘴头5移动而使得一个或多个第一前体区A+B的至少一个第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4在基底1的表面3上方的移动仅在基底1的表面3的第一有限子区域30上重叠以在第一有限子区域30上提供一个或多个涂覆层AB来实现。可替代地，其通过使喷嘴头5移动而使得一个或多个第二前体区C+D的第三前体喷嘴8和第四前体喷嘴10在基底1的表面3上方的移动仅在基底1的表面3的第一有限子区域30上重叠以在第一有限子区域30上提供一个或多个涂覆层CD来实现。这可以通过使喷嘴头5移动而使得一个或多个第一前体区A+B的第一前体喷嘴2和第二前体喷嘴4以及一个或多个第二前体区C+D的第三前体喷嘴8和第四前体喷嘴10分别在基底1的表面上方的移动仅在基底1的表面3的第一有限子区域30上重叠以在第一有限子区域30上提供一个或多个涂覆层AB、CD来进一步实现。
对于本领域技术人员显而易见的是，随着技术的进步，本发明的概念可以以各种方式实施。本发明及其实施方案不限于上述实施例，而是可以在权利要求的范围内变化。

Claims (30)

1.一种喷嘴头(5、40、50)，用于根据原子层沉积的原理，通过使基底(1、48)的表面(3)经受至少两种前体(A、B；C、D；E、F)的相继表面反应而在所述基底(1、48)的所述表面(3)上提供涂覆，所述喷嘴头(5、40、50)被布置成在移动方向上相对于所述基底(1、48)移动，所述喷嘴头(5、40、50)包括：
-输出面(11、45、51)，所述至少两种前体(A、B；C、D；E、F)经由所述输出面被供应到所述基底(1、48)的所述表面(3)，所述输出面(11、45、51)具有宽度(W)和长度(L)，所述宽度横向于所述喷嘴头(5、40、50)和所述基底(1、48)的相对移动方向延伸，所述长度在所述喷嘴头(5、40、50)和所述基底(1、48)的相对移动方向上延伸；以及
-两个或更多个前体区(A+B、C+D、E+F)，所述两个或更多个前体区被设置到所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)，并且被布置成将至少两种前体(A、B、C、D、E、F)供应到所述基底(1、48)的所述表面(3)，以在所述基底(1、48)的所述表面(3)上形成第一涂覆层(AB、CD、EF)，
其特征在于，前体区(A+B、C+D、E+F)中的至少两个前体区在所述宽度(W)的方向上的长度小于所述输出面(11、45、51)的宽度(W)，并且在所述输出面(5、40、50)的宽度(W)的方向上被布置成在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上的不同位置处。
2.根据权利要求1所述的喷嘴头(5、40、50)，其特征在于，前体区(A+B、C+D、E+F)中的至少两个前体区在所述宽度(W)的方向上的长度小于所述输出面(11、45、51)的宽度(W)的方向，并且在所述输出面(5、40、50)的宽度(W)的方向上被布置成在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上彼此相邻或成直线。
3.根据权利要求1所述的喷嘴头(5、40、50)，其特征在于，前体区(A+B、C+D、E+F)中的至少两个前体区在所述宽度(W)的方向上的长度小于所述输出面(11、45、51)的宽度(W)，并且在所述输出面(5、40、50)的宽度(W)的方向上被布置在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上的不同位置处并且在所述输出面(5、40、50)的长度(L)的方向上被布置在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上的不同位置处。
4.根据权利要求3所述的喷嘴头(5、40、50)，其特征在于，前体区(A+B、C+D、E+F)中的至少两个前体区被布置成在所述输出面(5、40、50)的长度(L)的方向上至少部分地重叠。
5.根据权利要求1所述的喷嘴头(5、40、50)，其特征在于，所述喷嘴头包括：
-一、两个或更多个第一前体区(A+B)，被设置到所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)，并且被布置成将至少两种前体(A、B)供应到所述基底(1、48)的所述表面(3)以在所述基底(1、48)的所述表面(3)上形成第一涂覆层(AB)；以及
-一个或多个第二前体区(C+D)，被设置到所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)，并且被布置成将至少两种前体(A、B、C、D、E、F)供应到所述基底(1)的所述表面(3)以在所述基底(1)的所述表面(3)上形成第二涂覆层(CD)，所述第二涂覆层(CD)不同于所述第一涂覆层(AB)。
6.根据权利要求5所述的喷嘴头(5、40、50)，其特征在于，所述喷嘴头(5、40、50)包括：
-一个或多个第一前体区(A+B)，被设置到所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11)，并且被布置成将至少第一前体(A)和第二前体(B)供应到所述基底(1、48)的所述表面(3)以在所述基底(1、48)的所述表面(3)上形成第一涂覆层(AB)；以及
-一个或多个第二前体区(C+D)，被设置到所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)，并且被布置成将至少第三前体(C)和第四前体(D)供应到所述基底(1)的所述表面(3)以在所述基底(1)的所述表面(3)上形成第二涂覆层(CD)。
7.根据权利要求6所述的喷嘴头(5、40、50)，其特征在于，所述第一前体区(A+B)包括至少一个第一前体喷嘴(2)和至少一个第二前体喷嘴(4)，用于使所述基底(1、48)的所述表面(3)经受所述第一前体(A)和所述第二前体(B)的相继表面反应以在所述基底(1、48)的所述表面(3)上形成第一涂覆层(AB)，并且所述第二前体区(C+D)包括至少一个第三前体喷嘴(8)和至少一个第四前体喷嘴(10)，用于使所述基底(1、48)的所述表面(3)经受所述第三前体(C)和所述第四前体(D)的相继表面反应以在所述基底(1)的所述表面(3)上形成第二涂覆层(CD)。
8.根据权利要求1至7中的任一项所述的喷嘴头(5、40、50)，其特征在于，所述喷嘴头(5、40、50)包括：
-在相邻的前体区(A+B、C+D、E+F)之间被设置到所述输出面(11)的至少一个排放喷嘴(7)，用于排放前体；或者
-在所述第一前体区(A+B)与所述第二前体区(C+D)之间被设置到所述输出面(11)的至少一个排放喷嘴(7)，用于排放前体。
9.根据权利要求1至8中的任一项所述的喷嘴头(5、40、50)，其特征在于，所述喷嘴头(5、40、50)包括：
-在相邻的前体区(A+B、C+D；E+F)之间被设置到所述输出面(11、45、51)的至少一个吹扫气体喷嘴(9)，用于供应吹扫气体；或者
-在所述第一前体区(A+B)与所述第二前体区(C+D)之间被设置到所述输出面(11、45、51)的至少一个吹扫气体喷嘴(9)，用于供应吹扫气体。
10.根据权利要求1至9中的任一项所述的喷嘴头(5、40、50)，其特征在于：
-所述一个或多个第一前体区(A+B)包括被设置到所述输出面(11、45、51)并且在所述第一前体喷嘴与所述第二前体喷嘴(2、4)之间的至少一个排放喷嘴(7)；或者
-所述一个或多个第二前体区(C+D)包括被设置到所述输出面(11、45、51)并且在第三前体喷嘴与第四前体喷嘴(2、4)之间的至少一个排放喷嘴(7)；或者
-所述一个或多个第一前体区(A+B)包括被设置到所述输出面(11、45、51)且在所述第一前体喷嘴与所述第二前体喷嘴(2、4)之间的至少一个排放喷嘴(7)，并且一个或多个第二前体区(C+D)包括被设置到所述输出面(11、45、51)且在所述第三前体喷嘴与所述第四前体喷嘴(2、4)之间的至少一个排放喷嘴(7)。
11.根据权利要求1至10中的任一项所述的喷嘴头(5、40、50)，其特征在于：
-所述一个或多个第一前体区(A+B)包括被设置到所述输出面(11、45、51)并且在所述第一前体喷嘴与所述第二前体喷嘴(2、4)之间的至少一个吹扫气体喷嘴(9)；或者
-所述一个或多个第二前体区(C+D)包括被设置到所述输出面(11、45、51)并且在所述第三前体喷嘴与所述第四前体喷嘴(8、10)之间的至少一个吹扫气体喷嘴(9)；或者
-所述一个或多个第一前体区(A+B)包括被设置到所述输出面(11、45、51)且在所述第一前体喷嘴与所述第二前体喷嘴(2、4)之间的至少一个吹扫气体喷嘴(9)，并且一个或多个第二前体区(C+D)包括被设置到所述输出面(11、45、51)且在所述第三前体喷嘴与所述第四前体喷嘴(2、4)之间的至少一个吹扫气体喷嘴(9)。
12.根据权利要求5至11中的任一项所述的喷嘴头(5、40、50)，其特征在于，所述至少一个第一前体喷嘴(2)和所述至少一个第二前体喷嘴(4)被布置成分别供应第一前体和第二前体(A、B)，并且所述至少一个第三前体喷嘴(8)和所述至少一个第四前体喷嘴(10)被布置成分别供应第三前体和第四前体(C、D)，其中：
-所述第一前体、所述第二前体、所述第三前体和所述第四前体(A、B、C、D)是不同的前体；或者
-所述第一前体和所述第三前体(A、C)是不同的前体，并且所述第二前体和所述第四前体(B、D)是相同的前体且不同于所述第一前体和所述第三前体(A、C)。
13.根据权利要求1至12中的任一项所述的喷嘴头(5、40、50)，其特征在于：
-所述一个或多个第一前体区(A+B)中的全部在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上具有相同的尺寸；
-所述一个或多个第二前体区(C+D)中的全部在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上具有相同的尺寸；
-所述第一前体区(A+B)中的至少两个在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上具有不同的尺寸；或者
-所述第二前体区(C+D)中的至少两个在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上具有不同的尺寸。
14.根据权利要求13所述的喷嘴头(5、40、50)，其特征在于：
-所述第一前体区和所述第二前体区(A+B、C+D、E+F)中的全部在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上具有相同的尺寸；
-所述一个或多个第二前体区(C+D)在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上具有与所述一个或多个第一前体区(A+B)不同的尺寸；
-所述一个或多个第二前体区(C+D)中的至少一个在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上具有与所述一个或多个第一前体区(A+B)不同的尺寸。
15.根据权利要求5至12中的任一项所述的喷嘴头(5、40、50)，其特征在于：
-所述第一前体区(A+B)的所述至少一个第一和第二前体喷嘴(2、4)中的全部在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上具有相同的尺寸；
-所述第二前体区(C+D)的所述至少一个第三和第四前体喷嘴(8、10)中的全部在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上具有相同的尺寸；
-所述第一前体区(A+B)的所述至少一个第一和第二前体喷嘴(2、4)中的至少两个在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上在所述输出面(11)的所述宽度(W)的方向上具有不同的尺寸；或者
-所述第二前体区(C+D)的所述至少一个第三和第四前体喷嘴(8、10)中的至少两个在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上在所述输出面(11)的所述宽度(W)的方向上具有不同的尺寸。
16.根据权利要求15所述的喷嘴头(5、40、50)，其特征在于，所述喷嘴头(5)的所述输出面(11)具有宽度(W)和长度(L)，并且所述前体喷嘴(2、4、8、10、12、14)具有在所述输出面(11)的所述宽度(W)的方向上的纵向方向，并且
-所述至少一个第一、第二、第三和第四前体喷嘴(2、4、8、10)中的全部在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)的所述宽度(W)的方向上具有相同的纵向尺寸；或者
-所述至少一个第一和第二前体喷嘴(2、4)在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)的所述宽度(W)的方向上具有与所述至少一个第三和第四前体喷嘴(8、10)不同的纵向尺寸。
17.一种用于涂覆工艺的设备，其中，根据原子层沉积的原理，通过至少两种前体(A、B、C、D、E、F)的相继表面反应而在基底(1、48)的表面(3)上提供涂覆层(AB、CD、EF)，所述设备包括：
-喷嘴头(5、40、50)，所述喷嘴头具有设置有前体区(A+B、C+D、E+F)的输出面(11、45、51)，所述前体区被布置成将所述至少两种前体(A、B；C、D；E、F)供应到所述基底(1)的所述表面(3)以在所述基底(1)的所述表面(3)上提供涂覆层(AB、CD、EF)；
-前体供应系统(20、21、22、23、24、25、26、27、28、29)，用于将所述至少两种前体(A、B；C、D、E、F)配给到所述喷嘴头(5、40、50)和前体喷嘴(2、4、8、10、12、14)；以及
-移动系统(H、M、S)，用于使所述喷嘴头(5、40、50)相对于所述基底(1、48)沿相对移动方向移动，以使所述基底(1、48)的所述表面(3)经受所述至少两种前体(A、B；C、D、E、F)的相继表面反应，
所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)具有宽度(W)和长度(L)，所述宽度横向于所述喷嘴头(5、40、50)和所述基底(1、48)的相对移动方向延伸，所述长度在所述喷嘴头(5、40、50)和所述基底(1、48)的相对移动方向上延伸；
其特征在于，所述输出面(5、40、50)包括至少两个前体区(A+B、C+D、E+F)，所述至少两个前体区在所述输出面(5、40、50)的所述宽度(W)的方向上被布置在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上的不同位置处。
18.根据权利要求17所述的设备，其特征在于，所述前体区(A+B、C+D、E+F)中的至少两个在所述输出面(5、40、50)的所述宽度(W)的方向上被布置成在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上彼此相邻或成直线。
19.根据权利要求17所述的喷嘴头(5、40、50)，其特征在于，所述前体区(A+B、C+D、E+F)中的至少两个在所述输出面(5、40、50)的所述宽度(W)的方向上被布置在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上的不同位置处并且在所述输出面(5、40、50)的所述长度(L)的方向上被布置在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上的不同位置处。
20.根据权利要求17所述的喷嘴头(5、40、50)，其特征在于：
-所述前体区(A+B、C+D、E+F)中的至少两个被布置成在所述输出面(5、40、50)的长度(L)的方向上至少部分地重叠；或者
-所述前体区(A+B、C+D、E+F)中的至少两个被布置成在所述输出面(5、40、50)的宽度(W)的方向上至少部分地重叠；或者
-所述前体区(A+B、C+D、E+F)中的至少两个被布置成在所述输出面(5、40、50)的长度(L)的方向和宽度(W)的方向上至少部分地重叠。
21.根据权利要求17至20中的任一项所述的设备，其特征在于，所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)包括至少两个不同的前体区(A+B、C+D、E+F)，所述至少两个不同的前体区(A+B、C+D、E+F)被布置成在所述基底(1)的所述表面(3)上提供不同的涂覆层(AB、CD、EF)。
22.根据权利要求21所述的设备，其特征在于，所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)包括：
-一个或多个第一前体区(A+B)，被设置到所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)，被布置成供应至少第一前体(A)和第二前体(B)以在所述基底(1、48)的所述表面(3)上形成第一涂覆层(AB)；以及
-一个或多个第二前体区(C+D)，被设置到所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)，被布置成将至少第三前体(C)和第四前体(D)供应到所述基底(1)的所述表面(3)以在所述基底(1)的所述表面(3)上形成第二涂覆层(CD)，所述第二涂覆层(CD)为与所述第一涂覆层(AB)不同材料的。
23.根据权利要求21或22所述的设备，其特征在于，所述第一前体区(A+B)包括至少一个第一前体喷嘴(2)和至少一个第二前体喷嘴(4)，用于使所述基底(1、48)的所述表面(3)经受所述第一前体(A)和所述第二前体(B)的相继表面反应，以在所述基底(1、48)的所述表面(3)上形成第一涂覆层(AB)，并且所述第二前体区(C+D)包括至少一个第三前体喷嘴(8)和至少一个第四前体喷嘴(10)，用于使所述基底(1、48)的所述表面(3)经受所述第三前体(C)和所述第四前体(D)的相继表面反应，以在所述基底(1)的所述表面(3)上形成第二涂覆层(CD)。
24.根据权利要求23所述的设备，其特征在于，所述至少一个第一前体喷嘴(2)和所述至少一个第二前体喷嘴(4)被布置成分别供应第一前体和第二前体(A、B)，并且所述至少一个第三前体喷嘴(8)和所述至少一个第四前体喷嘴(10)被布置成分别供应第三前体和第四前体(C、D)，其中：
-所述第一前体、所述第二前体、所述第三前体和所述第四前体(A、B、C、D)是不同的前体；或者
-所述第一前体和所述第三前体(A、C)是不同的前体，并且所述第二前体和所述第四前体(B、D)是相同的前体且不同于所述第一前体和所述第三前体(A、C)。
25.根据权利要求21至24中的任一项所述的设备，其特征在于，至少两个前体区(A+B、C+D、E+F)在所述喷嘴头(5、40、50)的输出面(11、45、51)上具有不同的尺寸，用于分别在所述基底(1)的所述表面(3)上提供具有不同尺寸的涂覆层(AB、CD、EF)。
26.根据权利要求21至25中的任一项所述的设备，其特征在于，所述喷嘴头(5)的所述输出面(11、45、51)具有宽度(W)和长度(L)，所述宽度(W)是垂直于所述基底(1)和所述喷嘴头(5、40、50)的相对移动方向的尺寸，并且所述长度(L)是平行于所述基底(1)和所述喷嘴头(5、40、50)的相对移动方向的尺寸，并且：
-所述一个或多个第一前体区(A+B)中的全部在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上具有相同的尺寸；
-所述一个或多个第二前体区(C+D)中的全部在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上具有相同的尺寸；
-所述第一前体区(A+B)中的至少两个在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上在所述输出面(11、45、51)的宽度(W)的方向上具有不同的尺寸；
-所述第二前体区(C+D)中的至少两个在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上在所述输出面(11、45、51)的宽度(W)的方向上具有不同的尺寸；
-所述第一和第二前体区(A+B、C+D、E+F)中的全部在所述所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上具有相同的尺寸；
-所述一个或多个第二前体区(C+D)在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上在所述输出面(11)的宽度(W)的方向上具有与所述一个或多个第一前体区(A+B)不同的尺寸；
-所述一个或多个第二前体区(C+D)中的至少一个在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上在所述输出面(11)的宽度的方向上具有与所述一个或多个第一前体区(A+B)不同的尺寸。
27.根据权利要求21至26中的任一项所述的设备，其特征在于，所述喷嘴头(5)的所述输出面(11)具有宽度(W)和长度(L)，并且所述前体喷嘴(2、4、8、10、12、14)具有在所述输出面(11)的宽度方向上的纵向方向，并且：
-所述第一前体区(A+B)的所述至少一个第一和第二前体喷嘴(2、4)中的全部在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上具有相同的尺寸；
-所述第二前体区(C+D)的所述至少一个第三和第四前体喷嘴(8、10)中的全部在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上具有相同的纵向尺寸；
-所述第一前体区(A+B)的所述至少一个第一和第二前体喷嘴(2、4)中的至少两个在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上具有不同的纵向尺寸；
-所述第二前体区(C+D)的所述至少一个第三和第四前体喷嘴(8、10)中的至少两个在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上具有不同的纵向尺寸；
-所述至少一个第一、第二、第三和第四前体喷嘴(2、4、8、10)中的全部在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上具有相同的纵向尺寸；或者
-所述至少一个第一和第二前体喷嘴(2、4)在所述喷嘴头(5、40、50)的所述输出面(11、45、51)上具有与所述至少一个第三和第四前体喷嘴(8、10)不同的纵向尺寸。
28.根据权利要求21至27中的任一项所述的设备，其特征在于，所述设备还包括用于控制涂覆工艺的控制系统(80)，所述控制系统(80)被布置成控制所述前体供应系统(20、21、22、23、24、25、26、27、28、29)和所述移动系统(H、M、S)协同操作，以通过分别从前体喷嘴(2、4、8、10、12、14)同步地供应前体(A、B、C、D、E、F)并且同时使喷嘴头(5、40、50)相对于基底(1、48)移动，而在所述基底(1、48)的所述表面(3)的一个或多个第一有限子区域(30)上提供一个或多个涂覆层(AB、CD、EF)，并且留下没有涂覆层的一个或多个第二有限子区域。
29.根据权利要求28所述的设备，其特征在于，所述控制系统(80)被布置成通过控制所述移动系统(H、M、S)而使所述喷嘴头(5、40、50)相对于所述基底(1、48)移动，使得：
-所述第一前体喷嘴(2)和所述第二前体喷嘴(4)在所述基底(1、48)的表面(3)上方的移动仅在所述基底(1、48)的所述表面(3)的所述第一有限子区域(30)上重叠，以在所述第一有限子区域(30)上提供一个或多个涂覆层(AB)；或者
-所述第三前体喷嘴(8)和所述第四前体喷嘴(10)在所述基底(1、48)的表面(3)上方的移动仅在所述基底(1、48)的所述表面(3)的所述第一有限子区域(30)上重叠，以在所述第一有限子区域(30)上提供一个或多个涂覆层(CD)；或者
-所述第一前体喷嘴(2)和所述第二前体喷嘴(4)以及所述第三前体喷嘴(8)和所述第四前体喷嘴(10)各自在所述基底(1、48)的所述表面(3)上方的移动仅在所述基底(1、48)的所述表面(3)的所述第一有限子区域(30)上重叠，以在所述第一有限子区域(30)上提供一个或多个涂覆层(AB、CD)。
30.根据权利要求28或29所述的设备，其特征在于，所述控制系统(80)被布置成：
-使所述喷嘴头(5、40、50)在所述基底(1、48)的所述表面(3)的上方相对于所述基底(1、48)在第一相对位置(X)与第二相对位置(Y)之间以往复移动的方式移动；或者
-使所述喷嘴头(5、40、50)在所述基底(1、48)的所述表面(3)的上方相对于所述基底(1、48)沿着弯曲的或环形的涂覆路径移动。
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