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CN106842700B - 一种液晶显示模组 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例公开了一种液晶显示模组。该液晶显示模组包括：位于显示区中部的第一区域，围绕第一区域的第二区域，第二区域的内边缘与第一区域边缘重合，显示区边缘与第二区域的外边缘重合或位于第二区域的外边缘内；液晶显示模组包括阵列基板和背光模组，阵列基板包括基板和设置于基板一侧的目标膜层，目标膜层与光的干涉强相关；背光模组位于阵列基板远离目标膜层的一侧，背光模组包括蓝光背光源和设置于蓝光背光源与阵列基板之间的量子点色彩增强膜；目标膜层包括位于第一区域内的第一目标膜层，以及位于第二区域内的第二目标膜层，第二目标膜层的厚度不同于第一目标膜层的厚度。本发明实施例改善了液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。

Description

一种液晶显示模组
技术领域
本发明实施例涉及液晶显示技术，尤其涉及一种液晶显示模组。
背景技术
量子点色彩增强膜(Quantum Dot Enhancement Film，QDEF)是一种在一定波长的光激发下可以发射出其它波长的光的纳米粒子膜层。QDEF具有高的发光效率和高色域等优点，已经被应用于高色域背光模组中。例如，蓝光发光二极管搭配吸收蓝光并放射出白光的QDEF，该QDEF包括能够放射不同颜色的光的量子点，背光模组发出的白光是由各种量子点放射的不同颜色的光混合而成的。
然而，由于切割QDEF导致QDEF边缘处的部分量子点失效，不能正常吸收蓝光而放射其它颜色的光线，进而使得背光模组的边缘处发出的光偏蓝，导致液晶显示模组显示区的边缘部分出现偏蓝现象，并且距离液晶显示模组中部越远，偏蓝现象越明显。
发明内容
本发明提供一种液晶显示模组，以改善液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。
本发明实施例提供了一种液晶显示模组，包括：位于显示区中部的第一区域，围绕所述第一区域的第二区域，所述第二区域的内边缘与所述第一区域边缘重合，所述显示区边缘与所述第二区域的外边缘重合或位于所述第二区域的外边缘内；
所述液晶显示模组包括阵列基板和背光模组，所述阵列基板包括基板和设置于所述基板一侧的目标膜层，所述目标膜层与光的干涉强相关；
所述背光模组位于所述阵列基板远离所述目标膜层的一侧，所述背光模组包括蓝光背光源和设置于所述蓝光背光源与所述阵列基板之间的量子点色彩增强膜；
所述目标膜层包括位于所述第一区域内的第一目标膜层，以及位于所述第二区域内的第二目标膜层，所述第二目标膜层的厚度不同于所述第一目标膜层的厚度。
本发明实施例根据液晶显示模组显示区边缘偏蓝情况，将液晶显示模组至少划分为位于显示区中部的第一区域和围绕第一区域的第二区域，液晶显示模组显示区边缘偏蓝区域与第二区域交叠；在阵列基板上设置与光的干涉强相关的目标膜层，且使目标膜层中位于第一区域内的第一目标膜层的厚度，不同于位于第二区域内的第二目标膜层的厚度，利用不同厚度的目标膜层对光的干涉不同，来减弱第二区域内的蓝光分量，以改善液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。
附图说明
图1a为本发明实施例提供的一种液晶显示模组的平面示意图；
图1b为沿图1a中A-A的剖面结构示意图；
图1c为沿图1a中A-A的另一种剖面结构示意图；
图2为本发明实施例提供的阵列基板的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的液晶显示模组的平面示意图；
图5为对图4中的液晶显示模组的显示色度的仿真图；
图6为固定目标膜层厚度时对液晶显示模组的显示色度的进行测试时的示意图；
图7为固定目标膜层厚度时对液晶显示模组的显示色度的测试图；
图8为调整间隔绝缘层中氮化硅层厚度时对液晶显示模组的显示色度的仿真图；
图9为调整间隔绝缘层中氮化硅层厚度时对液晶显示模组的显示色度的仿真图；
图10为调整栅极绝缘层中氧化硅层厚度时对液晶显示模组的显示色度的仿真图；
图11a-11d为本发明实施例提供的制作缓冲层各步骤对应结构的剖面图；
图12为本发明实施例提供的另一种液晶显示模组的平面示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
请参考图1a至图1c，图1a为本发明实施例提供的一种液晶显示模组的平面示意图，图1b为沿图1a中A-A的剖面结构示意图，图1c为沿图1a中A-A的另一种剖面结构示意图。如图1a所示，该液晶显示模组100包括：位于显示区X中部的第一区域Y，围绕第一区域Y的第二区域Z，第二区域Z的内边缘与第一区域Y边缘重合，显示区X边缘与第二区域Z的外边缘重合或位于第二区域Z的外边缘内。
如图1b所示，液晶显示模组包括阵列基板2和背光模组1，其中，阵列基板2包括基板21和设置于基板21一侧的目标膜层22，目标膜层22与光的干涉强相关；其中，目标膜层22与光的干涉强相关是指目标膜层22的厚度对光的干涉的影响很大，例如目标膜层22的厚度发生几百纳米的变化，可以使透过目标膜层22的光从相长干涉变成相消干涉。而氮化硅和氧化硅与光的干涉强相关，因此，可以利用阵列基板2上包含氮化硅和/或氧化硅的已有膜层作为目标膜层，以不额外增加液晶显示模组的厚度，例如，目标膜层22可以包括缓冲层、栅极绝缘层和间隔绝缘层中的至少一种。
上述背光模组1位于阵列基板2远离目标膜层22的一侧，背光模组1包括蓝光背光源11和设置于蓝光背光源11与阵列基板2之间的量子点色彩增强膜12；该蓝光背光源11采用蓝光发光二极管作为光源，量子点色彩增强膜12包括能够放射不同颜色的光的量子点，可在蓝光的激发下发射出由各种量子点发射的不同颜色的光混合而成的白光。
本实施例中，目标膜层22包括位于第一区域Y内的第一目标膜层221，以及位于第二区域Z内的第二目标膜层222，其中，第二目标膜层222的厚度不同于第一目标膜层221的厚度。需要说明的是，图1b和图1c仅示例性地示出了第二目标膜层222的厚度不同于第一目标膜层221的厚度，第一目标膜层221和第二目标膜层222的厚度的设定应当可以改善液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。
示例性的，在用户正视观察液晶显示模组时，对于不同厚度的目标膜层，不同波长的光会产生相长干涉或者相消干涉，当光的干涉情况改变时，液晶显示模组的显示色度也会产生差异。因此，可利用光的干涉，结合目标膜层的厚度和光波长的关系，得到可以改善液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题的目标膜层的厚度。
可选的，可以增加第二区域的绿光分量，以相对减少蓝光分量；或者直接减少第二区域的蓝光分量，由此，可以在现有液晶显示模组的基础上，只改变第二目标膜层的厚度，使液晶显示模组显示区边缘偏蓝量减少甚至降为零，该第二目标膜层可包括缓冲层、栅极绝缘层和间隔绝缘层中的任一种。
具体的，在一束光进入第二目标膜层后，经过第二目标膜层的多次反射，可平行出射多束光，其中，相邻两束光的光程差可以表示为：
ΔL＝2×d×n1； (1)
其中，d为第二目标膜层的厚度，n1为第二目标膜层的折射率。
若通过增加绿光分量来减少液晶显示模组显示区边缘偏蓝量，可以使通过第二目标膜层的绿光分量相长干涉，此时，上述相邻两束光的光程差应当满足以下关系式：
ΔL＝m×λ； (2)
其中，m为正整数，λ为第二区域的绿光分量的波长。
由此，根据式(1)和式(2)可以得到第二目标膜层的厚度为：
Figure BDA0001206387620000051
其中，m为正整数，λ为第二区域的绿光分量的波长，n1为第二目标膜层的折射率。
另外，若通过减少蓝光分量来减少液晶显示模组显示区边缘偏蓝量，可以使通过第二目标膜层的蓝光分量相消干涉，此时，上述相邻两束光的光程差应当满足以下关系式：
ΔL＝(2m+1)×λ/2； (4)
其中，m为正整数，λ为第二区域的蓝光分量的波长。
由此，根据式(1)和式(4)可以得到第二目标膜层的厚度为：
Figure BDA0001206387620000061
其中，m为正整数，λ为第二区域的蓝光分量的波长，n1为第二目标膜层的折射率。
上述方案中，选取绿光波段500至560nm代入式(3)，可得到使绿光分量相长干涉的目标膜层的厚度范围，因此，将第二目标膜层的厚度设置在该厚度范围内，可以使量子点色彩增强膜边缘出射的绿光分量，经过阵列基板的第二目标膜层时发生相长干涉，而蓝光波段可为420至480nm，上述厚度范围无法满足蓝光分量发生相长干涉的条件，从而使得从第二目标膜层出射的该部分绿光分量相对蓝光分量增强得多，进而减弱液晶显示模组显示区内第二区域的显示偏蓝现象。
另外，选取蓝光波段420至480nm代入式(5)，可得到使蓝光分量相消干涉的目标膜层的厚度范围，因此，将第二目标膜层的厚度设置在该厚度范围内，可以使量子点色彩增强膜边缘出射的蓝光分量，经过阵列基板的第二目标膜层时发生相消干涉，由此，可以直接使得从第二目标膜层出射的该部分蓝光分量减弱，进而减弱液晶显示模组显示区内第二区域的显示偏蓝现象。
本实施例中，量子点色彩增强膜12包括周边区域，周边区域的显示色度偏蓝；上述图1b示出了显示区X边缘与第二区域Z的外边缘重合时的液晶显示模组的剖面结构示意图，此时，第二区域Z与位于显示区X内的周边区域，在阵列基板2上的垂直投影重合。图1c则示出了显示区X边缘位于第二区域Z的外边缘内时的液晶显示模组的剖面结构示意图。需要说明的是，虽然图1b和图1c的部分区域(非显示区)的基板21上未示有膜层，但本领域人员应当清楚，该部分区域的基板21上可以与显示区同时生成有相同的膜层，当然可包括上述目标膜层，但对此处目标膜层的厚度不作限制。
另外，本发明目标膜层的厚度还可由目标膜层的厚度与显示色度的预设对应关系确定，可同时改变第一目标膜层和第二目标膜层的厚度，来改善液晶显示模组显示区内第二区域相对于第一区域的显示偏蓝现象。
可选的，上述目标膜层的厚度与显示色度的预设对应关系，可以通过设置不同厚度的目标膜层仿真液晶显示模组显示色度变化的仿真图确定。
图2为本发明实施例提供的阵列基板的结构示意图。如图2所示，该阵列基板可包括：基板21，形成于基板21上的薄膜晶体管25。
如图2所示，该薄膜晶体管25可以为非晶硅(amorphous silicon，A-Si)薄膜晶体管结构，包括栅极251、栅极绝缘层252、有源层253、源极254和漏极255。薄膜晶体管25可以为底栅结构，也可以为顶栅结构。示例性的，在图2中，薄膜晶体管25为底栅结构，栅极251形成在基板21上，栅极绝缘层252形成在栅极251上，并覆盖栅极251，有源层253形成在栅极绝缘层252远离基板21的一侧，并位于栅极251上方，栅极绝缘层252使栅极251与有源层253绝缘。源极254和漏极255形成在有源层253上。源极254和漏极255彼此隔开，并且可以通过充当沟道的有源层253彼此电连接。该阵列基板还包括形成于栅极绝缘层252远离基板21的一侧，并与漏极255电连接的像素电极27，以及形成在整个阵列基板上的平坦化层26。
可选的，图3为本发明实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图。如图3所示，该阵列基板可包括：基板21，形成于基板21上的缓冲层23，形成于缓冲层23远离基板21一侧的薄膜晶体管25。
如图3所示，该薄膜晶体管可以为低温多晶硅(Low Temperature Poly-Silicon，LTPS)薄膜晶体管结构，包括形成于所述缓冲层23远离基板21一侧的有源层253，覆盖有源层253及缓冲层23的栅极绝缘层252，形成于栅极绝缘层252远离所述基板21一侧的栅极251，覆盖栅极251及栅极绝缘层252的间隔绝缘层256，以及形成于间隔绝缘层256远离基板21一侧的源极254和漏极255，且源极254和漏极255分别通过过孔电连接至有源层253。该阵列基板还包括覆盖源极254、漏极255及间隔绝缘层256的第一钝化层24，形成于第一钝化层24远离基板21一侧的公共电极28，覆盖公共电极28及第一钝化层24的第二钝化层29，以及形成于第二钝化层29远离基板21一侧的像素电极27，且像素电极27通过过孔电连接至漏极255。
本实施例可以先对任一现有的液晶显示模组显示区边缘相对于显示区中部的偏蓝值进行测试或者仿真。示例性的，蓝光背光源包括直下式背光源或侧入式背光源；可选的，如图4所示，蓝光背光源包括侧入式背光源，即蓝光发光二极管111设置于背光模组的下侧。需要说明的是，上述的“下侧”仅为附图4中的下侧，在其他的实施例中，侧入式背光源是指背光模组的侧边，并不局限于下侧。从图5对图4中的液晶显示模组100的显示色度的仿真图可以看出，液晶显示模组100的显示区X边缘相对于中部偏蓝，最大偏蓝值约为(-0.012，-0.025)。具体的，显示区X左、右和上三侧边的显示色度渐变到距对应侧边2.2mm处，色坐标或者色度值(Wx，Wy)达到稳定状态；下侧边显示色度的Wx值渐变到距下侧边3.6mm处达到稳定状态，Wy值渐变距下侧边4.6mm处达到稳定。因此，蓝光背光源包括侧入式背光源时，靠近蓝光背光源的第一区域的侧边(下侧边)到显示区边缘的距离小于或者等于4.6mm，第一区域其他三个侧边到显示区边缘的距离小于或者等于2.2mm。可选的，靠近蓝光背光源的第一区域的侧边(下侧边)到显示区边缘的距离等于4.6mm，第一区域其他三个侧边到显示区边缘的距离等于2.2mm。
示例性的，基于上述对液晶显示模组的显示色度的仿真，可进一步对不同厚度的第一目标膜层和第二目标膜层下的液晶显示模组的显示色度进行仿真，根据仿真结果得到合适的第一目标膜层和第二目标膜层的厚度，以此抵消或降低上述偏蓝值(-0.012，-0.025)。
具体的，目标膜层可以包括图2中所示的栅极绝缘层252，该栅极绝缘层252可包括氧化硅层，仅通过设置第一区域和第二区域氧化硅层的厚度，来改善液晶显示模组显示区内第二区域相对于第一区域的显示偏蓝现象。可选的，目标膜层可包括上述实施例中图3中的缓冲层23、间隔绝缘层24和栅极绝缘层252，其中，缓冲层23和间隔绝缘层24均包括氮化硅层和氧化硅层，栅极绝缘层252包括氧化硅层。本实施例中，第二目标膜层的厚度不同于第一目标膜层的厚度可以理解为，缓冲层、间隔绝缘层和栅极绝缘层的至少一膜层中，第二目标膜层的氮化硅层和/或氧化硅层的厚度不同于第一目标膜层对应的氮化硅层和/或氧化硅层的厚度。
如图6所示，使用白光光源200代替本发明的背光模组对液晶显示模组的显示色度进行测试。示例性的，在设置好阵列基板上目标膜层(包括第一目标膜层221和第二目标膜层222)的厚度后，使用光强均匀的白光200照射阵列基板的入光面，即基板21远离目标膜层的一侧，使得进入第一目标膜层221和第二目标膜层222各分量的光的光强对应相同，此时，对液晶显示模组第一区域和第二区域的显示色度分别进行测量，以此得到可以使液晶显示模组第二区域相对于第一区域偏黄的第一目标膜层221和第二目标膜层222的厚度。具体的，为了快速测试出可以改善第二区域相对于第一区域显示偏蓝现象的第一目标膜层221和第二目标膜层222的厚度，可以根据式(3)或式(5)下的目标膜层的厚度范围，确定第二目标膜层222的厚度，根据偏黄值的变化趋势及上述测得的偏蓝值调整第一目标膜层的厚度，直至本方案测得的偏黄值可以部分或完全抵消上述偏蓝值，即将上述包括蓝光背光源和量子点色彩增强膜的背光模组代替测试用的白光光源，设置于本方案测试后的液晶显示模组中，可以改善甚至解决第二区域相对于第一区域显示偏蓝的问题。
示例性的，参考图7，在第一目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为500埃，氧化硅层厚度为2500埃；第二目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为0埃，氧化硅层厚度为3000埃；第一目标膜层和第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度和氧化硅层厚度均为3000埃；第一目标膜层和第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为800埃时，对液晶显示模组的显示色度进行了5次测试，从图7中可以看出，第二区域的显示色度的平均色度值为(0.307，0.324)，第一区域的显示色度的平均色度值为(0.298，0.314)，此时，第二区域的显示色度比第一区域的显示色度偏黄约(0.009,0.01)，而上述偏蓝值为(-0.012，-0.025)，本实施例得到的偏黄值可以中和部分偏蓝值，因此，将各目标膜层的厚度设置为本实施例上述值，可以改善现有的液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。
参考图8，模拟白光光源对液晶显示模组进行仿真。其中，第一目标膜层和第二目标膜层中间隔绝缘层的氧化硅层厚度为3000埃；第一目标膜层和第二目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为500埃，氧化硅层厚度为2500埃；第一目标膜层和第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为800埃；对于间隔绝缘层的氮化硅层，从2000至4000埃每隔100埃仿真液晶显示模组的显示色度变化。从图8可以看出，在第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2200至2300埃或3800至3900埃，第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3000至3100埃时，第一区域显示色度的色度值中Wx的范围为0.293-0.297，Wy的范围为0.309-0.312，第二区域显示色度的色度值中Wx的范围为0.302-0.303，Wy的范围为0.315-0.317，由此可以使第二区域的显示色度比第一区域的显示色度偏黄，因此，将各目标膜层的厚度设置为本实施例上述值，可以改善现有的蓝光光源的液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。可选的，第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3800埃；第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3000埃，此时，第一区域显示色度的色度值为(0.295,0.310)，第二区域显示色度的色度值为(0.302,0.317)，第二区域的显示色度比第一区域的显示色度偏黄(0.007，0.007)，在本方案中可以最大程度地改善液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。
参考图9，第一目标膜层和第二目标膜层中间隔绝缘层的氧化硅层厚度为3000埃；第一目标膜层和第二目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为0埃，氧化硅层厚度为3000埃；第一目标膜层和第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为800埃；对于间隔绝缘层的氮化硅层，从1100至4000埃每隔100埃仿真液晶显示模组的显示色度变化。从图9可以看出，在第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2100至2500埃或3500至3800埃，第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2900至3100或1500至1800埃时，第一区域显示色度的色度值中Wx的范围为0.293-0.297，Wy的范围为0.321-0.324，第二区域显示色度的色度值中Wx的范围为0.299-0.301，Wy的范围为0.330-0.333，由此可以使第二区域的显示色度比第一区域的显示色度偏黄，因此，将各目标膜层的厚度设置为本实施例上述值，可以改善现有的蓝光光源的液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。可选的，第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2300埃；第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3000埃，此时，第一区域显示色度的色度值为(0.294,0.321)，第二区域显示色度的色度值为(0.301,0.332)，第二区域的显示色度比第一区域的显示色度偏黄(0.007，0.011)，在本方案中可以最大程度地改善液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。
另外，参考图8和图9，可以将第一目标膜层中各膜层是厚度设置成图8对应的各膜层的厚度，将第二目标膜层中各膜层是厚度设置成图9对应的各膜层的厚度，即第一目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为500埃，氧化硅层厚度为2500埃；第二目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为0埃，氧化硅层厚度为3000埃；第一目标膜层和第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为800埃；第一目标膜层和第二目标膜层中间隔绝缘层的氧化硅层厚度为3000埃。对比图8和图9可以看出，在第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2200至2400埃或3800至4000埃；第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为1600至1800埃或2900至3200埃时，第一区域显示色度的色度值中Wx的范围为0.292-0.297，Wy的范围为0.309-0.314，第二区域显示色度的色度值中Wx的范围为0.298-0.301，Wy的范围为0.328-0.333，由此可以使第二区域的显示色度比第一区域的显示色度偏黄，因此，将各目标膜层的厚度设置为本实施例上述值，可以改善现有的蓝光光源的液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。可选的，第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3800埃；第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3000埃，此时，第一区域显示色度的色度值为(0.295,0.310)，第二区域显示色度的色度值为(0.301,0.332)，第二区域的显示色度比第一区域的显示色度偏黄(0.006，0.022)，在本方案中可以最大程度地改善液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。
参考图10，模拟白光光源对液晶显示模组进行仿真。其中，第一目标膜层和第二目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为500埃，氧化硅层厚度为2500埃；第一目标膜层和第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度和氧化硅层厚度均为3000埃。对于栅极绝缘层的氧化硅层，从100至1300埃每隔100埃仿真液晶显示模组的显示色度变化。从图10中可以看出，在第一目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为300至600埃；第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为1000至1300埃时，第一区域显示色度的色度值中Wx的范围为0.285-0.287，Wy的范围为0.298-0.304，第二区域显示色度的色度值中Wx的范围为0.300-0.302，Wy的范围为0.324-0.328，由此可以使第二区域的显示色度比第一区域的显示色度偏黄，因此，将各目标膜层的厚度设置为本实施例上述值，可以改善现有的蓝光光源的液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。可选的，第一目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为500埃；第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为1300埃。此时，第一区域显示色度的色度值为(0.285,0.398)，第二区域显示色度的色度值为(0.302,0.328)，第二区域的显示色度比第一区域的显示色度偏黄约(0.017,0.030)，可以完全覆盖上述最大偏蓝值(-0.012，-0.025)，在本方案中可以解决液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。
另外，参考图8和图10，可以将第一目标膜层中各膜层是厚度设置成图8对应的各膜层的厚度，将第二目标膜层中各膜层是厚度设置成图10对应的各膜层的厚度，即第一目标膜层和第二目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为500埃，氧化硅层厚度为2500埃；第一目标膜层和第二目标膜层中间隔绝缘层的氧化硅层厚度为3000埃；第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3000埃；第一目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为800埃。对比图8和图10可以看出，在第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2200至2300埃或3700至3900埃；第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为1000至1300埃时，第一区域显示色度的色度值中Wx的范围为0.293-0.297，Wy的范围为0.309-0.311，第二区域显示色度的色度值中Wx的范围为0.300-0.302，Wy的范围为0.324-0.328，由此可以使第二区域的显示色度比第一区域的显示色度偏黄，因此，将各目标膜层的厚度设置为本实施例上述值，可以改善现有的蓝光光源的液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。可选的，第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3800埃；第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为1300埃，此时，第一区域显示色度的色度值为(0.295,0.310)，第二区域显示色度的色度值为(0.302,0.328)，第二区域的显示色度比第一区域的显示色度偏黄(0.007，0.018)，在本方案中可以最大程度地改善液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。
参考图8和图10，还可以将第一目标膜层中各膜层是厚度设置成图10对应的各膜层的厚度，将第二目标膜层中各膜层是厚度设置成图8对应的各膜层的厚度，即第一目标膜层和第二目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为500埃，氧化硅层厚度为2500埃；第一目标膜层和第二目标膜层中间隔绝缘层的氧化硅层厚度为3000埃；第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3000埃；第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为800埃。对比图8和图10可以看出，在第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2800至3200埃；第一目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为300至600埃时，第一区域显示色度的色度值中Wx的范围为0.285-0.286，Wy的范围为0.298-0.304，第二区域显示色度的色度值中Wx的范围为0.296-0.304，Wy的范围为0.314-0.318，由此可以使第二区域的显示色度比第一区域的显示色度偏黄，因此，将各目标膜层的厚度设置为本实施例上述值，可以改善现有的蓝光光源的液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。可选的，第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2900埃；第一目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为500埃，此时，第一区域显示色度的色度值为(0.285,0.298)，第二区域显示色度的色度值为(0.298,0.318)，第二区域的显示色度比第一区域的显示色度偏黄(0.013，0.021)，在本方案中可以最大程度地改善液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。
另外，还可以结合图9和图10设置第一目标膜层和第二目标膜层的厚度。参考图9和图10，可以将第一目标膜层中各膜层是厚度设置成图9对应的各膜层的厚度，将第二目标膜层中各膜层是厚度设置成图10对应的各膜层的厚度，即第一目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为0埃，氧化硅层厚度为3000埃；第二目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为500埃，氧化硅层厚度为2500埃；第一目标膜层和第二目标膜层中间隔绝缘层的氧化硅层厚度为3000埃；第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3000埃；第一目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为800埃。对比图9和图10可以看出，在第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2200至2400埃或3500至3700埃；第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为1100至1300埃时，第一区域显示色度的色度值中Wx的范围为0.293-0.295和0.296-0.297，Wy的范围为0.321-0.322，第二区域显示色度的色度值中Wx的范围为0.302-0.302，Wy的范围为0.326-0.333，由此可以使第二区域的显示色度比第一区域的显示色度偏黄，因此，将各目标膜层的厚度设置为本实施例上述值，可以改善现有的蓝光光源的液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。可选的，第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2300埃；第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为1300埃，此时，第一区域显示色度的色度值为(0.294,0.321)，第二区域显示色度的色度值为(0.302,0.328)，第二区域的显示色度比第一区域的显示色度偏黄(0.008，0.007)，在本方案中可以最大程度地改善液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。
参考图9和图10，还可以将第一目标膜层中各膜层是厚度设置成图10对应的各膜层的厚度，将第二目标膜层中各膜层是厚度设置成图9对应的各膜层的厚度，即第二目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为0埃，氧化硅层厚度为3000埃；第一目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为500埃，氧化硅层厚度为2500埃；第一目标膜层和第二目标膜层中间隔绝缘层的氧化硅层厚度为3000埃；第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3000埃；第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为800埃。对比图9和图10可以看出，在第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为1100至4000埃；第一目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为200至600埃时，第一区域显示色度的色度值中Wx的范围为0.285-0.288，Wy的范围为0.298-0.310，第二区域显示色度的色度值中Wx的范围为0.293-0.301，Wy的范围为0.321-0.333，由此可以使第二区域的显示色度比第一区域的显示色度偏黄，因此，将各目标膜层的厚度设置为本实施例上述值，可以改善现有的蓝光光源的液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。可选的，第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2100埃；第一目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为500埃，此时，第一区域显示色度的色度值为(0.285,0.298)，第二区域显示色度的色度值为(0.297,0.323)，第二区域的显示色度比第一区域的显示色度偏黄(0.012，0.025)，可以刚好抵消上述最大偏蓝值(-0.012，-0.025)，在本方案中可以解决液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。
本发明实施例可采用光刻工艺制作缓冲层或间隔绝缘层中的氮化硅层和氧化硅层，使第二目标膜层中的氮化硅层和/或氧化硅层的厚度不同于第一目标膜层中的氮化硅层和/或氧化硅层的厚度。示例性的，在制作本实施例上述缓冲层时，参考图11a，在基板21上形成厚度为500埃的氮化硅层，在氮化硅层上涂正性光阻，利用掩膜板曝光第二区域的正性光阻，以除去第二区域的正性光阻，对第二区域上的氮化硅层进行刻蚀，形成图11b所示的结构；参考图11c，在第二区域的基板21上及第一区域的氮化硅层上形成厚度为3000埃的氧化硅层；在氧化硅层上涂负性光阻，利用上述同一掩膜板曝光第二区域的负性光阻，以除去第一区域的负性光阻，对第一区域上的氧化硅层进行刻蚀，刻蚀掉厚度为500埃的氧化硅，形成图11d所示的结构，即制作成第一目标膜层中氮化硅层厚度为500埃，氧化硅层厚度为2500埃；第二目标膜层中氮化硅层厚度为0埃，氧化硅层厚度为3000埃的缓冲层。
另外，本发明实施例的第二区域可包括多个互不交叠的第二子区域，每个第二子区域依次围绕第一区域设置；多个第二子区域中的目标膜层的厚度不同。从图5中可以看出，从液晶显示模组中部到边缘，偏蓝值逐渐增大，因此，第二子区域的宽度和对应的目标膜层的厚度可根据渐变的偏蓝值设置，且第二子区域划分得越多，最终液晶显示模组显示区边缘偏蓝问题改善得效果越好。
示例性的，如图12所示，第二区域Z可包括依次围绕第一区域Y设置的第一第二子区域Z1、第二第二子区域Z2和第三第二子区域Z3。可选的，以图10仿真结构为例，设置栅极绝缘层中氧化硅层的厚度。因为现有液晶显示模组从中部到边缘的偏蓝值逐渐增大，所以在依次设置第一第二子区域Z1、第二第二子区域Z2和第三第二子区域Z3内氧化硅层的厚度时，应使仿真出的显示色度的偏黄值逐渐增大，可选的，参考图10，在第一区域Y内氧化硅层的厚度为500埃时，第一第二子区域Z1内氧化硅层的厚度为1100埃，第二第二子区域Z2内氧化硅层的厚度为1200埃，第三第二子区域Z3内氧化硅层的厚度为1300埃。
与上述实施例中制作氮化硅层和氧化硅层的工艺类似，本实施例的目标膜层可通过多层半色调掩膜工艺制备。
本发明实施例根据液晶显示模组显示区边缘偏蓝情况，将液晶显示模组至少划分为位于显示区中部的第一区域和围绕第一区域的第二区域，液晶显示模组显示区边缘偏蓝区域与第二区域交叠；在阵列基板上设置与光的干涉强相关的目标膜层，且使目标膜层中位于第一区域内的第一目标膜层的厚度，不同于位于第二区域内的第二目标膜层的厚度，利用不同厚度的目标膜层对光的干涉不同，来减弱第二区域内的蓝光分量，以改善液晶显示模组显示区边缘偏蓝的问题。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (19)

1.一种液晶显示模组，其特征在于，包括：位于显示区中部的第一区域，围绕所述第一区域的第二区域，所述第二区域的内边缘与所述第一区域边缘重合，所述显示区边缘与所述第二区域的外边缘重合或位于所述第二区域的外边缘内；
所述液晶显示模组包括阵列基板和背光模组，所述阵列基板包括基板和设置于所述基板一侧的目标膜层，所述目标膜层与光的干涉强相关；
所述背光模组位于所述阵列基板远离所述目标膜层的一侧，所述背光模组包括蓝光背光源和设置于所述蓝光背光源与所述阵列基板之间的量子点色彩增强膜；所述量子点色彩增强膜包括周边区域，所述周边区域的显示色度偏蓝；所述第二区域与位于所述显示区内的所述周边区域，在所述阵列基板上的垂直投影重合；
所述目标膜层包括位于所述第一区域内的第一目标膜层，以及位于所述第二区域内的第二目标膜层，所述第二目标膜层的厚度不同于所述第一目标膜层的厚度，以减弱所述第二区域内的蓝光分量；
所述目标膜层的厚度由所述目标膜层的厚度与显示色度的预设对应关系确定，以降低所述液晶显示模组显示区内所述第二区域相对于所述第一区域的显示偏蓝值，其中，所述预设对应关系通过设置不同厚度的目标膜层仿真液晶显示模组显示色度变化的仿真图确定；
所述目标膜层包括缓冲层、间隔绝缘层和栅极绝缘层，所述缓冲层和间隔绝缘层均包括氮化硅层和氧化硅层，所述栅极绝缘层包括氧化硅层。
2.根据权利要求1所述的液晶显示模组，其特征在于，
所述第一目标膜层和第二目标膜层中间隔绝缘层的氧化硅层厚度为3000埃；
所述第一目标膜层和第二目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为500埃，氧化硅层厚度为2500埃；
所述第一目标膜层和第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为800埃；
所述第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2200至2300埃或3800至3900埃；
所述第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3000至3100埃。
3.根据权利要求1所述的液晶显示模组，其特征在于，
所述第一目标膜层和第二目标膜层中间隔绝缘层的氧化硅层厚度为3000埃；
所述第一目标膜层和第二目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为0埃，氧化硅层厚度为3000埃；
所述第一目标膜层和第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为800埃；
所述第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2100至2500埃或3500至3800埃；
所述第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2900至3100埃或1500至1800埃。
4.根据权利要求3所述的液晶显示模组，其特征在于，
所述第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2300埃；
所述第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3000埃。
5.根据权利要求1所述的液晶显示模组，其特征在于，
所述第一目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为500埃，氧化硅层厚度为2500埃；
所述第二目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为0埃，氧化硅层厚度为3000埃；
所述第一目标膜层和第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为800埃；
所述第一目标膜层和第二目标膜层中间隔绝缘层的氧化硅层厚度为3000埃；
所述第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2200至2400埃或3800至4000埃；
所述第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为1600至1800埃或2900至3200埃。
6.根据权利要求5所述的液晶显示模组，其特征在于，
所述第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3800埃；
所述第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3000埃。
7.根据权利要求1所述的液晶显示模组，其特征在于，
所述第一目标膜层和第二目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为500埃，氧化硅层厚度为2500埃；
所述第一目标膜层和第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度和氧化硅层厚度均为3000埃；
所述第一目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为300至600埃；
所述第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为1000至1300埃。
8.根据权利要求7所述的液晶显示模组，其特征在于，
所述第一目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为500埃；
所述第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为1300埃。
9.根据权利要求1所述的液晶显示模组，其特征在于，
所述第一目标膜层和第二目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为500埃，氧化硅层厚度为2500埃；
所述第一目标膜层和第二目标膜层中间隔绝缘层的氧化硅层厚度为3000埃；
所述第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2200至2300埃或3700至3900埃；
所述第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3000埃；
所述第一目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为800埃；
所述第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为1000至1300埃。
10.根据权利要求9所述的液晶显示模组，其特征在于，
所述第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3800埃；
所述第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为1300埃。
11.根据权利要求1所述的液晶显示模组，其特征在于，
所述第一目标膜层和第二目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为500埃，氧化硅层厚度为2500埃；
所述第一目标膜层和第二目标膜层中间隔绝缘层的氧化硅层厚度为3000埃；
所述第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2800至3200埃；
所述第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3000埃；
所述第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为800埃；
所述第一目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为300至600埃。
12.根据权利要求11所述的液晶显示模组，其特征在于，
所述第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2900埃；
所述第一目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为500埃。
13.根据权利要求1所述的液晶显示模组，其特征在于，
所述第一目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为0埃，氧化硅层厚度为3000埃；
所述第二目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为500埃，氧化硅层厚度为2500埃；
所述第一目标膜层和第二目标膜层中间隔绝缘层的氧化硅层厚度为3000埃；
所述第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2200至2400埃或3500至3700埃；
所述第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3000埃；
所述第一目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为800埃；
所述第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为1100至1300埃。
14.根据权利要求13所述的液晶显示模组，其特征在于，
所述第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2300埃；
所述第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为1300埃。
15.根据权利要求1所述的液晶显示模组，其特征在于，
所述第二目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为0埃，氧化硅层厚度为3000埃；
所述第一目标膜层中缓冲层的氮化硅层厚度为500埃，氧化硅层厚度为2500埃；
所述第一目标膜层和第二目标膜层中间隔绝缘层的氧化硅层厚度为3000埃；
所述第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为1100至4000埃；
所述第一目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为3000埃；
所述第二目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为800埃；
所述第一目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为200至600埃。
16.根据权利要求15所述的液晶显示模组，其特征在于，
所述第二目标膜层中间隔绝缘层的氮化硅层厚度为2100埃；
所述第一目标膜层中栅极绝缘层的氧化硅层厚度为500埃。
17.根据权利要求1所述的液晶显示模组，其特征在于，所述第二区域包括多个互不交叠的第二子区域，每个所述第二子区域依次围绕所述第一区域设置；
多个所述第二子区域中的所述目标膜层的厚度不同。
18.根据权利要求17所述的液晶显示模组，其特征在于，所述目标膜层通过多层半色调掩膜工艺制备。
19.根据权利要求1所述的液晶显示模组，其特征在于，所述蓝光背光源包括直下式背光源或侧入式背光源；
所述蓝光背光源包括侧入式背光源时，靠近所述蓝光背光源的所述第一区域的侧边到所述显示区边缘的距离小于或者等于4.6mm，所述第一区域其他三个侧边到所述显示区边缘的距离小于或者等于2.2mm。
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