[go: up one dir, main page]

CN106647011A - 显示基板的制作方法、显示基板、显示面板和显示装置 - Google Patents

显示基板的制作方法、显示基板、显示面板和显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN106647011A
CN106647011A CN201710151735.8A CN201710151735A CN106647011A CN 106647011 A CN106647011 A CN 106647011A CN 201710151735 A CN201710151735 A CN 201710151735A CN 106647011 A CN106647011 A CN 106647011A
Authority
CN
China
Prior art keywords
alignment marks
black matrix
color filter
spacing
filter layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201710151735.8A
Other languages
English (en)
Inventor
李丹辉
隆清德
杨泽荣
叶超
傅昌余
熊小蛟
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201710151735.8A priority Critical patent/CN106647011A/zh
Publication of CN106647011A publication Critical patent/CN106647011A/zh
Priority to US15/793,115 priority patent/US10509254B2/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512Light shielding layers, e.g. black matrix
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • G02F1/133516Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133354Arrangements for aligning or assembling substrates
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

本发明实施例公开了一种显示基板的制作方法、显示基板、显示面板以及显示装置。根据本发明实施例的显示基板的制作方法包括:形成黑矩阵和多个黑矩阵对位标记;形成多个彩膜层对位标记;以及通过将所述多个黑矩阵对位标记分别与多个关联的彩膜层对位标记进行N次顺序对位,在黑矩阵上形成彩膜层;其中,在黑矩阵的一侧边沿处的两端各形成N个黑矩阵第一对位标记,N个黑矩阵第一对位标记之间的间距为第一间距;在黑矩阵的相对一侧边沿处的两端各形成N个黑矩阵第二对位标记,N个黑矩阵第二对位标记之间的间距为第二间距,第一间距与第二间距不相等;分别与N个黑矩阵第一和第二对位标记相关联地形成N个彩膜层第一和第二对位标记。

Description

显示基板的制作方法、显示基板、显示面板和显示装置
技术领域
本发明的实施例涉及显示领域,具体地,涉及一种显示基板的制作方法、一种显示基板、一种显示面板和一种显示装置。
背景技术
在液晶显示领域中,显示基板是显示面板实现彩色显示的重要部件。在传统显示基板的制作过程中,通常在例如玻璃的透明基板上形成黑矩阵(Black Matrix)并在形成有黑矩阵的基板上形成彩膜层。曝光→显影是彩膜层制作中的重要工艺,通常使用曝光设备来完成,其中通过曝光设备自动实时检测预先设置的曝光对位标记(mark),并将设置有彩膜层图案的掩膜板与对位标记对位。具体地,传统的对位过程可以包括:将透明基板与曝光设备的机台(Stage)进行对位并形成黑矩阵和黑矩阵对位标记;将形成有黑矩阵的基板与曝光设备的机台进行对位;以及将黑矩阵与彩膜层掩膜进行对位,其中通过黑矩阵对位标记与彩膜层对位标记之间的对位来实现黑矩阵与彩膜层掩膜的对位。
然而,当黑矩阵对位标记与彩膜层对位标记之间正好错开整数个对位标记间距时,曝光设备会认为没有对位误差,并因此产生误判。
发明内容
本发明的至少一个实施例提供了一种显示基板的制作方法、一种显示基板、一种显示面板以及一种显示装置,以克服或缓解以上技术问题。
根据本发明的一个方面,提出了一种显示基板的制作方法,包括:
形成黑矩阵和多个黑矩阵对位标记;
形成多个彩膜层对位标记;和
通过将所述多个黑矩阵对位标记分别与多个关联的彩膜层对位标记进行N次顺序对位,在黑矩阵上形成彩膜层;
其中,在黑矩阵的一侧边沿处的两端各形成N个黑矩阵第一对位标记,所述N个黑矩阵第一对位标记之间的间距为第一间距;在黑矩阵的相对一侧边沿处的两端各形成N个黑矩阵第二对位标记,所述N个黑矩阵第二对位标记之间的间距为第二间距,第一间距与第二间距不相等;与所述N个黑矩阵第一对位标记相关联地形成N个彩膜层第一对位标记以及与所述N个黑矩阵第二对位标记相关联地形成N个彩膜层第二对位标记,N是大于1的整数。
例如,所述N个黑矩阵第一对位标记的中心位于第一直线上,所述N个黑矩阵第二对位标记的中心位于第二直线上,所述第二间距等于第一间距+n*3P,其中n是正整数,P是相邻子像素中心线之间的间距。
例如,所述N个彩膜层第一对位标记位于第三直线上,所述N个彩膜层第二对位标记位于第四直线上,所述N个彩膜层第一对位标记之间的间距为所述第一间距+P或第一间距-P;以及所述N个彩膜层第二对位标记之间的间距为所述第二间距+P或第二间距-P。
例如,所述N个彩膜层第一对位标记之间沿所述第一直线方向上的间距为所述第一间距,在与所述第一直线垂直的方向上的间距为P;以及所述N个彩膜层第二对位标记之间沿所述第一直线方向上的间距为所述第二间距,在与所述第一直线垂直的方向上的间距为P。
例如,第一间距等于1.5mm,且0.4mm<n*3P<1.1mm。
根据本发明实施例的另一方面,提供了一种显示基板,包括:
黑矩阵;
彩膜层;以及
形成彩膜层使用的多个黑矩阵对位标记和多个彩膜层对位标记;
其中,在黑矩阵的一侧边沿处的两端各形成有N个黑矩阵第一对位标记,所述N个黑矩阵第一对位标记之间的间距为第一间距;在黑矩阵的相对一侧边沿处的两端各形成有N个黑矩阵第二对位标记,所述N个黑矩阵第二对位标记之间的间距为第二间距,第一间距与第二间距不相等;N个彩膜层第一对位标记与所述N个黑矩阵第一对位标记相关联地设置,以及N个彩膜层第二对位标记与所述N个黑矩阵第二对位标记相关联地设置,N是大于1的整数。
根据本发明实施例的另一方面,提供了一种显示面板,包括阵列基板和根据本发明实施例的显示基板。
根据本发明实施例的另一方面,提了一种显示装置,包括根据本发明实施例的显示面板。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图,图中:
图1A示出了传统形成黑矩阵对位标记的示意图;
图1B示出了图1A中黑矩阵对位标记的详细示意图;
图2示出了利用传感器监控透明基板初对位的示意图;
图3示出了在黑矩阵上形成彩膜层的示意图;
图4A示出了传统彩膜层掩膜与黑矩阵对位的示意图;
图4B示出了当子像素沿横向依次排布时图4A中一组彩膜层对位标记的详细示意图;
图4C示出了当子像素沿纵向依次排布时图4A中一组彩膜层对位标记的详细示意图;
图5A示出了黑矩阵对位标记的示例示意图;
图5B示出了彩膜层对位标记的示例示意图;
图6A示出了彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记对准的显示示例;
图6B示出了彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记没有对准的一种显示示例;
图7A示出了彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记对准的示意图;
图7B示出了彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记没有对准的第一示例示意图;
图7C示出了彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记没有对准的第二示例示意图;
图7D示出了彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记没有对准的第三示例示意图;
图7E示出了彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记没有对准的第四示例示意图;
图8示出了根据本发明实施例的显示基板的制作方法的示意流程图;
图9A示出了根据本发明实施例的黑矩阵对位标记的设置示意图;
图9B示出了根据本发明实施例的第一示例彩膜层对位标记的设置示意图;
图9C示出了根据本发明实施例的第二示例彩膜层对位标记的设置示意图;
图10示出了根据本发明实施例的显示基板的示意图;
图11A示出了根据本发明实施例彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记没有对准的第一示例示意图;
图11B示出了根据本发明实施例彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记没有对准的第二示例示意图;
图11C示出了根据本发明实施例彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记没有对准的第三示例示意图;
图12A示出了根据本发明实施例在图11A所示情况下的显示示例;
图12B示出了根据本发明实施例在图11B所示情况下的显示示例;以及
图12C示出了根据本发明实施例在图11C所示情况下的显示示例。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述。显然,所描述的实施例是本发明的一部分实施例,而不是全部。基于所描述的本发明的实施例,本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下获得的所有其他实施例都属于本发明保护的范围。应注意,贯穿附图,相同的元素由相同或相近的附图标记来表示。在以下描述中,一些具体实施例仅用于描述目的,而不应该理解为对本发明有任何限制,而只是本发明实施例的示例。在可能导致对本发明的理解造成混淆时,将省略常规结构或构造。应注意,图中各部件的形状和尺寸不反映真实大小和比例,而仅示意本发明实施例的内容。
除非另外定义,本发明实施例使用的技术术语或科学术语应当是本领域技术人员所理解的通常意义。本发明实施例中使用的“第一”、“第二”以及类似词语并不表示任何顺序、数量或重要性,而只是用于区分不同的组成部分。
此外,在本发明实施例的附图中,只涉及到与本发明实施例涉及的结构,其他结构可参考通常设计。此外,可以理解,当下文中诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时,该元件可以“直接”位于另一元件“之上”或“之下”,也可以存在中间元件。此外,“上”或“下”仅仅表示相对位置关系,当翻转元件或整个设备时,其“上”或“下”关系也将相应改变。在本文中,以基板为底层的相对位置关系进行描述。
在显示基板的制作中,通常清洗透明基板并在透明基板上形成黑矩阵以避免各彩膜层漏光,然后分别制作第一彩膜层(例如红色)、第二彩膜层(例如绿色)、第三彩膜层(例如蓝色)等各彩膜层。图1A示出了传统形成黑矩阵和黑矩阵对位标记的示意图。如图1A所示,利用黑矩阵掩膜101在透明基板102上形成黑矩阵的图案,得到形成有黑矩阵的基板103。同时黑矩阵掩膜101的四个角设置有4组黑矩阵对位标记104,从而在基板103上形成对应的黑矩阵对位标记104。图1A中将黑矩阵对位标记104示出为十字形标记,并且针对红色(R)层、绿色(G)层和蓝色(R)层各设置一个形状相同的对位标记。图1B示出了图1A中一组黑矩阵对位标记的详细示意图。如图1B所示,四组黑矩阵对位标记的形状和排列方式相同,每组黑矩阵对位标记之间彼此相距相同的距离,例如1.5mm。
在形成黑矩阵时,需要将透明基板与曝光设备的机台进行对位,可以将该对位称作透明基板初对位。在利用曝光设备进行透明基板初对位时,可以通过例如三个传感器进行监控。图2示出了利用传感器监控透明基板初对位的示意图。如图2所示,例如三个传感器PA1、PA2和PA3分别监控透明基板202的边缘。当透明基板202在机台230上的位置偏移量超出或未达到相应传感器的监控区域时,设备会报警。然而在实际生产中,由于传感器灵敏度的限制以及光刻胶对传感器的干扰,会导致传感器出现误判。例如透明基板202与机台230之间发生偏移,但设备将光刻胶的涂胶边缘220当成透明基板202的边缘,误认为透明基板202与机台230正常对准。如果透明基板的偏移量恰好是黑矩阵对位标记的间距的1倍或2倍左右(±0.2mm)处,例如,1.3mm~1.7mm或2.8mm~3.2mm的范围内,会对后续彩膜层的制作造成不良影响。
彩膜层的制作可以包括清洗→涂布相应颜色的光刻胶→预固化→曝光→显影→固化。可以将负性胶用作彩膜层的光刻胶,由此经过曝光→显影工艺后,保留被曝光的部分并经过例如烘烤的固化,从而形成彩膜层。图3示出了一种在黑矩阵上形成彩膜层的示意图。黑矩阵掩膜301上形成有黑矩阵的图案,在曝光工艺中,该图案使得由大箭头表示的光303的一部分光通过,并遮挡另一部分光。透过黑矩阵的开口的光形成与彩膜层掩膜对应的图案,即彩膜层302的图案。在图3中,不同的纹理对应不同颜色的光。
图4A示出了传统彩膜层掩膜与黑矩阵对位的示意图。如图4A所示,将彩膜层掩膜406与形成有黑矩阵的基板403进行对位,并基于该对位形成显示基板410。例如,基板403上形成有四组十字形对位标记404,彩膜层掩膜406上设置有对应的四组彩膜层对位标记405。图4A中将彩膜层对位标记405示出为井字形标记,并且针对红色(R)、绿色(G)和蓝色(R)各设置一个对位标记。图4B示出了当子像素沿横向依次排布时图4A中一组彩膜层对位标记的详细示意图。如图4B所示,当子像素沿横向依次排布时,每个井字形彩膜层对位标记沿横向方向相距1.5mm±P,纵向方向相距为0。图4C示出了当子像素沿纵向方向依次排布时图4A中一组彩膜层对位标记的详细示意图。如图4C所示,当子像素沿纵向依次排布时,每个井字形彩膜层对位标记沿横向方向相距为例如1.5mm,并在纵向方向错开相邻子像素中心线之间的间距P。在实际中,该间距P可以近似为一个子像素的宽度,即彩膜层线宽,也被称作CD(Critical dimension)线宽。
图5A示出了黑矩阵对位标记的示例示意图。如图5A所示,单个黑矩阵对位标记具有线宽W1,黑矩阵对位标记的大小可以是例如1000μm×1000μm。图5B示出了彩膜层对位标记的示例示意图。如图5B所示,单个彩膜层对位标记具有线宽W2,W2通常小于W1。彩膜层对位标记大小可以是例如700μm×700μm,线间距可以是例如200μm。
当进行彩膜层掩膜与形成有黑矩阵的基板的对位时,将彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记进行对位。例如,可以使用例如接近式曝光设备执行对位。具体地,当使用接近式曝光设备执行对位时,通过例如4个CCD镜头对4组对位标记进行监控并在显示设备上显示对位情况,以保证彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记对准。如果发现没有对准,则设备报警。此时彩膜层掩膜保持固定,通过移动曝光设备的机台带动形成有黑矩阵的基板移动以使彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记对准。
图6A示出了彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记对准的显示示例,其中,例如以针对红色(R)子像素的对位标记为例,画面610、620、630和640分别示出了彩膜层掩膜的四个角处的四个R彩膜层对位标记与四个R黑矩阵对位标记对准的情况。图7A示出了彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记对准的示意图。在图7A中,以子像素沿横向依次排布为例进行演示,彩膜层掩膜706上的彩膜层对位标记与基板703上形成的黑矩阵对位标记对准。基于图7A所示的标记对位可以形成沿横向依次排布的子像素B、G和R。
关于彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记没有对准可以包括例如两种情况。在第一种情况下,彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记没有对准并且设备报警。这可以分为两种情形,图6B示出了彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记没有对准而报警的第一情形的显示示例,其中,例如以针对红色(R)子像素的对位标记为例,画面611、621、631和641分别示出了彩膜层掩膜的四个角处的四个彩膜层对位标记R与黑矩阵对位标记R没有对准的情况。在图6B所示的情况下,操作人员能够手动校正对位误差,使得后续工艺正常进行。图7B示出了这种情况下的示意图,其中与图7A相同的部分不再赘述。经过校正对位误差之后,在初始对位如图7B所示的情况下仍然可以经由对准校正来实现正确对位。第二情形在于,彩膜层对位标记和黑矩阵对位标记的偏移超出了设备的识别范围,设备报警。但是可能仅显示了彩膜层对位标记,因此当需要操作人员手动校正对位误差时,可能存在对于操作人员的误导,导致对位错误。
在第二种情况下,彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记没有对准但设备没有报警。例如,在以上参考图2所述的情况下,在透明基板初对位过程中,如果透明基板的偏移量恰好是黑矩阵对位标记的间距的1倍或2倍左右处,传感器不能监控到对位偏移。此时透明基板上形成的黑矩阵图案和黑矩阵对位标记相对于正常位置也发生整体偏移。由于黑矩阵对位标记整体偏移了例如1个或2个对位标记的距离,导致黑矩阵对位标记和彩膜层对位标记不对应。图7C示出了这种情况的示意图,其中与图7A相同的部分不再赘述。
此外,即使黑矩阵对位标记位置正确,但彩膜层对位标记可能相对于黑矩阵对位标记整体偏移了例如1个或2个对位标记的距离。图7D示出了整体偏移了1个对位标记的示意图。图7E示出了整体偏移了2个对位标记的示意图。在图7C-图7E的情况下,由于整体偏移了例如1个或2个对位标记的距离,设备不会报警,并且可能会显示与图6A类似的画面。设备会误认为黑矩阵对位标记和彩膜层对位标记完全对应,并将对应位置进行登记记录为后续对位的基准位置。这样操作会导致后续的对位全部错乱。由于对位错误,导致在形成彩膜层时不能在正确的位置处形成对应子像素。
为此,根据本发明实施例,提供了一种显示基板的制作方法。应注意,以下方法中各个步骤的序号仅作为该步骤的表示以便描述,而不应被看作表示该各个步骤的执行顺序。除非明确指出,否则该方法不需要完全按照所示顺序来执行。
图8示出了根据本发明实施例的显示基板的制作方法的示意流程图。如图8所示,根据本发明第一实施例的阵列基板的制备方法800可以包括以下步骤。
在步骤801,形成黑矩阵和多个黑矩阵对位标记。
在步骤803,形成多个彩膜层对位标记。
在步骤805,通过将所述多个黑矩阵对位标记分别与多个对应的彩膜层对位标记进行N次顺序对位,在黑矩阵上形成彩膜层。
接下来,将结合图8和图9A-9C来详细描述根据本发明实施例的显示基板的制作方法。
在步骤801,形成黑矩阵和多个黑矩阵对位标记。具体地,在黑矩阵的一侧边沿处的两端各形成N个黑矩阵第一对位标记BM11~BM1N,N个黑矩阵第一对位标记BM11~BM1N之间的间距为第一间距BM_P1;在黑矩阵的相对一侧边沿处的两端各形成N个黑矩阵第二对位标记BM21~BM2N,N个黑矩阵第二对位标记BM21~BM2N之间的间距为第二间距BM_P2,第一间距BM_P1与第二间距BM_P2不相等。在图9A中,以N等于3为例进行演示,本领域技术人员可以理解,N可以是大于1的任意整数。此外,例如,可以在黑矩阵以外的一侧边沿处形成黑矩阵对位标记。
例如,N个黑矩阵第一对位标记BM11~BM1N的中心可以位于第一直线XBM1上,N个黑矩阵第二对位标记BM21~BM2N的中心位于第二直线XBM2上,第二间距等于(第一间距+n*3P),即,BM_P2=BM_P1+n*3P,其中n是正整数,P是相邻子像素的中心线之间的间距。在实际应用中,可以将P近似为一个子像素的宽度。
例如,第一间距BM_P1可以等于1.5mm,且0.4mm<n*3P<1.1mm。即,第二间距BM_P2在1.9mm~2.6mm之间。在实际应用中,例如曝光设备的透光孔为10mm,因此整组对位标记的整体尺寸应小于10mm,且对位标记显示区域直径为0.4mm。保证0.4mm<n*3P<1.1mm能够更好地实现本发明实施例。
在步骤803,形成多个彩膜层对位标记。具体地,与N个黑矩阵第一对位标记BM11~BM1N相关联地形成N个彩膜层第一对位标记CF11~CF1N以及与N个黑矩阵第二对位标记BM21~BM2N相对应地形成N个彩膜层第二对位标记CF21~CF2N
图9B示出了根据本发明实施例的彩膜层对位标记的第一位置示例。图9B示出了彩膜层掩膜906上子像素沿显示阵列的横向方向依次排布的示例。如图9B所示,与N个黑矩阵第一对位标记BM11~BM1N相关联的N个彩膜层第一对位标记CF11~CF1N位于第三直线XCF1上,N个彩膜层第一对位标记CF11~CF1N之间的间距CF_P1为(第一间距±P),即,CF_P1=(BM_P1+P);或CF_P1=(BM_P1-P)。此外,N个彩膜层第二对位标记CF21~CF2N之间的间距CF_P2为(第二间距±P),即,CF_P2=(BM_P2+P);或CF_P2=(BM_P2-P)。N个彩膜层第二对位标记CF21~CF2N可以位于第四直线XCF2上。第一直线XBM1、第二直线XBM2、第三直线XCF1和第四直线XCF2可以彼此平行。
例如,在图9A所示第一间距BM_P1等于1.5mm的情况下,CF_P1=(BM_P1+P)=1.5mm+P,或CF_P1=(BM_P1-P)=1.5mm-P。CF_P2=(BM_P2+P)=1.5mm+(n*3+1)P;或CF_P2=(BM_P2-P)=1.5mm+(n*3-1)P。类似地,保证0.4mm<n*3P<1.1mm,能够更好地实现本发明实施例。
图9C示出了根据本发明实施例的彩膜层对位标记的第二位置示例。图9C示出了彩膜层掩膜906上子像素沿显示基板的纵向方向依次排布的示例。如图9C所示,与N个黑矩阵第一对位标记BM11~BM1N相关联的N个彩膜层第一对位标记CF11~CF1N沿第一直线XBM1的延伸方向上的间距CF_P1x为第一间距BM_P1,在与第一直线XBM1垂直的方向上的间距CF_P1y为P。N个彩膜层第二对位标记CF21~CF2N之间沿第一直线XBM1的延伸方向上的间距CF_P2x为上述第二间距BM_P2,在与第一直线XBM1垂直的方向上的间距CF_P2y为P。
例如,在图9A所示第一间距BM_P1等于1.5mm的情况下,CF_P1x=BM_P1=1.5mm,并且CF_P1y=P;CF_P2x=BM_P2=1.5mm+n*3P,并且CF_P2y=P。类似地,保证0.4mm<n*3P<1.1mm,能够更好地实现本发明实施例。
根据本发明实施例,还提供了一种用于根据本发明实施例的显示基板。图10示出了根据本发明实施例的显示基板1010的示意图。应注意,图10仅示意性示出了根据本发明实施例的显示基板。由于工艺中需要对基板进行裁切,在实际形成的显示基板中可能并不存在图10所示的各个对位标记。
如图10所示,根据本发明实施例的显示基板1010可以包括:
黑矩阵1003;
彩膜层1006;以及
形成彩膜层使用的多个黑矩阵对位标记1004和多个彩膜层对位标记1005。
在黑矩阵的一侧边沿处的两端各形成有N个黑矩阵第一对位标记,N个黑矩阵第一对位标记之间的间距为第一间距;在黑矩阵的相对一侧边沿处的两端各形成有N个黑矩阵第二对位标记,N个黑矩阵第二对位标记之间的间距为第二间距,第一间距与第二间距不相等;N个彩膜层第一对位标记与N个黑矩阵第一对位标记相关联地设置,以及N个彩膜层第二对位标记与N个黑矩阵第二对位标记相关联地设置,N是大于1的整数。应注意,图10中各个标记的相对位置关系仅为示意。本领域技术人员可以理解,可以将参考图9A-9C所述的根据本发明实施例的黑矩阵对位标记和彩膜层对位标记的相对位置关系应用于根据本发明实施例的显示基板。
图11A示出了根据本发明实施例彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记没有对准的第一示例示意图。图11A对应于图2所示的情况,即,在透明基板初对位过程中,如果透明基板的偏移量恰好是黑矩阵对位标记的间距的1倍或2倍左右,传感器不能监控到对位偏移,此时透明基板上形成的黑矩阵图案和黑矩阵对位标记相对于正常位置也发生整体偏移。在图11A所示的情况下,基板1103上的黑矩阵对位标记整体偏移了例如1个对位标记的距离。与图7C所示的传统技术不同,根据本发明实施例设置彩膜层掩膜1106上的彩膜层对位标记和基板1103上的黑矩阵对位标记的相对位置。例如,在图11A的示例中,参考图9A设置黑矩阵对位标记的位置并在子像素沿显示基板的横向方向依次排布的情况下,参考图9B设置彩膜层对位标记的相对位置。根据本发明实施例,尽管在黑矩阵的一侧(例如图11A的上侧)由于黑矩阵对位标记整体偏移了1个对位标记的距离,导致彩膜层对位标记R与黑矩阵对位标记对位G看起来是对准的,但是在黑矩阵的相对另一侧(例如图11A的下侧),彩膜层对位标记R并没有与黑矩阵对位标记G对准。曝光设备会显示如图12A所示的显示示例,以例如针对红色(R)子像素的对位标记为例,画面1210、1220、1230和1240分别示出了彩膜层掩膜的四个角处的四个彩膜层对位标记R与关联黑矩阵对位标记对准的情况。如图12A所示,尽管显示示例中与图11A的上侧的对位标记对应的两个画面1210、1220中看起来彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记对准(实际上是彩膜层对位标记R错误地与黑矩阵对位标记G对准),但是与图11A的下侧的对位标记对应的两个画面1230、1240中清楚地显示了黑矩阵对位标记与彩膜层对位标记没有对准。由此曝光设备报警,使得能够校正对准误差。在例如第一间距BM_P1等于1.5mm的情况下,第二间距BM_P2可以在1.9mm~2.6mm之间。
图11B示出了根据本发明实施例彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记没有对准的第二示例示意图。对应于图7D所示,图11B示出了对位标记整体偏移了1个对位标记的情况。与图7D所示的传统技术不同,根据本发明实施例设置彩膜层掩膜1106上的彩膜层对位标记和基板1103上的黑矩阵对位标记的相对位置。例如,在图11B的示例中,参考图9A设置黑矩阵对位标记的位置并在子像素沿显示阵列的横向方向依次排布的情况下,参考图9B设置彩膜层对位标记的相对位置。根据本发明实施例,尽管在黑矩阵一侧(例如图11B的上侧)由于黑矩阵对位标记整体偏移了1个对位标记的距离,导致彩膜层对位标记B与黑矩阵对位标记G对位,在黑矩阵的相对另一侧(例如图11B的下侧)彩膜层对位标记B并没有与黑矩阵对位标记G对位。曝光设备会显示如图12B所示的显示示例,以例如针对蓝色(B)子像素的对位标记为例,画面1210’、1220’、1230’和1240’分别示出了彩膜层掩膜的四个角处的四个彩膜层对位标记B与关联黑矩阵对位标记对位的情况。如图12B所示,尽管显示示例中与图11B的上侧对应的两个画面1210’、1220’中看起来彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记分别对准(实际上是彩膜层对位标记B错误地与黑矩阵对位标记G对准),而与图11B的下侧对应的两个画面1230’、1240’中显示了彩膜层对位标记B没有与黑矩阵对位标记B对准。由此曝光设备报警,使得能够校正对准误差。
图11C示出了根据本发明实施例彩膜层对位标记与黑矩阵对位标记没有对准的第三示例示意图。对应于图7E所示,图11C示出了对位标记整体偏移了2个对位标记的情况。与图7E所示的传统技术不同,根据本发明实施例设置彩膜层掩膜1106上的彩膜层对位标记和基板1103上的黑矩阵对位标记的相对位置。例如,在图11C的示例中,参考图9A设置黑矩阵对位标记的位置并在子像素沿显示基板的横向方向依次排布的情况下参考图9B设置彩膜层对位标记的相对位置。根据本发明实施例,尽管在黑矩阵一侧(例如图11C的上侧)由于黑矩阵对位标记整体偏移了2个对位标记的距离,导致彩膜层对位标记B与黑矩阵对位标记R对位,但是在黑矩阵的相对另一侧(例如图11C的下侧)彩膜层对位标记B并没有与黑矩阵对位标记R对准。曝光设备会显示如图12C所示的显示示例,以例如针对蓝色(B)子像素的对位标记为例,画面1210”、1220”、1230”和1240”分别示出了彩膜层掩膜的四个角处的四个彩膜层对位标记B与黑矩阵对位标记对准的情况。如图12C所示,尽管显示示例中与图11C的上侧对应的两个画面1210”、1220”中看起来黑矩阵对位标记与彩膜层对位标记分别对准(实际上是彩膜层对位标记B错误地与黑矩阵对位标记R对准),而与图11C的下侧对应的两个画面1230”、1240”中清楚地显示了彩膜层对位标记B与没有黑矩阵对位标记B对准。由此曝光设备报警,使得能够校正对准误差。
本领域技术人员可以理解,尽管以上示例中以子像素沿显示基板的横向方向依次排布为例进行描述,根据以上描述,能够将本发明实施例显而易见地应用于当子像素沿显示基板的纵向方向依次排布的情况。
本发明实施例还提供了一种显示面板,包括阵列基板和如上所述根据本发明实施例的显示基板。
本发明实施例还提供了一种显示装置,如上所述根据本发明实施例的显示面板。该显示装置可以是电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
根据本发明实施例,通过将黑矩阵的一侧边处的黑矩阵第一对位标记之间的第一间距设置为与黑矩阵的相对一侧处的黑矩阵第二对位标记之间的第二间距不相等,相关联地设置彩膜层对位标记,能够在即使对位偏移量为1个或2个对位标记的情况下,也不会出现自动对位错误的情况。
尽管已经参考本发明的典型实施例,具体示出和描述了本发明,但本领域普通技术人员应当理解,在不脱离所附权利要求所限定的本发明的精神和范围的情况下,可以对这些实施例进行形式和细节上的多种改变。

Claims (12)

1.一种显示基板的制作方法,包括:
形成黑矩阵和多个黑矩阵对位标记;
形成多个彩膜层对位标记;和
通过将所述多个黑矩阵对位标记分别与多个关联的彩膜层对位标记进行N次顺序对位,在黑矩阵上形成彩膜层;
其中,在黑矩阵的一侧边沿处的两端各形成N个黑矩阵第一对位标记,所述N个黑矩阵第一对位标记之间的间距为第一间距;在黑矩阵的相对一侧边沿处的两端各形成N个黑矩阵第二对位标记,所述N个黑矩阵第二对位标记之间的间距为第二间距,第一间距与第二间距不相等;与所述N个黑矩阵第一对位标记相关联地形成N个彩膜层第一对位标记以及与所述N个黑矩阵第二对位标记相关联地形成N个彩膜层第二对位标记,N是大于1的整数。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述N个黑矩阵第一对位标记的中心位于第一直线上,所述N个黑矩阵第二对位标记的中心位于第二直线上,所述第二间距等于第一间距+n*3P,其中n是正整数,P是相邻子像素中心线之间的间距。
3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述N个彩膜层第一对位标记位于第三直线上,所述N个彩膜层第二对位标记位于第四直线上,所述N个彩膜层第一对位标记之间的间距为所述第一间距+P或第一间距-P;以及所述N个彩膜层第二对位标记之间的间距为所述第二间距+P或第二间距-P。
4.根据权利要求2所述的方法,其中,所述N个彩膜层第一对位标记之间沿所述第一直线方向上的间距为所述第一间距,在与所述第一直线垂直的方向上的间距为P;以及所述N个彩膜层第二对位标记之间沿所述第一直线方向上的间距为所述第二间距,在与所述第一直线垂直的方向上的间距为P。
5.根据权利要求2-4之一所述的方法,其中,第一间距等于1.5mm,且0.4mm<n*3P<1.1mm。
6.一种显示基板,包括:
黑矩阵;
彩膜层;以及
形成彩膜层使用的多个黑矩阵对位标记和多个彩膜层对位标记;
其中,在黑矩阵的一侧边沿处的两端各形成有N个黑矩阵第一对位标记,所述N个黑矩阵第一对位标记之间的间距为第一间距;在黑矩阵的相对一侧边沿处的两端各形成有N个黑矩阵第二对位标记,所述N个黑矩阵第二对位标记之间的间距为第二间距,第一间距与第二间距不相等;N个彩膜层第一对位标记与所述N个黑矩阵第一对位标记相关联地设置,以及N个彩膜层第二对位标记与所述N个黑矩阵第二对位标记相关联地设置,N是大于1的整数。
7.根据权利要求6所述的显示基板,其中,所述N个黑矩阵第一对位标记的中心位于第一直线上,所述N个黑矩阵第二对位标记的中心位于第二直线上,所述第二间距等于第一间距+n*3P,其中n是正整数,P是相邻子像素中心线之间的间距。
8.根据权利要求7所述的显示基板,其中,所述N个彩膜层第一对位标记位于第三直线上,所述N个彩膜层第二对位标记位于第四直线上,所述N个彩膜层第一对位标记之间的间距为所述第一间距+P或第一间距-P;以及所述N个彩膜层第二对位标记之间的间距为所述第二间距+P或第二间距-P。
9.根据权利要求7所述的显示基板,其中,所述N个彩膜层第一对位标记之间沿所述第一直线方向上的间距为所述第一间距,在与所述第一直线垂直的方向上的间距为P;以及
所述N个彩膜层第二对位标记之间沿所述第一直线方向上的间距为所述第二间距,在与所述第一直线垂直的方向上的间距为P。
10.根据权利要求8或9所述的显示基板,其中,第一间距等于1.5mm,且0.4mm<n*3P<1.1mm。
11.一种显示面板,包括阵列基板和根据权利要求6-10之一所述的显示基板。
12.一种显示装置,包括根据权利要求11所述的显示面板。
CN201710151735.8A 2017-03-14 2017-03-14 显示基板的制作方法、显示基板、显示面板和显示装置 Pending CN106647011A (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710151735.8A CN106647011A (zh) 2017-03-14 2017-03-14 显示基板的制作方法、显示基板、显示面板和显示装置
US15/793,115 US10509254B2 (en) 2017-03-14 2017-10-25 Method for manufacturing display substrate, display substrate, display panel and display apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710151735.8A CN106647011A (zh) 2017-03-14 2017-03-14 显示基板的制作方法、显示基板、显示面板和显示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN106647011A true CN106647011A (zh) 2017-05-10

Family

ID=58847679

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710151735.8A Pending CN106647011A (zh) 2017-03-14 2017-03-14 显示基板的制作方法、显示基板、显示面板和显示装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US10509254B2 (zh)
CN (1) CN106647011A (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107359184A (zh) * 2017-07-27 2017-11-17 武汉天马微电子有限公司 一种显示面板、标定该显示面板上像素单元的方法
CN108132558A (zh) * 2018-01-26 2018-06-08 福州京东方光电科技有限公司 对位检测方法及显示装置
CN110412673A (zh) * 2019-07-26 2019-11-05 京东方科技集团股份有限公司 一种母板、母板的制作方法及彩膜基板
CN115274485A (zh) * 2022-08-18 2022-11-01 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制备方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108594515B (zh) * 2018-04-28 2020-08-14 京东方科技集团股份有限公司 柔性偏光盖板及其制备方法、包含它的显示面板和显示装置
JP2025175303A (ja) * 2024-05-19 2025-12-02 アイリス オプトロニクス カンパニー リミテッド パネルの位置合わせと貼り合わせ方法、及び位置合わせマーク

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61219901A (ja) * 1985-03-26 1986-09-30 Stanley Electric Co Ltd 多色カラ−表示素子の製造方法
JPH04333018A (ja) * 1991-05-08 1992-11-20 Hitachi Electron Eng Co Ltd カラー用液晶基板の位置合わせ方法
JP2007256581A (ja) * 2006-03-23 2007-10-04 Hitachi High-Technologies Corp カラーフィルタ基板の露光装置及び露光方法
CN102096328A (zh) * 2010-12-03 2011-06-15 深圳市华星光电技术有限公司 液晶面板的曝光工序及其掩膜
CN103293740A (zh) * 2013-03-29 2013-09-11 深超光电(深圳)有限公司 液晶显示面板
CN103969873A (zh) * 2014-04-23 2014-08-06 京东方科技集团股份有限公司 用于将掩膜版和基板对齐的方法及彩膜基板的制造方法
CN104808434A (zh) * 2015-05-21 2015-07-29 合肥京东方光电科技有限公司 基板、掩膜板及显示装置、对位方法
CN105182680A (zh) * 2015-10-22 2015-12-23 深圳市华星光电技术有限公司 色阻掩膜板及其使用方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6320639B1 (en) * 1996-03-11 2001-11-20 Canon Kabushiki Kaisha Liquid crystal device and process for production thereof
CN104102042B (zh) * 2014-06-30 2017-08-25 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板及其制作方法、显示装置
US10539835B2 (en) * 2015-01-04 2020-01-21 Boe Technology Group Co., Ltd. Substrate and photoelectric display device
CN106154613B (zh) * 2016-06-30 2018-09-18 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制作方法、显示装置
CN108572477B (zh) * 2017-03-08 2021-12-07 福州京东方光电科技有限公司 彩膜基板、显示面板及其检测方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61219901A (ja) * 1985-03-26 1986-09-30 Stanley Electric Co Ltd 多色カラ−表示素子の製造方法
JPH04333018A (ja) * 1991-05-08 1992-11-20 Hitachi Electron Eng Co Ltd カラー用液晶基板の位置合わせ方法
JP2007256581A (ja) * 2006-03-23 2007-10-04 Hitachi High-Technologies Corp カラーフィルタ基板の露光装置及び露光方法
CN102096328A (zh) * 2010-12-03 2011-06-15 深圳市华星光电技术有限公司 液晶面板的曝光工序及其掩膜
CN103293740A (zh) * 2013-03-29 2013-09-11 深超光电(深圳)有限公司 液晶显示面板
CN103969873A (zh) * 2014-04-23 2014-08-06 京东方科技集团股份有限公司 用于将掩膜版和基板对齐的方法及彩膜基板的制造方法
CN104808434A (zh) * 2015-05-21 2015-07-29 合肥京东方光电科技有限公司 基板、掩膜板及显示装置、对位方法
CN105182680A (zh) * 2015-10-22 2015-12-23 深圳市华星光电技术有限公司 色阻掩膜板及其使用方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107359184A (zh) * 2017-07-27 2017-11-17 武汉天马微电子有限公司 一种显示面板、标定该显示面板上像素单元的方法
CN107359184B (zh) * 2017-07-27 2020-06-26 武汉天马微电子有限公司 一种显示面板、标定该显示面板上像素单元的方法
CN108132558A (zh) * 2018-01-26 2018-06-08 福州京东方光电科技有限公司 对位检测方法及显示装置
CN108132558B (zh) * 2018-01-26 2020-08-25 福州京东方光电科技有限公司 对位检测方法及显示装置
CN110412673A (zh) * 2019-07-26 2019-11-05 京东方科技集团股份有限公司 一种母板、母板的制作方法及彩膜基板
CN110412673B (zh) * 2019-07-26 2021-09-17 京东方科技集团股份有限公司 一种母板、母板的制作方法及彩膜基板
CN115274485A (zh) * 2022-08-18 2022-11-01 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20180267352A1 (en) 2018-09-20
US10509254B2 (en) 2019-12-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106647011A (zh) 显示基板的制作方法、显示基板、显示面板和显示装置
CN104808451B (zh) 一种对位曝光方法
US8531631B2 (en) Color display apparatus
CN104297989B (zh) 基板、掩膜板及液晶显示装置
CN103698934B (zh) 显示面板
CN106502060B (zh) 一种显示基板、显示面板及显示装置
WO2013170595A1 (zh) 彩色滤光片及其制作方法以及液晶面板和显示装置
CN103744222A (zh) 彩色滤光片、制作方法及显示装置
JP7793880B2 (ja) 表示基板マザーボード及びその製造方法
CN108681142A (zh) 一种显示面板的制作方法
CN108037622A (zh) 液晶显示面板、其制作方法及显示装置
CN103424942A (zh) 彩膜基板及其制备方法、显示装置
CN205862052U (zh) 一种阵列基板、显示面板以及显示装置
US9116297B2 (en) Color filter substrate, manufacturing method thereof and liquid crystal panel
US20180188597A1 (en) Color filter substrate, method for manufacturing the same and display device
US20180107054A1 (en) Manufacturing method for color filter substrate and manufacturing method for liquid crystal panel
CN101609238B (zh) 具有彩色滤光阵列的像素阵列基板以及显示面板
CN205809499U (zh) 一种阵列基板、显示面板和显示装置
CN105182580A (zh) 液晶显示面板及其制造方法、液晶显示面板母板
CN106405964A (zh) 一种阵列基板及其制作方法、液晶显示器
CN106019723A (zh) 一种显示基板及其制作方法、显示装置
CN206960831U (zh) 阵列基板、显示面板及显示装置
CN218567829U (zh) 一种rgb光罩和彩色滤光片
JP4957020B2 (ja) 液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法及び液晶表示装置用カラーフィルタ
CN106526983A (zh) 显示基板及其制备方法、显示母板

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20170510

RJ01 Rejection of invention patent application after publication