CN106232296B

CN106232296B - 研磨垫

Info

Publication number: CN106232296B
Application number: CN201580020884.XA
Authority: CN
Inventors: 柏田太志; 德重伸; 高桥大介
Original assignee: Fujibo Holdings Inc
Current assignee: Fujibo Holdings Inc
Priority date: 2014-04-23
Filing date: 2015-04-07
Publication date: 2018-10-19
Anticipated expiration: 2035-04-07
Also published as: JP2015208782A; KR102383987B1; CN106232296A; JP6292397B2; KR20160148565A; WO2015163136A1

Abstract

研磨垫(13)用于对具有凸状曲面部分(1a)的被研磨物(1)的所述凸状曲面部分进行研磨，其特征在于，在圆盘状且具有厚度的弹性体的侧表面配置有环状凹研磨部(13a)，一边以该圆盘的圆的中心为轴沿圆周方向驱动所述环状凹研磨部旋转，一边使所述环状凹研磨部与被研磨物的凸状曲面部分相接触，并且构成环状凹研磨部的弹性体的压缩0.1mm时的压缩应力为50gf/cm²～150gf/cm²的范围，且压缩应力的比(压缩0.5mm时的压缩应力/压缩0.1mm时的压缩应力)为5～30的范围。能够高精度地对被研磨物的所述凸状曲面部分进行抛光研磨。

Description

研磨垫

技术领域

本发明涉及一种用于对具有凸状曲面部分的被研磨物的上述凸状曲面部分进行研磨的研磨垫(日文：研磨パッド)，详细而言涉及如下这种研磨垫，该研磨垫在圆盘状且具有厚度的弹性体的侧表面配置有环状凹研磨部，一边以该圆盘的圆的中心为轴沿圆周方向驱动该环状凹研磨部旋转，一边使该该环状凹研磨部与被研磨物的凸状曲面部分相接触，该研磨垫适于利用上述旋转驱动对形成有凸状曲面部分的被研磨物，特别是在外周缘形成有凸状曲面部分的被研磨物高精度地进行抛光研磨。

背景技术

以往，在对具有凸状曲面部分的被研磨物的上述曲面部分进行研磨时，使用圆盘状且具有厚度的研磨构件，详细而言，公知一种在该研磨构件的侧表面一边以圆盘的圆的中心为轴沿圆周方向被驱动旋转，一边与被研磨物的上述凸状曲面部分相接触的研磨构件(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007–5661号公报

发明内容

发明要解决的问题

但是，上述专利文献1的研磨构件虽然适于被上述专利文献1视作目的的将附着在半导体晶圆的边缘部的不需要的成膜去除，但没有对上述凸状曲面部分高精度地进行抛光研磨的思想，例如当对在外周缘形成有凸状曲面部分的构件的上述凸状曲面部分高精度地进行抛光研磨时，不能充分地吸收由旋转驱动的振动等产生的研磨构件与被研磨物的接触不均，导致研磨不均，很不适合对曲面进行不存在不均的高精度的抛光研磨。

另外，在上述专利文献1中，在对被研磨物的凸状曲面部分进行研磨时，研磨构件抵接的凸状曲面部分与未抵接的平面部分的交界有残留，也存在使精加工品质下降的问题。

鉴于上述这样的问题，本发明提供一种能够高精度地对具有凸状曲面部分的被研磨物的凸状曲面部分进行抛光研磨的研磨垫。

用于解决问题的方案

即，本发明的研磨垫用于对具有凸状曲面部分的被研磨物的上述凸状曲面部分进行研磨，其特征在于，在圆盘状且具有厚度的弹性体的侧表面配置有环状凹研磨部，一边以该圆盘的圆的中心为轴沿圆周方向驱动上述环状凹研磨部旋转，一边使上述环状凹研磨部与被研磨物的凸状曲面部分相接触，构成该环状凹研磨部的弹性体的压缩0.1mm时的压缩应力为50gf/cm²～150gf/cm²的范围，且压缩应力的比(压缩0.5mm时的压缩应力/压缩0.1mm时的压缩应力)为5～30的范围。

另外，构成上述环状凹研磨部的弹性体的在初始载荷20g、形变范围1.0％、温度40℃、频率60Hz、压缩模式下测量时的损耗系数tanδ可以为0.150～0.420的范围。

此外，可以在上述环状凹研磨部的表面形成有开口。

此外，可以使上述环状凹研磨部比被研磨物的上述凸状曲面部分大径，在使上述被研磨物的顶点与上述环状凹研磨部的底点相接触时，位于上述环状凹研磨部的厚度方向两端部的环状突起相对于被研磨物的与凸状曲面部分相邻的平面部分分开，利用研磨时的推压力使上述被研磨物沉入上述环状凹研磨部而使该环状凹研磨部发生变形，从而使上述环状突起与上述被研磨物的上述平面部分紧密接触。

并且，可以在上述环状突起沿厚度方向两端部的至少任一方的圆周方向以规定的间隔配置有缺口部。

发明效果

即，采用上述发明，利用研磨时的推压力使研磨垫的环状凹研磨部沿被研磨物的凸状曲面部分的形状进行压缩变形，能将届时的适度的应力施加于被研磨物的凸状曲面部分，所以能够高精度地对该凸状曲面部分进行抛光研磨。

此外，通过将构成上述研磨垫的弹性体的压缩应力的比(压缩0.5mm时的压缩应力/压缩0.1mm时的压缩应力)设定为5～30的范围，即使由研磨垫的旋转引发的振动、或形成在被研磨物的表面的凹凸使环状凹研磨部的压缩变形量发生变动，也能使稳定的应力作用于被研磨物的凸状曲面部分，抑制研磨不均的发生、未研磨部的产生。

并且，由于在环状凹研磨部的表面形成有开口，所以能将作为研磨液的抛光液(日文：スラリー)保持在上述环状凹研磨部，所以能够获得稳定的研磨效率。

此外，上述环状凹研磨部比被研磨物的上述凸状曲面部分大径，在使上述被研磨物的顶点与上述环状凹研磨部的底点相接触时，位于上述环状凹研磨部的厚度方向两端部的环状突起相对于被研磨物的与凸状曲面部分相邻的平面部分分开。

从该状态利用研磨时的推压力使上述被研磨物沉入上述环状凹研磨部而使该环状凹研磨部变形，从而使上述环状突起与上述被研磨物的与凸状曲面部分相邻的平面部分紧密接触。通过形成为这种构造，能使凸状曲面部分与平面部分的交界处无残留，获得高品质的被研磨物。

此外，通过在环状突起配置缺口部，且适当地调整缺口部的大小、形状、数量和间隔，能够进行抛光液的供液量、排液量的调整、研磨碎屑的排出的促进、以及对被研磨物的凸状曲面部分与平面部分的交界处无残留的调整等。

附图说明

图1是本实施例的研磨装置的俯视图。

图2是上述研磨装置的侧视图。

图3是研磨垫和被研磨物的放大剖视图，(a)表示研磨前的状态，(b)表示研磨中的状态。

图4是研磨垫的俯视图。

图5是表示实验结果的表。

具体实施方式

下面，说明图示的实施例，图1和图2表示对形成在被研磨物1的外周缘上的凸状曲面部分1a进行研磨的研磨装置2的俯视图以及剖视图。

上述研磨装置2包括保持被研磨物1的保持工作台3、具有本发明的研磨垫13的研磨部件4、和将抛光液供给到上述研磨垫13与被研磨物1之间的抛光液供给部件5。

上述被研磨物1如图1所示，具有大致长方形，在该被研磨物1的外周缘上形成有凸状曲面部分1a。

在前一道工序只预先对上述凸状曲面部分1a进行粗磨削加工，或者上述凸状曲面部分1a为未加工状态，所以在该凸状曲面部分1a的表面上形成有磨削划痕、毛刺等凹凸。

另外，作为被研磨物1，也可以是平面形状具有例如圆形等其他形状的被研磨物，另外，作为原料，可以举出金属、玻璃、塑料、陶瓷和蓝宝石等。

上述保持工作台3形成为将被研磨物1保持为水平的构造。准备比上述被研磨物1小型的保持工作台3，由此使上述凸状曲面部分1a自保持工作台3的端部从保持工作台3侧向外侧突出。

上述研磨部件4包括分别设置在与上述保持工作台3相对的位置上的研磨夹具11，和使该研磨夹具11向上述被研磨物1所在的方向移动的移动部件12，利用未图示的控制部件来控制移动部件12。

利用未图示的驱动部件一边使研磨夹具11与被研磨物1的外周缘相接触，一边使上述移动部件12沿外周缘移动。

在上述研磨夹具11上设置有圆盘状的研磨垫13，该研磨垫13的轴线方向铅垂配置，并且利用未图示的驱动部件使该研磨垫13例如以1000rpm～6000rpm这样的转速进行高速旋转。

另外，可以在研磨垫13的通孔的内侧以及研磨垫13与研磨夹具11之间，配置有吸收由驱动部件的工作引发的振动的缓冲件、弹簧等振动吸收机构。

由此，在如图3那样将上述研磨垫13压靠于被研磨物1的凸状曲面部分1a时，也使被研磨物1的位移受到抑制，被研磨物1在研磨垫13的作用下稳定地沉入研磨垫13，是优选的。

更优选的是，通过调整上述弹簧的作用力，依据成为对象的被研磨物1的原料、所需的凸状曲面部分1a的加工精度进行适当的设定。

另外，在本实施例中，说明了利用上述保持工作台3将被研磨物1保持为水平的部件，但本发明不限定于此。例如，也可以与水平方向垂直地保持被研磨物1，使研磨夹具11一边与被研磨物1的外周缘相接触一边沿外周缘移动，另外，也可以将研磨夹具11固定，通过使保持工作台3移动来对被研磨物1进行研磨。

本实施例的研磨垫13如图3和图4所示，具有圆盘状，在研磨垫13的侧表面具有用于对上述被研磨物1的凸状曲面部分1a进行研磨的环状凹研磨部13a，在上述环状凹研磨部13a的厚度方向两端部配置有环状突起13b。

另外，上述研磨垫13由具有弹性的原料(弹性体)构成，详细而言，由使用以下说明的制造方法制成的浸渗有聚氨酯树脂的无纺布、发泡聚氨酯等的原料构成。并且，通过利用这些原料构成上述研磨垫13，使构成上述环状凹研磨部13a的弹性体具有连续气泡以及/或者独立气泡，并在表面形成无数的微小的开口。

上述研磨垫13的直径能够依据要研磨的被研磨物1设定为35mm～250mm，另外，上述研磨垫13的厚度设定为能对厚度是3.0mm～30.0mm的被研磨物1进行研磨的尺寸。

另外，上述研磨垫13的环状凹研磨部13a根据被研磨物1的凸状曲面部分1a的形状形成，例如能对具有半径为1.5mm～15.0mm的截面大致为半圆状的形状的凸状曲面部分1a进行研磨。

另外，上述被研磨物1的凸状曲面部分1a不必一定为完全的半圆状，环状凹研磨部13a具有以下这样的构造即可，即，在研磨时与该凸状曲面部分1a的形状对应地压缩变形，从而被施加适度的应力的构造。

此外，在本实施例中，可以使上述环状突起13b的突出量不同，由此也可以在距离与上述凸状曲面部分1a相邻的位置为1.0mm～30.0mm的范围对被研磨物1的平面部分1b进行研磨。

图3的(a)表示被研磨物1与研磨垫13相接触之前的状态，上述环状凹研磨部13a形成为比上述被研磨物1的凸状曲面部分1a大径一些。

因此，在使上述被研磨物1的凸状曲面部分1a的顶点与上述环状凹研磨部13a的底点相接触时，上述环状突起13b相对于被研磨物1的与上述凸状曲面部分1a相邻的上述平面部分1b分开。

另外，在被研磨物1的凸状曲面部分1a不是完全的半圆状的情况下，例如在凸状曲面部分1a由2个以上的凸部形成的情况下，上述大径一词指具有依据该凸状曲面部分1a的凸部个数以所需的倍率形成为较大的形状。

当自该状态将被研磨物1压靠于环状凹研磨部13a时，被研磨物1沉入研磨垫13的原料，如图3的(b)所示环状凹研磨部13a发生变形而沿凸状曲面部分1a的形状与凸状曲面部分1a紧密接触。

另外，当环状凹研磨部13a与上述凸状曲面部分1a紧密接触时，相应地上述环状突起13b接近平面部分1b并以较弱的应力与平面部分1b紧密接触，形成为能够利用环状突起13b以低于凸状曲面部分1a的研磨量也对平面部分1b进行研磨的状态。由此，凸状曲面部分1a与平面部分1b的交界无残留，能够获得高品质的被研磨物1。

另外，在上述环状突起13b形成有倒角形状部13c，当进行研磨时，易于将被研磨物1插入到上述环状突起13b与环状突起13b之间。另外，通过适当地调整倒角形状部13c的长度、倒角角度和形状，也能进行被研磨物1的凸状曲面部分1a与平面部分1b的交界无残留的调整等。

此外，如图4所示，在上述环状突起13b以规定的间隔形成有缺口部13d，将自上述抛光液供给部件5供给的抛光液良好地供给到上述环状凹研磨部13a与被研磨物1之间。

这里，由于在上述环状凹研磨部13b的表面形成有开口，所以供给的抛光液被该开口保持，也能获得由该抛光液产生的良好的研磨性能。

另外，上述环状突起13b也可以只设置上下环状突起中的任一方，另外也可以在任一方的环状突起13b上省略设置缺口部13d。另外，上述缺口部13d的大小没有特别限定，形状也没有特别限定。可以是半圆状、大致三角形、大致四边形形状等多边形。上述缺口部13d的数量以及间隔也没有特别限定，优选当俯视环状突起13b时以30°～60°的间隔形成6处～12处的上述缺口部13d。

如上所述，通过对设于环状突起13b的缺口部13d的大小、形状、数量和间隔进行适当的调整，不仅能够调整抛光液的供给量，也能进行排液量的调整、研磨碎屑的排出的促进、以及被研磨物的凸状曲面部分1a与平面部分1b的交界无残留的调整等。

如上所述，本实施例的研磨垫13由浸渗有聚氨酯树脂的无纺布、发泡聚氨酯等的原料构成，这些原料具有以下的性质。

将构成上述研磨垫13的原料中的压缩0.1mm时的压缩应力设定为50gf/cm²～150gf/cm²的范围，且将压缩应力的比(压缩0.5mm时的压缩应力/压缩0.1mm时的压缩应力)设定为5～30的范围。

此外，将构成研磨垫13的原料中的损耗系数tanδ设定为0.150～0.420的范围，特别是，更优选在初始载荷20g、形变范围1.0％、温度40℃、频率60Hz、压缩模式下获得上述损耗系数tanδ的范围。另外，上述损耗系数tanδ表示储存弹性模量(E′)以及损耗弹性模量(E″)的比，E″/E′。

采用具有上述结构的研磨垫13，能够获得以下这样的效果。

首先，构成研磨垫13的原料中的压缩0.1mm时的压缩应力优选为50gf/cm²～150gf/cm²，更优选为60gf/cm²～150gf/cm²。当为上述的数值范围时，沉入研磨垫13的被研磨物1的凸状曲面部分1a被作用有适当的应力，所以能够进行高精度的抛光研磨。

在压缩0.1mm时的压缩应力小于50gf/cm²的情况下，施加于被研磨物的应力过小，所以不能充分地进行研磨加工，发生研磨不均，在压缩0.1mm时的压缩应力大于150gf/cm²的情况下，研磨负荷增大，容易产生划痕，所以不优选。

另外，压缩应力的比(压缩0.5mm时的压缩应力/压缩0.1mm时的压缩应力)优选为5～30，更优选为5～20。即使被研磨物1的沉入量发生变动，也能使应力稳定地持续作用于被研磨物1，减少研磨不均、未研磨部。

当压缩应力的比小于5时，不能对微小的凹凸进行研磨，形成研磨不均，相反当压缩应力的比大于30时，不能对被研磨物1施加稳定的应力，发生研磨不均。

详细而言，由于在前一道工序中预先对研磨前的被研磨物1的凸状曲面部分1a只进行粗磨削加工或者未对该凸状曲面部分1a进行加工，所以在该凸状曲面部分1a的表面残留有磨削刮痕、毛刺等微小的凹凸，精加工成例如0.4mm左右的表面粗糙度。

研磨时，研磨垫13与被研磨物1相对移动，所以上述凸状曲面部分1a的凹凸来到(日文：差し掛かる)研磨垫13与被研磨物1的接触部分，从而使被研磨物1的向上述研磨垫13的上述环状凹研磨部13b的沉入量发生变动。

另外，在如本实施例那样使研磨垫13高速旋转时，驱动部件的工作等使振动增大，所以该振动也会使上述沉入量发生变动。

即使这样因凸状曲面部分1a的凹凸、振动使沉入量发生了变动，由于本实施例的研磨垫13的原料具有上述性质，所以也能使应力稳定地持续作用于被研磨物1，减少研磨不均。

接着，构成本实施例的研磨垫13的原料的损耗系数tanδ优选为0.15～0.420，更优选为0.350～0.420。当tanδ的值在上述的范围内时，能够进行研磨均匀性优异的研磨。

详细而言，由于研磨垫13以垂直于被研磨物1向环状凹研磨部13a沉入的方向的轴为中心进行旋转，所以被研磨物1的凸状曲面部分1a的顶部处于被过度研磨的倾向。

那么，通过设定上述损耗系数tanδ的范围，能够适度地吸收被研磨物1沉入研磨垫13时的从被研磨物1受到的应力，由此能够均匀地研磨凸状曲面部分1a整体。

相对于此，在损耗系数tanδ小于0.150的情况下，研磨垫13不能吸收位移，凸状曲面部分1a的顶部被过度研磨，在与顶部分开的部位产生未研磨部，未对凸状曲面部分1a的整个区域均等地施加应力，所以发生研磨不均。

另一方面，在损耗系数tanδ大于0.420的情况下，研磨垫13的粘性增大，研磨磨粒容易埋入到研磨垫13内，使磨削力下降，所以不优选。

并且，在本实施例中，特别在实际的研磨加工部的研磨热温度，即，40℃下将损耗系数tanδ的范围设定为上述范围，从而能够获得实际的研磨加工时的良好的研磨性能。

图5表示本发明的发明品1～发明品3以及为了比较而准备的比较品1、2的实验结果，在本实验中，测量了上述发明品1～发明品3以及比较品1、2的压缩0.1mm时的压缩应力(gf/cm²)、压缩应力的比(压缩0.5mm时的压缩应力/压缩0.1mm时的压缩应力)、损耗系数tanδ、目测下的研磨不均的有无、目测下的划痕的有无以及目测下的未研磨部的有无。

以下，对用于获得上述发明品1～发明品3以及比较品1、2的次序进行说明。

首先，发明品1的研磨垫由发泡聚氨酯制成，详细而言，采用以下的制造过程进行了制造。

首先，作为第1成分的预聚物，将通过使2，4–TDI和数均分子量约1000的PTMG进行反应而获得的含异氰酸盐基的聚氨酯预聚物(288质量份)加热到50℃，并在减压的条件下进行了脱泡。在该预聚物中，异氰酸盐含有量为7.7％。

另外，第2成分分别添加了粗制MOCA(50质量份)、数均分子量约1000的PTMG(50质量份)、水(0.52质量份)、催化剂(0.3质量份)和硅系表面活性剂(0.3质量份)，在50℃的温度下搅拌混合后，在减压的条件下进行了脱泡。

并且，将上述第1成分和第2成分以质量比100：43的比例以36kg/min的流量供给到混合机中，并且自设置于混合机的搅拌叶轮的喷嘴以35L/min的流量供给了空气。

接着，将获得的混合液浇入(日文：注型する)到型箱(890mm×890mm)内，在使该混合液固化后，将所形成的聚氨酯树脂发泡体从型箱拔出。

最后，将该发泡体切成9.0mm的厚度的片而制作聚氨酯片，将该聚氨酯片切削成外径为40.0mm的圆盘状，并且在该聚氨酯片的侧表面设置半径为3.5mm的半圆状的环状凹研磨部13a，在与环状凹研磨部13a相对应的上下2处的环状突起13b上，俯视看以60°的间隔，即，分别各设置6处半径为2.5mm的半圆状的缺口部13d，并且在圆盘中央部设置用于固定于研磨夹具11的通孔，从而获得了上述形状的研磨垫13。另外，俯视观察，缺口部13d在环状突起13b的厚度方向上下均设置在相同的位置。

发明品2的研磨垫13由浸渗有聚氨酯树脂的无纺布制成，详细而言，通过以下的制造过程进行了制造。

首先，调制出如下树脂溶液，该树脂溶液是通过在53质量份的DMF溶液中进一步添加47质量份的DMF来作为溶剂而得到的，该53质量份的DMF溶液含有30质量％的100％定伸应力(日文：モジュラス)为6MPa的聚醚系聚氨酯树脂。

另外，定伸应力是表示树脂的回弹力的指标，对于利用将无发泡的树脂片100％拉伸时(拉伸到原来长度的2倍时)所施加的载荷除以伸长前的截面积而得到的值，将该值称为100％定伸应力。该值越高，表示是越不易变形的树脂。

另一方面，准备片状的纤维基材，该纤维基材是纤维材料为PET的无纺布，是细度及纤维长度为2.2dtex×51mm、3.3dtex×51mm的质量比1：2的混合物，厚度为12mm，单位面积质量为1500g/m²。

接着，在将上述纤维基材浸泡到上述调制得到的树脂溶液中后，使用能在1对辊间进行加压的碾压辊将树脂溶液挤掉，使树脂溶液大致均匀地浸渗在纤维基材中。

进一步将浸渗有上述树脂溶液的纤维基材浸泡到由室温的水构成的凝固液中，使聚醚系聚氨酯树脂凝固再生而获得前驱体片，将该前驱体片从凝固液中取出而浸泡到由水构成的清洗液中，将DMF去除，并且在使该前驱体片进一步干燥后，通过切片将表面的表皮层去除，获得了厚度为9.0mm的研磨垫用片。接着，将该研磨垫用片切削成外径为40.0mm的圆盘状，并且在该研磨垫用片的侧表面设置半径为3.5mm的半圆状的环状凹研磨部13a，在与环状凹研磨部13a相对应的2处环状突起13b上，俯视看以60°的间隔，即，分别各设置6处半径为2.5mm的半圆状的缺口部13d，并且在圆盘中央部设置用于固定于研磨夹具11的通孔，从而获得了上述形状的研磨垫13。另外，俯视观察，缺口部13d在环状突起13b的厚度方向上下均设置在相同的位置。

接着，相对于上述发明品2，使发明品3的研磨垫13的树脂的100％定伸应力与上述发明品2不同，为9MPa，除此之外以与上述发明品2同样的工序获得了研磨垫13。

并且，比较品1除了将预聚物的异氰酸盐基含有量变为6.3％以外，其他采用与发明品1同样的方法获得了研磨垫13。

另外，比较品2除了将树脂的100％定伸应力变为34MPa以外，其他采用与发明品2同样的方法获得了研磨垫13。

上述研磨垫13的压缩应力的测量是首先将构成研磨垫13的原料切削为12mm×12mm×15mm，将该试验片以压缩方向为15mm的方式设置在试验机(岛津制作厂制造，マイクロオートグラフ(商品名)，MST–I)的台上的中央，进一步以0.1mm/min的速度对直径为20mm的圆形状的加压板(平板)施加了0gf/cm²～8000gf/cm²的载荷。另外，在试样片的压缩方向的厚度小于1.5cm的情况下，重叠多片试验片，以总计达到15mm的厚度的方式进行了测量。

然后，求出了加压板相对于试验片沉入0.1mm时和沉入0.5mm时的压缩应力，进一步根据算得的压缩应力算出压缩应力的比(压缩0.5mm时的压缩应力/压缩0.1mm时的压缩应力)。

结果是，发明品1的压缩0.1mm时的压缩应力为64gf/cm²，压缩应力的比(压缩0.5mm时的压缩应力/压缩0.1mm时的压缩应力)为8.0。

发明品2的压缩0.1mm时的压缩应力为104gf/cm²，压缩应力的比(压缩0.5mm时的压缩应力/压缩0.1mm时的压缩应力)为17.7。

发明品3的压缩0.1mm时的压缩应力为128gf/cm²，压缩应力的比(压缩0.5mm时的压缩应力/压缩0.1mm时的压缩应力)为23.4。

比较品1的压缩0.1mm时的压缩应力为39gf/cm²，压缩应力的比(压缩0.5mm时的压缩应力/压缩0.1mm时的压缩应力)为4.8。

比较品2的压缩0.1mm时的压缩应力为192gf/cm²，压缩应力的比(压缩0.5mm时的压缩应力/压缩0.1mm时的压缩应力)为32.1。

使用动态粘弹性测量装置(TA Instruments Japan株式会社制造(公司名)，RSA–III)测量了上述研磨垫13的损耗系数(tanδ)。

详细而言，从发明品以及比较品的研磨垫13选取5mm×5mm的试验片，对该试验片，使用动态粘弹性测量装置通过压缩模式测量了当以初始载荷20g、形变范围1.0％、并在温度40℃下的频率1Hz～70Hz范围内逐渐改变频率时的储存弹性模量E′以及损耗弹性模量E″，进一步根据这些值算出60Hz时的损耗系数tanδ。

与研磨垫13的转速(3000rpm)相对应地将上述设定的频率设定为60Hz。

结果是，发明品1的损耗系数tanδ为0.390，发明品2为0.153，发明品3为0.169。

相对于此，比较品1的损耗系数tanδ为0.262，比较品2为0.147。

并且，在以下的研磨条件下，对实际进行了研磨的被研磨物1进行观察而进行了研磨垫13的研磨不均的评价、划痕的评价以及未研磨部的有无的评价。

作为被研磨物1，使用在外周具有被磨削了的曲面的不锈钢板，作为抛光液，将pH10的100％氧化铝抛光液以90cc/min的流量供给到被研磨物1与研磨垫13之间，并且一边使上述研磨垫13以转速3000rpm旋转，一边使被研磨物1的外周以80mm/分的速度移动，进行了研磨。另外，在研磨过程中，使研磨垫13始终以0.1mm左右的程度沉入被研磨物，进行了研磨。

然后，对于结束了研磨的被研磨物1的研磨不均，进行了目测下的确认。详细而言，将因被研磨物1的被研磨面上的不同场所而光泽程度没有显示不同的情况评价为○，在因不同场所而光泽度显示不同的情况下，评价为×。

结果是，得到了发明品1～发明品3的评价为○而比较品1、2的评价为×的结果。

另一方面，关于划痕，通过目测确认了研磨后的被研磨物1。将1个线状的裂纹都没确认到的情况评价为○，将确认到1个以上的情况评价为×。

另外，关于未研磨部的有无，在被研磨物1的凸状曲面部分1a与平面部分1b的交界处近旁，将未能研磨而看起来模糊不清的部分作为未研磨部进行了目测下的确认，将未能确认到未研磨部的情况评价为“无”，将确认到未研磨部的情况评价为“有”。

结果，发明品1～发明品3的研磨不均、划痕和未研磨部的评价是○以及“无”的良好的结果，相对于此，比较品1虽然研磨不均以及划痕的评价为○，但未研磨部的评价为“有”，比较品2获得了研磨不均、划痕和未研磨部的评价均为×以及“有”的不良的结果。

附图标记说明

1、被研磨物；1a、凸状曲面部分；2、研磨装置；13、研磨垫；13a、环状凹研磨部；13b、环状突起；13d、缺口部。

Claims

1.一种研磨垫，用于对具有凸状曲面部分的被研磨物的所述凸状曲面部分进行研磨，其特征在于，

在圆盘状且具有厚度的弹性体的侧表面配置有环状凹研磨部，一边以该圆盘的圆的中心为轴沿圆周方向驱动所述环状凹研磨部旋转，一边使所述环状凹研磨部与被研磨物的凸状曲面部分相接触，构成该环状凹研磨部的弹性体的压缩0.1mm时的压缩应力为50gf/cm²～150gf/cm²的范围，且压缩应力的比为5～30的范围，该压缩应力的比是压缩0.5mm时的压缩应力/压缩0.1mm时的压缩应力。

2.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，

构成所述环状凹研磨部的弹性体的在初始载荷20g、形变范围1.0％、温度40℃、频率60Hz以及压缩模式下测量时的损耗系数tanδ为0.150～0.420的范围。

3.根据权利要求1或2中任意一项所述的研磨垫，其特征在于，

在所述环状凹研磨部的表面形成有开口。

4.根据权利要求1或2中任意一项所述的研磨垫，其特征在于，

所述环状凹研磨部比被研磨物的所述凸状曲面部分大径，在使所述被研磨物的顶点与所述环状凹研磨部的底点相接触时，位于所述环状凹研磨部的厚度方向两端部的环状突起相对于被研磨物的与凸状曲面部分相邻的平面部分分开，

利用研磨时的推压力使所述被研磨物沉入所述环状凹研磨部而使该环状凹研磨部发生变形，从而使所述环状突起与所述被研磨物的所述平面部分紧密接触。

5.根据权利要求3所述的研磨垫，其特征在于，

6.根据权利要求4所述的研磨垫，其特征在于，

在所述环状突起沿厚度方向两端部的至少任一方的圆周方向以规定的间隔配置有缺口部。

7.根据权利要求5所述的研磨垫，其特征在于，