CN106206986A - 顶发射oled结构及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种顶发射OLED结构，包括OLED、设置于所述OLED上的多层阻隔层以及设置于每相邻的两层阻隔层之间的缓冲层，每层阻隔层均具有阻隔水汽和氧气的能力，至少一层缓冲层具有散射光线的能力。本发明还公开一种该顶发射OLED结构的制作方法。由于缓冲层具有散射光线的能力，会使得更多的光出射到空气中，从而提高器件的发光效率。
Description
技术领域
本发明属于有机发光显示技术领域，具体地讲，涉及一种顶发射OLED结构及其制作方法。
背景技术
在目前的照明和显示技术领域，由于有机发光二极管(OLED)具有诸如低启动电压、轻薄、自发光等特点，因此被广泛研究，以满足低能耗、轻薄和面光源等需求。
OLED的发光主要通过激子的复合，然后从发光层出射到空气中。然而，在由发光层产生的光出射到空气的过程中，会有大量的光损失，从而使OLED的发光效率不佳。因此，如何提高OLED的发光效率是亟需解决的一个技术问题。
发明内容
为了解决上述的技术问题，本发明提供了一种顶发射OLED结构，包括OLED、设置于所述OLED上的多层阻隔层以及设置于每相邻的两层阻隔层之间的缓冲层，每层阻隔层均具有阻隔水汽和氧气的能力，至少一层缓冲层具有散射光线的能力。
进一步地，所述阻隔层的数量为三层，所述缓冲层的数量为两层。
进一步地，所述缓冲层具有已结晶的材料，所述已结晶的材料为玻璃化转变温度为50°～100°且能够与有机溶剂互溶的有机材料。
进一步地，所述OLED为叠层OLED，所述叠层OLED包括：基板；在基板上的阳极；在阳极上的空穴传输层；在空穴传输层上的第一颜色发光层；在第一颜色发光层上的电荷产生层；在电荷产生层上的第二颜色发光层；在第二颜色发光层上的电子传输层；以及在电子传输层上的阴极。
进一步地，所述叠层OLED包括：在所述阳极与所述空穴传输层之间的空穴注入层；以及在所述电子传输层与所述阴极之间的电子注入层。
本发明还提供了一种顶发射OLED结构的制作方法，其包括：形成OLED；在所述OLED上形成多层阻隔层以及位于每相邻的两层阻隔层之间的缓冲层；其中，每层阻隔层均具有阻隔水汽和氧气的能力，至少一层缓冲层具有散射光线的能力。
进一步地，所述阻隔层和所述缓冲层的形成方法具体为：在所述OLED上顺序形成一层所述阻隔层、一层所述缓冲层、一层所述阻隔层、一层所述缓冲层、一层所述阻隔层。
进一步地，所述缓冲层具有已结晶的材料，所述已结晶的材料为玻璃化转变温度为50°～100°且能够与有机溶剂互溶的有机材料。
进一步地，所述OLED为叠层OLED，形成所述叠层OLED的方法包括：提供一基板；在基板上形成阳极；在阳极上形成空穴传输层；在空穴传输层上形成第一颜色发光层；在第一颜色发光层上形成电荷产生层；在电荷产生层上形成第二颜色发光层；在第二颜色发光层上形成电子传输层；在电子传输层上形成阴极。
进一步地，形成所述叠层OLED的方法还包括：在所述阳极与所述空穴传输层之间形成空穴注入层；在所述电子传输层与所述阴极之间形成电子注入层。
本发明的有益效果：在本发明的顶反射OLED结构及其制作方法中，由于缓冲层具有散射光线的能力，会使得更多的光出射到空气中，从而提高器件的发光效率。
附图说明
通过结合附图进行的以下描述，本发明的实施例的上述和其它方面、特点和优点将变得更加清楚，附图中：
图1是根据本发明的实施例的顶发射OLED结构的示意图；
图2是根据本发明的实施例的叠层OLED的结构示意图；
图3是根据本发明的另一实施例的叠层OLED的结构示意图；
图4是根据本发明的实施例的顶发射OLED结构的制作方法的流程图。
具体实施方式
以下，将参照附图来详细描述本发明的实施例。然而，可以以许多不同的形式来实施本发明，并且本发明不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反，提供这些实施例是为了解释本发明的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本发明的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。
在附图中，为了清楚器件，夸大了层和区域的厚度。相同的标号在附图中始终表示相同的元件。
将理解的是，尽管在这里可使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，但是这些元件不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件与另一个元件区分开来。
也将理解的是，在一层或元件被称为在或形成在另一层或基板“之上”或“上”时，它可以直接在或形成在该另一层或基板上，或者也可以存在中间层或中间元件。
图1是根据本发明的实施例的顶发射OLED结构的示意图。
参照图1，根据本发明的实施例的顶发射OLED结构包括：叠层OLED100、三层阻隔层200a、200b、200c以及两层缓冲层300a、300b；三层阻隔层200a、200b、200c顺序层叠在叠层OLED100上，缓冲层300a夹设于阻隔层200a和阻隔层200b之间，缓冲层300b夹设于阻隔层200b和阻隔层200c之间，其中，三层阻隔层200a、200b、200c均具有阻隔水汽和氧气的能力，缓冲层300a和/或缓冲层300b具有散射光线的能力。
这样，由于缓冲层300a和/或缓冲层300b具有散射光线的能力，会使得更多的光出射到空气中，从而提高顶发射OLED结构的发光效率。
为了使缓冲层300a和/或缓冲层300b具有散射光线的能力，在本实施例中，缓冲层300a和/或缓冲层300b具有已结晶的材料，所述已结晶的材料为玻璃化转变温度为50°～100°且能够与有机溶剂(诸如乙醇、甲苯等)互溶的有机材料。
在本发明中，并不对阻隔层和缓冲层的数量作限定，仅需使每相邻的两层阻隔层之间夹设一层缓冲层即可。
此外，本实施例的顶发射OLED结构采用叠层OLED作为一种示例，但本发明并不限制于此，例如本发明的顶发射OLED结构可以采用单层OLED等。
以下对本实施例的叠层OLED100的结构进行描述。图2是根据本发明的实施例的叠层OLED的结构示意图。
参照图2，根据本发明的实施例的叠层OLED100包括：基板110；在基板110上的阳极120；在阳极120上的空穴传输层(Hole Transport Layer；HTL)130；在空穴传输层130上的第一颜色发光层140；在第一颜色发光层140上的电荷产生层(charge generation layer，CGL)150；在电荷产生层150上的第二颜色发光层160；在第二颜色发光层160上的电子传输层(Electron Transport Layer；ETL)170；在电子传输层170上的阴极180。其中，三层阻隔层200a、200b、200c和两层缓冲层300a、300b位于阴极180上。
在本实施例中，阳极120可利用氧化铟锡(ITO)制成，但本发明并不限制于此，例如，阳极120也可以利用导电的金属材料或者其他非金属的导电材料制成。阴极180可以由导电的金属材料制成，但本发明并不限制于此，例如，阴极180也可以利用非金属的导电材料制成。
第一颜色发光层140和第二颜色发光层160可以发出相同的颜色的光线，也可以发出不同颜色的光线，例如，在本实施例中，第一颜色发光层140发出黄色的光线，而第二颜色发光层160发出蓝色的光线。
此外，需要说明的是，作为本发明的另一实施例，缓冲层300a和/或缓冲层300b具有与形成电子传输层170的材料相同的材料。形成电子传输层170的材料可例如是恶唑衍生物和其树状物、金属螯合物、喹啉衍生物等。
图3是根据本发明的另一实施例的叠层OLED的结构示意图。
参照图3，与图2所示的叠层OLED不同的是，根据本发明的另一实施例的叠层OLED100包括：基板110；在基板110上的阳极120；在阳极120上的空穴注入层(Hole InjectLayer；HIL)190a；在空穴注入层190a上的空穴传输层(Hole Transport Layer；HTL)130；在空穴传输层130上的第一颜色发光层140；在第一颜色发光层140上的电荷产生层(chargegeneration layer，CGL)150；在电荷产生层150上的第二颜色发光层160；在第二颜色发光层160上的电子传输层(Electron Transport Layer；ETL)170；在电子传输层170上的电子注入层(Electron Inject Layer；EIL)190b；在电子注入层190b上的阴极180。其中，三层阻隔层200a、200b、200c和两层缓冲层300a、300b位于阴极180上。
空穴注入层190a和电子注入层190b的加入，可以实现将空穴或电子从电极注入空穴传输层130或者电子传输层170，用以改善空穴传输层130和电子传输层170与电极的界面。
图4是根据本发明的实施例的顶发射OLED结构的制作方法的流程图。
参照图2至图4，在步骤S410中，形成一叠层OLED100。
作为本发明的一实施方式，形成叠层OLED100的具体方法包括：提供一基板110；在基板110上形成阳极120；在阳极120上形成空穴传输层130；在空穴传输层130上形成第一颜色发光层140；在第一颜色发光层140上形成电荷产生层150；在电荷产生层150上形成第二颜色发光层160；在第二颜色发光层160上形成电子传输层170；在电子传输层170上的阴极180。
作为本发明的另一实施方式，形成叠层OLED100的具体方法包括：在基板110上的阳极120；在阳极120上形成空穴注入层190a；在空穴注入层190a上形成空穴传输层130；在空穴传输层130上形成第一颜色发光层140；在第一颜色发光层140上形成电荷产生层150；在电荷产生层150上形成第二颜色发光层160；在第二颜色发光层160上形成电子传输层170；在电子传输层170上形成电子注入层190b；在电子注入层190b上形成阴极180。
完成步骤S410之后，进行步骤S420。
在步骤S420中，在叠层OLED100上形成三层阻隔层200a、200b、200c以及两层缓冲层300a、300b。
形成三层阻隔层200a、200b、200c以及两层缓冲层300a、300b的具体方法顺序包括：在阴极180上形成阻隔层200a；在阻隔层200a上形成缓冲层300a；在缓冲层300a上形成阻隔层200b；在阻隔层200a上形成缓冲层300b，在缓冲层300b上形成阻隔层200c。这里，可采用打印或者涂布的方式形成缓冲层300a、300b。
综上所述，根据本发明的实施例的顶反射OLED结构及其制作方法，由于缓冲层具有散射光线的能力，会使得更多的光出射到空气中，从而提高器件的发光效率。
虽然已经参照特定实施例示出并描述了本发明，但是本领域的技术人员将理解：在不脱离由权利要求及其等同物限定的本发明的精神和范围的情况下，可在此进行形式和细节上的各种变化。
Claims (10)
1.一种顶发射OLED结构，包括OLED，其特征在于，所述顶发射OLED结构还包括：设置于所述OLED上的多层阻隔层以及设置于每相邻的两层阻隔层之间的缓冲层，每层阻隔层均具有阻隔水汽和氧气的能力，至少一层缓冲层具有散射光线的能力。
2.根据权利要求1所述的顶发射OLED结构，其特征在于，所述阻隔层的数量为三层，所述缓冲层的数量为两层。
3.根据权利要求1或2所述的顶发射OLED结构，其特征在于，所述缓冲层具有已结晶的材料，所述已结晶的材料为玻璃化转变温度为50°～100°且能够与有机溶剂互溶的有机材料。
4.根据权利要求1或2所述的顶发射OLED结构，其特征在于，所述OLED为叠层OLED，所述叠层OLED包括：
基板；
在基板上的阳极；
在阳极上的空穴传输层；
在空穴传输层上的第一颜色发光层；
在第一颜色发光层上的电荷产生层；
在电荷产生层上的第二颜色发光层；
在第二颜色发光层上的电子传输层；以及
在电子传输层上的阴极。
5.根据权利要求4所述的顶发射OLED结构，其特征在于，所述叠层OLED包括：
在所述阳极与所述空穴传输层之间的空穴注入层；以及
在所述电子传输层与所述阴极之间的电子注入层。
6.一种顶发射OLED结构的制作方法，其特征在于，包括：
形成OLED；
在所述OLED上形成多层阻隔层以及位于每相邻的两层阻隔层之间的缓冲层；其中，每层阻隔层均具有阻隔水汽和氧气的能力，至少一层缓冲层具有散射光线的能力。
7.根据权利要求6所述的顶发射OLED结构的制作方法，其特征在于，所述阻隔层和所述缓冲层的形成方法具体为：
在所述OLED上顺序形成一层所述阻隔层、一层所述缓冲层、一层所述阻隔层、一层所述缓冲层、一层所述阻隔层。
8.根据权利要求6或7所述的顶发射OLED结构的制作方法，其特征在于，所述缓冲层具有已结晶的材料，所述已结晶的材料为玻璃化转变温度为50°～100°且能够与有机溶剂互溶的有机材料。
9.根据权利要求6或7所述的顶发射OLED结构的制作方法，其特征在于，所述OLED为叠层OLED，形成所述叠层OLED的方法包括：
提供一基板；
在基板上形成阳极；
在阳极上形成空穴传输层；
在空穴传输层上形成第一颜色发光层；
在第一颜色发光层上形成电荷产生层；
在电荷产生层上形成第二颜色发光层；
在第二颜色发光层上形成电子传输层；
在电子传输层上形成阴极。
10.根据权利要求9所述的顶发射OLED结构的制作方法，其特征在于，形成所述叠层OLED的方法还包括：
在所述阳极与所述空穴传输层之间形成空穴注入层；
在所述电子传输层与所述阴极之间形成电子注入层。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20161207 |
|
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |