CN106158906A - 显示面板结构及制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种显示面板结构及制作方法，该显示面板结构包括薄膜晶体管阵列基板、设于所述薄膜晶体管阵列基板上的下电极层、设于所述下电极层上的发光层、设于所述发光层之上的上电极层、设于所述上电极层上的折射率匹配层、以及封装基板，所述薄膜晶体管阵列基板与所述封装基板之间设有封装结构，所述折射率匹配层包括第一有机材料层，所述第一有机材料层的玻璃化转变温度小于等于80℃，所述第一有机材料层的表面形成有穹顶状凸起结构。采用穹顶状凸起结构的有机材料层与氮气层相接，可以减少折射率匹配层与氮气层表面的全反射现象，提升光的取出效率。
Description
技术领域
本发明涉及显示领域，尤其涉及一种显示面板结构及制作方法。
背景技术
OLED(Organic Light-Emitting Diode)即有机发光二极管。OLED具有自发光的特性，采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基板，当电流通过时，有机材料就会发光，而且OLED显示屏幕可视角度大，并且能够显著节省电能，因此现在OLED的应用越来越广泛。AMOLED(Active MatrixOrganic Light Emitting Diode，有源矩阵显示面板面板)相比传统的液晶面板，具有反应速度快、对比度高、视角广等特点。另外AMOLED还具有自发光的特色，不需使用背光板，因此比传统的液晶面板更轻薄，还可以省去背光模块的成本。多方面的优势使其具有良好的应用前景。
OLED和AMOLED的显示面板在现有结构中，因后续封装时，折射率匹配层和氮气层接触，氮气的折射率约为1，而折射率匹配层的折射率高于1，故在氮气层界面会存在全反射现象，造成了显示面板的出光损耗，使得显示面板的出光效率较低。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的缺陷，提供显示面板结构及制作方法，可以解决现显示面板结构中存在的因全反射现象造成的出光效率较低的问题。
实现上述目的的技术方案是：
本发明一种显示面板结构，包括薄膜晶体管阵列基板、设于所述薄膜晶体管阵列基板上的下电极层、设于所述下电极层上的发光层、设于所述发光层之上的电极层、设于所述电极层上的折射率匹配层、以及封装基板，所述薄膜晶体管阵列基板与所述封装基板之间设有封装结构，所述折射率匹配层包括第一有机材料层，所述第一有机材料层的玻璃化转变温度小于等于80℃，所述第一有机材料层的表面形成有穹顶状凸起结构。
采用穹顶状凸起结构的有机材料层作为折射率匹配层，，可以减少现有结构中存在的全反射现象，提升光的取出效率。
本发明显示面板结构的进一步改进在于，所述折射率匹配层还包括设于所述第一有机材料层之下的第二有机材料层，所述第二有机材料层的玻璃化转变温度大于等于100℃。
本发明显示面板结构的进一步改进在于，所述第二有机材料层的折射率高于所述第一有机材料层的折射率。
本发明显示面板结构的进一步改进在于，所述第一有机材料层的材料为TPD。
本发明显示面板结构的进一步改进在于，所述第二有机材料层的材料为MADN。
本发明一种显示面板的制作方法，包括：
于薄膜晶体管阵列基板之上制作下电极层；
于所述下电极层之上制作发光层；
于所述发光层之上制作上电极层；
于所述上电极层之上制作折射率匹配层，所述折射率匹配层包括通过蒸镀玻璃化转变温度小于等于80℃的有机材料形成的第一有机材料层；
对所述第一有机材料层进行80℃退火3小时以形成穹顶状凸起结构；
于所述第一有机材料层之上盖设封装基板，于所述封装基板与所述薄膜晶体管阵列基板之间涂设封装结构，以封装所述封装基板与所述薄膜晶体管阵列基板。
本发明显示面板的制作方法的进一步改进在于，所述折射率匹配层还包括设于所述第一有机材料层之下的第二有机材料层，所述第二有机材料层采用玻璃化转变温度大于等于100℃的材料制作形成。
本发明显示面板的制作方法的进一步改进在于，所述第二有机材料层的折射率高于所述第一有机材料层的折射率。
本发明显示面板的制作方法的进一步改进在于，所述第二有机材料层的材料为MADN。
本发明显示面板的制作方法的进一步改进在于，所述第一有机材料层的材料为TPD。
附图说明
图1为本发明显示面板结构的第一实施例的结构示意图；以及
图2为本发明显示面板结构的第二实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明。
本发明提供了一种显示面板结构及制作方法，涉及OLED显示面板和AMOLED显示面板结构，用于提高显示面板的出光效率，采用玻璃化转变温度(Tg)较低的材料制作折射率匹配层(IML)，形成了具有穹顶状凸起(Domelike)结构的第一有机材料层，该穹顶状凸起结构使得其与氮气层表面的全反射减少，可有效提高显示面板的出光效率。另外，通过在第一有机材料层之下设置第二有机材料层，第二有机材料层采用玻璃化温度较高的材料制作而成，由于第二有机材料层的折射率高于第一有机材料层的折射率，有助于光的提出，进一步提高显示面板的出光效率。下面结合附图对本发明显示面板结构及制作方法进行说明。
如图1所示，显示了本发明AMOLED显示面板结构的第一实施例的结构示意图。下面结合图1，对本发明AMOLED显示面板结构进行说明。
如图1所示，本发明AMOLED显示面板结构包括设于薄膜晶体管阵列基板11之上的下电极层10、设于下电极层10之上的有机发光层12、设于有机发光层12之上上电极层13、折射率匹配层14、氮气层15、以及封装基板16，在薄膜晶体管阵列基板11和封装基板16之间设有封装结构17，通过封装结构17将显示面板封装。较佳地，该上电极层13为阴极层，下电极层10为阳极层。在本实施例中，折射率匹配层14包括第一有机材料层，该第一有机材料层的玻璃化转变温度小于等于80℃，且表面形成有穹顶状凸起(Domelike)结构143。第一有机材料层的顶面为穹顶状凸起结构143，该穹顶状凸起结构使得其与氮气层15的界面处的全反射减少，有效提升光的去除效率，增加显示面板的出光率。
如图2所示，显示了本发明显示面板结构的第二实施例的结构示意图。下面结合图2，对本发明显示面板结构进行说明。
如图2所示，本发明显示面板结构的第二实施例与第一实施例相比，折射率匹配层还包括设于第一有机材料层141之下的第二有机材料层142，该第二有机材料层142的玻璃化转变温度大于等于100℃。该第二有机材料层142的折射率高于所述第一有机材料层141的折射率并介于第一有机材料层141的折射率以及上电极层13的折射率之间，可进一步的提高光的提出，提高显示面板的出光效率。
作为本发明的一较佳实施方式，第二有机材料层采用折射率大于1.9，玻璃化转变温度大于110℃的材料制成，较佳地，采用联苯二胺系列，折射率大于1.9，玻璃化转变温度在130℃左右，通式如下：
第一有机材料层采用折射率小于1.8，玻璃化转变温度小于等于80℃的材料制成，进行热处理后，第一有机材料层的表面就会形成穹顶状凸起结构，有效减少其与氮气层表面的全反射，提高了显示面板的出光效率。第一有机材料层的材料可以选择NPB(N,N′-二(1-萘基)-N,N′-二苯基-1,1′-联苯-4-4′-二胺)、TPD(三苯基二胺衍生物)材料，玻璃化转变温度小于80℃，折射率在1.7左右。
第二有机材料层的材料可以选择MADN(二(2-萘基)蒽)材料。
本发明显示面板结构通过设置第一有机材料层，该第一有机材料层与氮气层相邻设置，该第一有机材料层为穹顶状凸起结构，采用穹顶状凸起结构使得其与氮气表面的全反射减小，提高显示面板的光取出效率。第二有机材料层采用比第一有机材料层的折射率高，玻璃化转变温度高的有机材料，更加有助于显示面板结构的光的提出，进一步地提高显示面板的光取出效率。
下面对本发明显示面板的制作方法进行说明。
如图1所示，本发明一种显示面板的制作方法包括：
于薄膜晶体管阵列基板11之上制作下电极层10；
于下电极层10之上制作发光层12；
于发光层12之上制作上电极层13，可以采用蒸镀方式制作上电极层13；
于上电极层13之上制作折射率匹配层14，该折射率匹配层14包括通过蒸镀玻璃化转变温度小于等于80℃的有机材料形成的第一有机材料层；
对第一有机材料层进行80℃退火3小时以形成穹顶状凸起结构，143由于第一有机材料层的玻璃化转变温度较低，其改变形貌需要一定的时间，故选择热退火3小时，退火温度过高会对显示面板器件造成损伤，故而选择在80℃进行热退火；
于第一有机材料层之上盖设封装基板16，在封装基板16和薄膜晶体管阵列基板11之间涂设封装结构17，通过封装结构17将显示面板封装起来。较佳地，在封装之前，于封装基板16和第一有机材料层之间填充氮气以形成氮气层15，该穹顶状凸起结构的第一有机材料层，能减小其与氮气层15表面的全反射，有效提高显示面板的出光效率。
作为本发明显示面板的制作方法的一较佳实施方式，折射率匹配层14还包括设于第一有机材料层141之下的第二有机材料层142，该第二有机材料层142采用玻璃化转变温度大于等于100℃的材料制作形成。且第二有机材料层142的折射率高于第一有机材料层的折射率。光从折射率高的层设于折射率低的层会有助于光的提出，因此，第二有机材料层142的设于第一有机材料层141之下，可进一步地提高显示面板的出光效率。较佳地，该第二有机材料层142的折射率高于所述第一有机材料层141的折射率并介于第一有机材料层141的折射率以及上电极层13的折射率之间，可进一步的提高光的提出，提高显示面板的出光效率。
作为本发明的一较佳实施方式，第二有机材料层采用折射率大于1.9，玻璃化转变温度大于110℃的材料制成，较佳地，采用联苯二胺系列，折射率大于1.9，玻璃化转变温度在130℃左右，通式如下：
第一有机材料层采用折射率小于1.8，玻璃化转变温度小于等于80℃的材料制成，进行热处理后，第一有机材料层的表面就会形成穹顶状凸起结构，有效减少其与氮气层表面的全反射，提高了显示面板的出光效率。第一有机材料层的材料可以选择NPB(N,N′-二(1-萘基)-N,N′-二苯基-1,1′-联苯-4-4′-二胺)、TPD材料，玻璃化转变温度小于80℃，折射率在1.7左右。
第二有机材料层的材料可以选择MADN材料。
本发明显示面板的制作方法的有益效果为：
采用玻璃化转变温度较低的材料制作折射率匹配层，通过热退火使其具有穹顶状凸起结构，减少其与氮气层表面的全反射现象，提高光的取出效率。采用在玻璃化转变温度较低的有机材料层之下制作玻璃化转变温度较高的有机材料层，可进一步地提高显示面板的出光效率。且本发明显示面板的制作方法方便易行，且成本低。
以上结合附图实施例对本发明进行了详细说明，本领域中普通技术人员可根据上述说明对本发明做出种种变化例。因而，实施例中的某些细节不应构成对本发明的限定，本发明将以所附权利要求书界定的范围作为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种显示面板结构，其特征在于，包括薄膜晶体管阵列基板、设于所述薄膜晶体管阵列基板上的下电极层、设于所述下电极层上的发光层、设于所述发光层之上的上电极层、设于所述上电极层上的折射率匹配层、以及封装基板，所述薄膜晶体管阵列基板与所述封装基板之间设有封装结构，所述折射率匹配层包括第一有机材料层，所述第一有机材料层的玻璃化转变温度小于等于80℃，所述第一有机材料层的表面形成有穹顶状凸起结构。
2.如权利要求1所述的显示面板结构，其特征在于，所述折射率匹配层还包括设于所述第一有机材料层之下的第二有机材料层，所述第二有机材料层的玻璃化转变温度大于等于100℃。
3.如权利要求2所述的显示面板结构，其特征在于，所述第二有机材料层的折射率高于所述第一有机材料层的折射率。
4.如权利要求1至3任一项所述的显示面板结构，其特征在于，所述第一有机材料层的材料为TPD。
5.如权利要求2或3所述的显示面板结构，其特征在于，所述第二有机材料层的材料为MADN。
6.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：于薄膜晶体管阵列基板之上制作下电极层；
于所述下电极层之上制作发光层；
于所述发光层之上制作上电极层；
于所述上电极层之上制作折射率匹配层，所述折射率匹配层包括通过蒸镀玻璃化转变温度小于等于80℃的有机材料形成的第一有机材料层；
对所述第一有机材料层进行80℃退火3小时以形成穹顶状凸起结构；
于所述第一有机材料层之上盖设封装基板，于所述封装基板与所述薄膜晶体管阵列基板之间涂设封装结构，以封装所述封装基板与所述薄膜晶体管阵列基板。
7.如权利要求6所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述折射率匹配层还包括设于所述第一有机材料层之下的第二有机材料层，所述第二有机材料层采用玻璃化转变温度大于等于100℃的材料制作形成。
8.如权利要求7所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第二有机材料层的折射率高于所述第一有机材料层的折射率。
9.如权利要求7或8所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第二有机材料层的材料为MADN。
10.如权利要求6至8任一项所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一有机材料层的材料为TPD。
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