CN106155369A

CN106155369A - 触摸屏及其制作方法

Info

Publication number: CN106155369A
Application number: CN201510127414.5A
Authority: CN
Inventors: 罗丽; 陈建通
Original assignee: Nanchang Ofilm Display Tech Co ltd; Suzhou OFilm Tech Co Ltd; Shenzhen OFilm Tech Co Ltd
Current assignee: Anhui Jingzhuo Optical Display Technology Co Ltd
Priority date: 2015-03-23
Filing date: 2015-03-23
Publication date: 2016-11-23

Abstract

本发明涉及一种触摸屏，包括保护盖板；设置在保护盖板底面的第一导电层，所述第一导电层包括图案化的第一电极；基质，粘接在第一导电层上；以及第二导电层，包括载体以及嵌设在载体内的纳米导电丝线，所述载体的材质与基质的材质相同，所述纳米导电丝线相互交错搭接，所述第二导电层被图案化形成第二电极，所述基质将第一电极与第二电极电性隔绝。该触摸屏借助基质无需使用光学胶，可减小厚度，另外第一导电层和第二导电层的不同类型的搭配可提升光学效果。本发明还提供一种触摸屏的制作方法。

Description

触摸屏及其制作方法

技术领域

本发明涉及触控技术领域，特别是涉及一种触摸屏及其制作方法。

背景技术

触摸屏，又称触控面板(touch panel)，是可接收触摸输入信号的感应式装置。触摸屏赋予了信息交互崭新的面貌，是极富吸引力的全新信息交互设备。触摸屏技术的发展引起了国内外信息传媒界的普遍关注，已成为光电行业异军突起的朝阳高新技术产业。

现有的触摸屏结构大致有G+G(盖板玻璃+触控玻璃)、G1F(Hybrid，盖板玻璃和触控膜上各形成一层电极)、GFF(Film sensor，双层触控膜)、OGS(One Glass Solution)、TOL(Touch On Lens)、In cell等类型。其中G+G又分为Dito(触控玻璃上下面各形成一层电极)、Sito(触控玻璃形成两层电极其间采用架桥)、Mastouch(盖板玻璃和触控玻璃各形成一层电极)几个类型。

上述不论哪种类型，都有其自身的缺陷。例如，G+G因采用双层玻璃，较难实现终端产品的轻薄化，其中形成电极时还需要多次采用黄光制程，复杂程度高，成本大。G1F和GFF等触控膜类型制作工艺复杂，膜的部分较难实现低阻值，难以制作大尺寸的触控屏。OGS和TOL在不同文献中有不同理解，有的将OGS理解为TOL的一种，有的视OGS与TOL为等同，无论何种分类方法，其制作工艺都有复杂和成本高的缺失，且具有跳线可视的障碍。In cell是指将触控电极整合设置在显示器的液晶层内，同样具有工艺复杂和成本高的缺失。

发明内容

基于此，有必要针对上述缺陷提供一种综合性能优异的触摸屏及其制作方法，其可解决工艺复杂、厚度太大以及制作尺寸受限等问题。

一种触摸屏，包括：

保护盖板；

设置在保护盖板底面的第一导电层，所述第一导电层包括图案化的第一电极；

基质，粘接在第一导电层上；以及

第二导电层，包括载体以及嵌设在载体内的纳米导电丝线，所述载体的材质与基质的材质相同，所述纳米导电丝线相互交错搭接，所述第二导电层被图案化形成第二电极，所述基质将第一电极与第二电极电性隔绝。

在其中一个实施例中，所述保护盖板为玻璃盖板，所述第一导电层为ITO导电层、金属网格导电层、石墨烯导电层、碳纳米管导电层或导电高分子导电层。

在其中一个实施例中，还包括设置在保护盖板底面的遮光层，所述遮光层位于第一导电层的外围的一侧或多侧。

在其中一个实施例中，还包括与第一电极连接的第一导电迹线，与第二电极连接的第二导电迹线，以及柔性电路板，所述第一导电迹线及第二导电迹线与同一柔性电路板电连接。

在其中一个实施例中，所述第一导电迹线及第二导电迹线被引至触摸屏的同一侧。

在其中一个实施例中，还包括覆盖第二电极的保护层，所述保护层覆盖部分的第一导电迹线及部分的第二导电迹线。

一种触摸屏的制作方法，包括：

提供保护盖板，并在保护盖板的底面设置透明的图案化的第一导电层；

提供干膜，干膜由流体状的透明感光树脂预固化及压制而形成，干膜的透明感光树脂为半固态，干膜自一侧表面的一定厚度范围内嵌入纳米导电丝线而形成透明的导电层，干膜未嵌入纳米导电丝线的区域形成透明粘结层，导电层和透明粘结层的表面均设置有保护膜；

去除透明粘结层的表面的保护膜，并将透明粘结层设置在保护盖板的底面和第一导电层上，对干膜进行图案化处理，以使导电层形成图案化的第二导电层；以及

对干膜进行固化，使透明粘结层形成基质，基质与保护盖板的底面及第一导电层粘接。

在其中一个实施例中，还包括在保护盖板的底面形成遮光层的步骤。

在其中一个实施例中，还包括设置第一导电迹线、第二导电迹线及柔性电路板的步骤，所述第一导电迹线与第一导电层电连接，所述第二导电迹线与第二导电层电连接，所述第一导电迹线及第二导电迹线引至触摸屏的同一侧，并均与所述柔性电路板电连接。

在其中一个实施例中，对干膜进行图案化处理的步骤中，形成该干膜的透明感光树脂为正性感光树脂，通过一次曝光显影的步骤对该干膜进行图案化，在曝光之前还包括去除导电层的表面的保护膜的步骤。

在其中一个实施例中，对干膜进行图案化处理的步骤中，形成该干膜的透明感光树脂为自由基光引发体系负性感光树脂，通过两次曝光并显影的步骤对该干膜进行图案化，其中第一次曝光时保留导电层的表面的保护膜，第二次曝光时去除导电层的表面的保护膜。

在其中一个实施例中，还包括在第二导电层上设置保护层的步骤。

上述触摸屏由于第二导电层通过基质与第一导电层、保护盖板进行粘接，无需再使用另外的光学胶层，减少了传统触摸屏制作过程中的贴合制程，简化了制作工艺，同时也减小了触摸屏的整体厚度。其次，由于第一导电层和第二导电层都可避免使用膜载体，不会受到阻值的限制，可制作更大尺寸的触摸屏。另外，由于第一导电层和第二导电层的第一、第二导电迹线大致形成在同一平面，使得第一、第二导电迹线电连接同一柔性电路板，减少了柔性电路板使用数量，降低了柔性电路板的使用成本，简化邦定工艺，同时通过第一、第二导电迹线的线路设计，也可缩小柔性电路板的齿距间距，释放所占空间。再者，第一导电层采用载体承载式，第二导电层采用载体镶嵌式，与两个导电层均采用载体承载式相比，可节省成本，同时减小触摸屏的整体厚度。而与两个导电层均采用载体镶嵌式相比，由于两个导电层均采用载体镶嵌式，仍然需要一个保护盖板，因而本发明具有更小的厚度，另一方面由于采用载体镶嵌式制作过程需要曝光显影，无疑其中一层会经过至少两次的曝光显影制程，不可避免地对导电层的品质造成影响，第三方面，载体镶嵌式导电层由于透光性较载体承载式导电层弱，本发明采用载体承载式的第一导电层，采用载体镶嵌式的第二导电层，相较于同时采用两个载体镶嵌式导电层具有更好的光学效果。

附图说明

图1为一实施例提供的触摸屏的剖视结构示意图；

图2为一实施例提供的触摸屏的部分结构示意图；

图3为一实施例提供的触摸屏的基质和第二导电层的结构示意图；

图4为一实施例提供的触摸屏的制作方法中提供的干膜的结构示意图；

图5-图7为一实施例提供的触摸屏的制作方法的各步骤示意图；

图8为另一实施例提供的触摸屏的制作方法的其中一步骤示意图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的首选实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。

如图1和图2所示，一实施例提供的触摸屏，从上至下依次包括保护盖板100、第一导电层200、基质301以及第二导电层300。

保护盖板100优选为玻璃盖板，也可为其他合适材料，例如蓝宝石、聚碳酸脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚甲丙烯酸甲脂等。保护盖板100厚度为0.1mm～2.5mm。进一步，在本实施方式中，保护盖板100的厚度优选为0.3mm～0.7mm。保护盖板100的底面102和/或顶面104可通过强化处理，或者经过抗反射、抗眩光处理以形成相应的光学膜层。

第一导电层200设置在保护盖板100的底面102，并经图案化而形成多个第一电极210。第一电极210的形成过程通常是在保护盖板100的底面102以各种方式(例如溅镀、涂布等)形成膜状的第一导电层200，再进行蚀刻，或者曝光/显影等步骤以得到图案化的第一电极210。图2中以相互平行的长条形状示出部分的第一电极210。可以理解第一电极210的形状以及分布样态不限于图2中所示情形。第一导电层200为ITO导电层。可以理解，在其他实施方式中，第一导电层200也可以是金属网格导电层、石墨烯导电层、碳纳米管导电层或导电高分子导电层。

请同时参考图3，基质301为流体状的或半固态的透明感光树脂经过固化处理而得到，基质301本身不导电。

所述第二导电层300包括载体305以及嵌设在载体305中的纳米导电丝线303。其中载体305与基质301材料相同。因此也可以将载体305看成是基质301的一部分，在制作该第二导电层300时，可将纳米导电丝线303嵌设在基质301的第一表面302，所述纳米导电丝线303的嵌设深度小于基质301的厚度。所述纳米导电丝线303相互交错搭接，所述载体305及纳米导电丝线303被图案化形成第二电极310(图2)，所述基质301的第二表面304直接与第一导电层200粘接。

第一导电层200与第二导电层300之间通过基质301相互电性隔绝。第一导电层200中的第一电极210及第二导电层300中的第二电极310之间形成互电容，通过电路板等功能元件检测第一、第二电极210、310之间的电容变化，以实现触摸定位的功能。

第二电极310的厚度d(也即第二导电层300的厚度)范围可以为10nm～1000nm。具体到本实施方式中，纳米导电丝线303的直径为10nm～1000nm，长度为20nm～50μm。由于纳米导电丝线303的直径小于肉眼的可视宽度，从而保证第二电极310的视觉透明性。纳米导电丝线303可以为金纳米丝线、银纳米丝线、铜纳米丝线、铝纳米丝线、碳纳米丝线等易于制备且具有较好导电性能的导电丝线。具体到本实施方式中，纳米导电丝线303采用银纳米丝线。

具体到本实施方式中，第二电极310的方阻为0.1Ω/□～500Ω/□，相较于ITO导电层具有更好的导电性，更适合用于制作如平板电脑(Tablet Personal Computer)、一体机(All in one，AIO)、笔记本(Note Book)等尺寸较大的触控产品。

第二电极310的导电性与纳米导电丝线303的直径及纳米导电丝线303分布密度相关，直径越大，分布密度越大，则导电性越好，即方阻越低。然而，纳米导电丝线303的直径越大、分布密度越大，第二电极310的透过率越低。因此，为了保证透过率和导电性的平衡，第二电极310的方阻优选为50Ω/□～200Ω/□。

具体到本实施方式中，部分纳米导电丝线303露出基质301的第一表面302(也即载体305的第一表面302)，以使得第一表面302整面导电。虽然部分纳米导电丝线303暴露在载体305(基质301)外，但是纳米导电丝线303交错连接形成的导电网格的主体部分还是被基质301包覆，因此，相对于传统的触控屏具有更好的抗氧化及抗划伤能力。

基质301的厚度D为0.05μm～10μm。在设计基质301的厚度时，需要考虑纳米导电丝线303是否能较好的嵌入基质301中以及触摸屏的整体厚度等因素。在综合上述因素后，基质301的厚度优选为0.08μm～2μm。

因基质301自身具有粘性，因此第二导电层300与第一导电层200的结合无需另外采用传统的光学胶，而可直接将基质301通过固化压合的方式与第一导电层200结合。

为防止第二导电层300在生产和使用过程中被刮伤，还在第二导电层300的表面，也即载体305的第一表面302设置保护层400，该保护层400覆盖第二电极310以对第二电极310进行保护。在本实施方式中，保护层400的材质为热固化树脂、紫外固化树脂等绝缘材质。

进一步地，该触摸屏还包括设置在保护盖板100底面102的遮光层105，所述遮光层105位于第一导电层200的外围的一侧或多侧。依据第一导电层200、第二导电层300的厚度以及遮光层105的厚度关系，可在保护盖板100的底面102上设置一个或两个或多个遮光层105。

进一步地，该触摸屏还包括与第一电极210连接的第一导电迹线212。第一导电迹线212可由银等导电材料制成，并通过印刷的方式与第一导电层200的第一电极210达成电连接。第一导电迹线212设置在遮光层105上并被遮光层105遮挡，因而不会被使用者观察到。

进一步地，该触摸屏还包括与第二电极310连接的第二导电迹线312。第二导电迹线312的材质与形成方式可与第一导电迹线212的相同。由于基质301、第二导电层300具有较小厚度，可以通过印刷的方式直接跨越第二导电层200与遮光层105之间的断层，将第二导电迹线312与第二导电层300形成电连接。

可以理解，在形成第一导电迹线212时，若遮光层105与第一导电层200之间的断层较大，可先在第一导电层200上形成导电柱213，以减小断层，从而便于第一导电迹线212的印刷。

进一步地，该触摸屏还包括柔性电路板500，柔性电路板500通过异方性导电胶膜501(Anisotropic Conductive Film；ACF)粘接在第一导电迹线212上，以与第一导电迹线212形成电连接，并且所述第二导电迹线312亦与同一柔性电路板500电连接。如图2中所示，可将第一、第二导电迹线212、312引至触摸屏的同一侧，以方便该同一柔性电路板500与第一、第二导电迹线212、312的电连接。

本发明提供的触摸屏，由于第二导电层300透过基质301与第一导电层200进行粘接，无需再使用另外的光学胶层，减少了传统触摸屏制作过程中的贴合制程，简化了制作工艺，同时也减小了触摸屏的整体厚度。其次，由于第一导电层200和第二导电层300都可避免使用膜载体，不会受到阻值的限制，可制作更大尺寸的触摸屏。另外，由于第一导电层200和第二导电层300的第一、第二导电迹线212、312大致形成在同一平面，使得第一、第二导电迹线212、312电连接同一柔性电路板500，减少了柔性电路板使用数量，降低了柔性电路板的使用成本，简化邦定工艺，同时通过第一、第二导电迹线212、312的线路设计，也可缩小柔性电路板的齿距间距，释放所占空间。再者，第一导电层200采用载体承载式，第二导电层300采用载体镶嵌式，与两个导电层均采用载体承载式相比，可节省成本，同时减小触摸屏的整体厚度。而与两个导电层均采用载体镶嵌式相比，由于两个导电层均采用载体镶嵌式，仍然需要一个保护盖板，因而本发明具有更小的厚度，另一方面由于采用载体镶嵌式制作过程需要曝光显影(此在下文中本发明的触摸屏的制作方法中将有详细说明)，无疑其中一层会经过至少两次的曝光显影制程，不可避免地对导电层的品质造成影响，第三方面，载体镶嵌式导电层由于透光性较载体承载式导电层弱，本发明采用载体承载式的第一导电层200，采用载体镶嵌式的第二导电层300，相较于同时采用两个载体镶嵌式导电层具有更好的光学效果。

本发明还提供上述触摸屏的制作方法，具体步骤如下。

提供保护盖板100。保护盖板100优选为玻璃盖板，也可为其他合适材料，例如蓝宝石、聚碳酸脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚甲丙烯酸甲脂等。保护盖板100厚度为0.1mm～2.5mm。进一步，在本实施方式中，保护盖板100的厚度优选为0.3mm～0.7mm。保护盖板100的底面102和/或顶面104可通过强化处理，或者经过抗反射、抗眩光处理以形成相应的光学膜层。

在保护盖板100的底面102上形成第一导电层200，并形成图案化的多个第一电极210。在一实施例中，第一导电层200为ITO导电层，并经蚀刻形成图案化的多个第一电极210。

可以理解在一些实施例中，在形成第一导电层200之前或之后，可在保护盖板100的底面102上视具体需求形成一层或两层或多层的遮光层105。

如图4所示，提供一干膜500，干膜500由流体状的透明感光树脂预固化及压制而形成，干膜500的透明感光树脂为半固态，干膜500自一侧表面的一定厚度范围内嵌入纳米导电丝线而形成透明的导电层520，干膜500未嵌入纳米导电丝线的区域形成透明粘结层510，导电层520表面设置有保护膜530，透明粘结层510表面设置有保护膜540。

其中，半固态的透明感光树脂包括如下重量份数的各组分：60～80份成膜树脂、1～10份感光剂、5～20份溶剂、0.1～5份稳定剂、0.1～5份流平剂、0.1～5份消泡剂，各组分的份数之和为100。

固化的透明感光树脂包括如下重量份数的各组分：30～50份成膜树脂、1～10份感光剂、0.1～5份稳定剂、0.1～5份流平剂及0.1～5份消泡剂。

成膜树脂为聚甲基丙烯酸甲酯、线性酚醛树脂、环氧树脂、巴豆酸、丙烯酸酯、乙烯基醚与丁烯酸甲酯中的至少一种。感光剂为重氮苯醌、重氮萘醌酯、聚乙烯醇肉桂酸酯、聚肉桂叉丙二酸乙二醇酯聚酯、芳香重氮盐、芳香硫鎓盐、芳香碘鎓盐与二茂铁盐中的至少一种。溶剂为四氢呋喃、甲基乙基酮、环己酮、丙二醇、N,N-二甲基甲酰胺、乙二醇乙醚乙酸酯、乙酸乙酯与乙酸丁酯、甲苯、二甲苯、三丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、聚二季戊四醇六丙烯酸酯、1,6-己二醇甲氧基单丙烯酸酯与乙氧基化新戊二醇甲氧基单丙烯酸酯中的至少一种。稳定剂为对苯二酚、对甲氧基苯酚、对苯醌、2,6一二叔丁基甲苯酚、酚噻嗪与蒽醌中的至少一种。流平剂为聚丙烯酸酯、醋酸丁酸纤维、硝化纤维素与聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种。消泡剂为磷酸酯、脂肪酸酯与有机硅的至少一种。

如图5所示，去除透明粘结层510表面的保护膜540，将干膜500贴合于图案化的第一导电层200上。由于干膜500自身具有粘性，因此可使透明粘结层510直接贴附于图案化的第一导电层200上。导电层520位于干膜500远离保护盖板100的一侧。

由于保护膜540需要先于保护膜530撕除，以便将干膜500热压贴合于保护盖板100上。因此，在设计保护膜530与保护膜540时，使得透明粘结层510与保护膜540之间的粘性力低于导电层520与保护膜530之间的粘性力。

接下来，对干膜500进行图案化处理，以使导电层520形成图案化的第二电极312。

具体地，如图5-7所示，在本实施方式中，形成该干膜500的透明感光树脂为自由基光引发体系负性感光树脂，即，光照处发生化学聚合反应而不溶于显影液，但该感光树脂在空气中发生聚合反应时，会产生氧阻效应。本实施方式中采用两次曝光方式对干膜500进行曝光。在第一次曝光时，干膜500的导电层520表面还设置有保护膜530，先不去除该保护膜530，使得干膜500表面隔绝空气，此时因为透明粘结层510已经贴附在保护盖板100上，所以也与氧气隔绝。采用根据第二电极312的形状选择的掩膜板600对干膜500进行曝光，使得干膜500被光照的图案部产生聚合反应。然后去除掩膜板600以及设置于干膜500表面的保护膜530。直接对干膜500进行第二次曝光，此时，对于第一次曝光未被光照的区域，表面由于跟空气接触，由于氧阻效应使得干膜500暴露在空气中的表面反应不完全而可以被显影液溶蚀，而表面以下的部分，由于不跟空气接触，可以发生化学聚合反应而不被显影液溶蚀。第二次曝光的能量越大，其表面以下发生化学聚合反应的区域越厚。因此，可以通过调节曝光能量，既能使导电层520中除第二电极以外的部分能被显影液完全溶蚀，又能减小图案部与背景部的高度差，避免图案不容易被辨识。

如图8所示，在其他实施方式中，形成该干膜500的透明感光树脂为正性感光树脂基质。即，光照处溶于显影液。在对干膜500进行曝光之前，还包括去除导电层520表面的保护膜530的步骤。然后采用根据第二电极的形状进行选择的掩膜板进行曝光。因为光照处溶于显影液，所以要保留第二电极的图形时，应采用与第二电极形状互补的掩膜板进行曝光。在本实施方式中，可以通过调整曝光能量调节反应深度，从而减小保留的图案部与溶于显影液的背景部的高度差，避免图案不容易被辨识。

对干膜500进行曝光的过程中，曝光波长为300nm～400nm，曝光能量为10mJ/cm²～500mJ/cm²。对经过曝光后的干膜进行显影的过程中，采用质量分数为0.1％～10％的弱碱盐溶液进行显影。弱碱盐可以为碳酸钾、碳酸钠等。

然后，对干膜500进行固化，使透明粘结层510形成所述基质301。

可以采用热固化或者UV固化的方式：采用热固化方式固化时，热固化的温度为80℃～150℃，固烤时间为10min～60min。采用UV固化方式固化时，UV固化能量为200mJ/cm²～2000mJ/cm²。透明感光树脂处于流体状态或半固化状态时具有感光性能，透明感光树脂处于固化状态时不具有感光性能。

固化后的导电层520及透明粘结层510即为如图1中所示的第二导电层300及基质301。

进一步地，还包括形成第一导电迹线212和第二导电迹线312的步骤，第一导电迹线212与第一电极210电连接，第二导电迹线312与第二电极310电连接。

进一步地，还包括提供柔性电路板500，将柔性电极板500同时与第一、第二导电迹线212、312电连接的步骤。

进一步地，还包括在第二导电层300的表面设置保护层400的步骤。保护层400可覆盖部分第一、第二导电迹线212、312。

以上实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims

1.一种触摸屏，其特征在于包括：

保护盖板；

基质，粘接在第一导电层上；以及

2.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述保护盖板为玻璃盖板，所述第一导电层为ITO导电层、金属网格导电层、石墨烯导电层、碳纳米管导电层或导电高分子导电层。

3.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，还包括设置在保护盖板底面的遮光层，所述遮光层位于第一导电层的外围的一侧或多侧。

4.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，还包括与第一电极连接的第一导电迹线，与第二电极连接的第二导电迹线，以及柔性电路板，所述第一导电迹线及第二导电迹线与同一柔性电路板电连接。

5.根据权利要求4所述的触摸屏，其特征在于，所述第一导电迹线及第二导电迹线被引至触摸屏的同一侧。

6.根据权利要求4所述的触摸屏，其特征在于，还包括覆盖第二电极的保护层，所述保护层覆盖部分的第一导电迹线及部分的第二导电迹线。

7.一种触摸屏的制作方法，其特征在于包括：

8.根据权利要求7所述的触摸屏的制作方法，其特征在于，还包括在保护盖板的底面形成遮光层的步骤。

9.根据权利要求8所述的触摸屏的制作方法，其特征在于，还包括设置第一导电迹线、第二导电迹线及柔性电路板的步骤，所述第一导电迹线与第一导电层电连接，所述第二导电迹线与第二导电层电连接，所述第一导电迹线及第二导电迹线引至触摸屏的同一侧，并均与所述柔性电路板电连接。

10.根据权利要求7所述的触摸屏的制作方法，其特征在于，对干膜进行图案化处理的步骤中，形成该干膜的透明感光树脂为正性感光树脂，通过一次曝光显影的步骤对该干膜进行图案化，在曝光之前还包括去除导电层的表面的保护膜的步骤。

11.根据权利要求7所述的触摸屏的制作方法，其特征在于，对干膜进行图案化处理的步骤中，形成该干膜的透明感光树脂为自由基光引发体系负性感光树脂，通过两次曝光并显影的步骤对该干膜进行图案化，其中第一次曝光时保留导电层的表面的保护膜，第二次曝光时去除导电层的表面的保护膜。

12.根据权利要求10或11所述的触摸屏的制作方法，其特征在于，还包括在第二导电层上设置保护层的步骤。