[go: up one dir, main page]

CN106147616A - 溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法 - Google Patents

溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN106147616A
CN106147616A CN201510223481.7A CN201510223481A CN106147616A CN 106147616 A CN106147616 A CN 106147616A CN 201510223481 A CN201510223481 A CN 201510223481A CN 106147616 A CN106147616 A CN 106147616A
Authority
CN
China
Prior art keywords
acid
polishing fluid
solvent
preparation
aluminum oxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201510223481.7A
Other languages
English (en)
Inventor
高如山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TIANJIN XIMEI SEMICONDUCTOR MATERIAL Co Ltd
Original Assignee
TIANJIN XIMEI SEMICONDUCTOR MATERIAL Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TIANJIN XIMEI SEMICONDUCTOR MATERIAL Co Ltd filed Critical TIANJIN XIMEI SEMICONDUCTOR MATERIAL Co Ltd
Priority to CN201510223481.7A priority Critical patent/CN106147616A/zh
Publication of CN106147616A publication Critical patent/CN106147616A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法,其特征在于:该制备方法首先对氧化铝颗粒进行粒径分级,再加入分散剂对氧化铝表面进行包覆改性,接着加入有机溶剂和氧化剂搅拌均匀,再经超声振动使其充分分散,后用pH调节剂将抛光液的pH调到2.5-12.5,该发明制备的抛光液具有良好的悬浮分散性,可应用于无水环境下,铝合金、铜、不锈钢和蓝宝石衬底抛光,具有抛光效率高,表面粗糙度小,对基片表面损伤小等优点。

Description

溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法
技术领域
本发明涉及表面改性氧化铝抛光液的制备,尤其涉及一种溶剂型抛光液的制备方法。该发明制备的抛光液具有良好的悬浮分散性,可应用于无水环境下,铝合金、铜、不锈钢和蓝宝石衬底抛光,具有抛光效率高,表面粗糙度小,对材料表面损伤小等优点。
背景技术
研磨料的制备和抛光液的分散稳定性是CMP技术的关键,它们直接影响CMP的抛光效果、对基片表面的损伤程度等各项指标。氧化铝是目前广泛采用的磨料,氧化铝硬度仅次于金刚石,而氧化铝的价格为金刚石价格的1/2甚至1/3,因此可替代金刚石抛光液应用于硬质金属及金属合金的抛光工艺,例如铜、铝、不锈钢、铝合金、镍-磷等金属制品的抛光;氧化铝的硬度比硅溶胶的大,其抛光速率高于硅溶胶的抛光速率,因此可替代硅溶胶抛光液应用于半导体单体及半导体化合物抛光工艺,例如硅、砷化镓、蓝宝石、碳化硅、碳化硼等材料的抛光,氧化铝抛光液还可用于绝缘体工件的抛光,例如玻璃、塑料等。
但氧化铝存在分散稳定性不好、易团聚等缺点,导致在抛光中基片的表面划伤严重,损伤层深。为此,本发明对氧化铝表面进行了改性,提高氧化铝粒子的分散稳定性,并配制成溶剂型抛光液。现很多领域应用的都为水性抛光液,对于溶剂型抛光液的报道很少,而部分领域必须采用溶剂型抛光液。
根据上述情况,有必要发明一种溶剂型抛光液,具有良好的悬浮分散性,同时抛光效率高、表面粗糙度小、对材料表面损伤小,适用于无水条件下的抛光要求。
发明内容
本发明的目的在于:提供一种溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法,使改性后的α-氧化铝分散稳定性提高、表面粗糙度降低、对材料表面损伤小,为一种溶剂型氧化铝的抛光液。其原理是利用氧化铝微粒表面的-OH与改性剂中的酸形成具有一定稳定性的共价键和分子间力(氢键、诱导力、色散力和取向力),从而降低了团聚,提高了分散性和溶液的稳定性。采用溶剂型抛光液的目的在于适用于无水条件下的抛光要求。
为了达到上述目的,其具体制备过程如下:该制备方法首先对氧化铝颗粒进行粒径分级,利用液相粒径分级装置的超声振动对抛光液进行粒径分级,改性前的氧化铝颗粒会存在少数小颗粒,对其进行粒径分级可提高抛光精度和最大限度的降低大颗粒对抛光部件的划伤。再加入分散剂(聚丙烯酸及其衍生物或聚丙烯酸及其衍生物和羟基酸的混合物)对氧化铝表面进行包覆改性,接着加入有机溶剂和氧化剂搅拌均匀,再经超声振动使其充分接触,静置24小时,加入高速搅拌机中搅拌混合1-3小时。后用pH调节剂将抛光液的pH调到2.5-12.5,即可得到表面改性氧化铝抛光液。
本发明的抛光液中氧化铝晶型为α型的纳米氧化铝,粒度分布均匀、纯度高、高分散、具有耐高温的惰性。
所述的抛光液混合物的组成为:1-25%的氧化铝抛光粉、60-90%的有机溶剂、0.1-5%的分散剂、0.1-5%的氧化剂。
所述的氧化铝为平均一次粒径为0.5-3μm的α晶型结构的氧化铝。较优的为0.5-3μm的α晶型结构的氧化铝。
所述的分散剂为聚丙烯酸及其衍生物、羟基酸中的一种或两种0.5-2μm的;所述的羟基酸为乳酸、柠檬酸、酒石酸、水杨酸中的一种。
所述的有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、N-甲基吡咯烷酮、乙醇、异丙醇、丙酮、甲基丙烯酸甲酯、乙酸异丙酯、醋酸乙酯中的一种或多种。
本发明抛光液的pH值是通过酸/碱来调节,所述的pH调节剂包括有机酸、无机酸中的一种或多种和有机碱、无机碱中的一种或多种。有机酸包括甲酸、乙酸、丙酸和草酸,无机酸包括磷酸、硫酸、盐酸,有机碱包括一乙醇胺、三乙醇胺,无机碱包括氢氧化钾、氢氧化钠、碳酸钠、氨水、六偏磷酸钠。氧化铝抛光液的pH值时溶液悬浮稳定性的一个重要因素,它决定zata电位的大小。抛光液的pH优选的为2-5,在该范围内抛光液的分散稳定性也最好。
所述的氧化剂为过氧化氢。
具体实施方式
分析步骤:
分散稳定性
采用沉降实验来衡量溶剂型抛光液分散稳定性。将所述抛光液装入带有刻度的量筒中,观察记录不同时间内抛光液的沉淀或分层程度。
实施例:
以下实施例为本发明的进一步描述,其中选取的物料均为质量百分数。
以下实施例为采用N,N-二甲基甲酰胺作为有机溶剂的实施例,N,N-二甲基甲酰胺是很好的极性有机溶剂,能与水、乙醇、氯仿和乙醚等多种有机溶剂混溶,N,N-二甲基甲酰胺中不含活泼氢,能降低链转移反应,并且,25℃时,N,N-二甲基甲酰胺的表面张力为36.2mN/m,几乎为水的表面张力(71.81mN/m)的一半,当它作为抛光液的溶剂时,能使初始的抛光液中的氧化铝抛光颗粒具有有限的收缩性。活性氧化铝易吸湿潮解,使用N,N-二甲基甲酰胺作溶剂,可降低氧化铝的苛刻的干燥要求。
实施例1
首先对氧化铝颗粒进行粒径分级,将1份聚丙烯酸和柠檬酸的混合物、88份N,N-二甲基甲酰胺、10份粒径为0.8μm的氧化铝粉颗粒,1份的过氧化氢,超声0.5小时后,静置24小时,后加入高速搅拌机中搅拌混合1-3小时。用三乙醇胺将pH值调到4.5左右。
实施例2
首先对氧化铝颗粒进行粒径分级,将2份聚丙烯酸、78份N,N-二甲基甲酰胺、20份粒径为0.8μm的氧化铝粉颗粒,1份的过氧化氢,超声0.5小时后,静置24小时,后加入高速搅拌机中搅拌混合1-3小时。用草酸将pH值调到3.0左右。
实施例3
首先对氧化铝颗粒进行粒径分级,将2份柠檬酸和聚丙烯酸的混合物、68份N,N-二甲基甲酰胺、30份粒径为0.8um的氧化铝粉颗粒,1份的过氧化氢,超声0.5小时后,静置24小时,后加入高速搅拌机中搅拌混合1-3小时。用三乙醇胺将pH值调到5.0左右。
以上实施例测得的沉降值的范围为2-4之间。以上实施例制备的抛光液具有优异的分散稳定性,在1个月后沉降值变化不明显。
以上对本发明的具体实施例进行了详细说明,但所述内容仅为本发明的较佳实施例,不能被认为用于限定本发明的实施范围。凡依据本发明的申请范围所作的均等变化和改进等,均应归属于本发明的专利涵盖范围之内。

Claims (8)

1.溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法,其特征在于:该制备方法首先对氧化铝颗粒进行粒径分级,再加入分散剂对氧化铝表面进行包覆改性,接着加入有机溶剂和氧化剂搅拌均匀,再经超声振动使其充分接触,后用pH调节剂将抛光液的pH调到2.5-12.5。
2.根据权利要求1所述的溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法,其特征在于:所述的溶剂型抛光液混合物的组成为:1-25%的氧化铝抛光粉、60-80%的有机溶剂、0.1-5%的分散剂、0.1-5%的氧化剂。
3.根据权利要求1所述的溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法,其特征在于:所述的氧化铝为平均一次粒径为0.5-3μm的α晶型结构的氧化铝。
4.根据权利要求1所述的溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法,其特征在于:所述的分散剂为聚丙烯酸及其衍生物、羟基酸中的一种或两种;所述的羟基酸为乳酸、柠檬酸、酒石酸、水杨酸中的一种。
5.根据权利要求1所述的溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法,其特征在于:所述的有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、N-甲基吡咯烷酮、乙醇、异丙醇、丙酮、甲基丙烯酸甲酯、乙酸异丙酯、醋酸乙酯中的一种或多种。
6.根据权利要求1所述的溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法,其特征在于:所述的pH调节剂包括有机酸、无机酸中的一种或多种和有机碱、无机碱中的一种或多种。有机酸包括甲酸、乙酸、丙酸和草酸,无机酸包括磷酸、硫酸、盐酸,有机碱包括一乙醇胺、三乙醇胺,无机碱包括氢氧化钾、氢氧化钠、碳酸钠、氨水、六偏磷酸钠。
7.根据权利要求1所述的溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法,其特征在于:所述的氧化剂为过氧化氢。
8.根据权利要求1所述的溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法,其特征在于:所述的抛光液中还可适当的加入防腐剂、缓蚀剂。
CN201510223481.7A 2015-04-28 2015-04-28 溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法 Pending CN106147616A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510223481.7A CN106147616A (zh) 2015-04-28 2015-04-28 溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510223481.7A CN106147616A (zh) 2015-04-28 2015-04-28 溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN106147616A true CN106147616A (zh) 2016-11-23

Family

ID=57347602

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510223481.7A Pending CN106147616A (zh) 2015-04-28 2015-04-28 溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106147616A (zh)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108587474A (zh) * 2018-03-25 2018-09-28 湖南皓志科技股份有限公司 一种氧化铝微粉抛光液及其制备方法
CN108997940A (zh) * 2018-06-04 2018-12-14 上海映智研磨材料有限公司 适用于蓝宝石抛光的化学机械抛光液
CN109321141A (zh) * 2018-11-02 2019-02-12 山东天岳先进材料科技有限公司 一种制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法
CN109554119A (zh) * 2018-11-02 2019-04-02 山东天岳先进材料科技有限公司 一种pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液及其应用
CN110256968A (zh) * 2019-05-29 2019-09-20 湖南皓志科技股份有限公司 一种用于铜抛光的氧化铝抛光液及其制备方法
WO2020087721A1 (zh) * 2018-11-02 2020-05-07 山东天岳先进材料科技有限公司 pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液及制备方法和应用
CN111518478A (zh) * 2020-06-15 2020-08-11 宁波日晟新材料有限公司 一种碳化硅抛光液及其应用
CN112341994A (zh) * 2020-12-20 2021-02-09 长沙县新光特种陶瓷有限公司 一种超精密抛光磨料生产方法
CN113499784A (zh) * 2021-08-05 2021-10-15 湖南立晟新材料有限公司 一种多孔氧化铝的配方材料及其制备方法
CN113563803A (zh) * 2021-08-31 2021-10-29 昆山捷纳电子材料有限公司 一种含有氧化铝-碳化硼杂化颗粒的抛光液及其制备方法
CN115851135A (zh) * 2022-11-28 2023-03-28 宁波平恒电子材料有限公司 一种不锈钢抛光液及其制备方法和用途
CN116855176A (zh) * 2023-06-26 2023-10-10 东莞市海发科技发展有限公司 一种金属表面处理抛光液及其制备方法

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0395925A1 (de) * 1989-04-19 1990-11-07 Degussa Aktiengesellschaft Alpha-Aluminiumoxid und Verfahren zu seiner Herstellung
JPH10298500A (ja) * 1997-04-28 1998-11-10 Yokohama Yushi Kogyo Kk 新規床用艶出し剤組成物
CN1654585A (zh) * 2005-01-17 2005-08-17 上海大学 核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法
CN1902292A (zh) * 2003-11-14 2007-01-24 昭和电工株式会社 抛光组合物和抛光方法
CN1955239A (zh) * 2005-10-28 2007-05-02 安集微电子(上海)有限公司 铜的化学机械抛光浆料
CN101087731A (zh) * 2004-12-22 2007-12-12 德古萨有限责任公司 氧化铝粉末、分散体和涂布组合物
CN101368084A (zh) * 2008-09-24 2009-02-18 上海大学 氧化铝/聚苯乙烯磺酸接枝共聚物复合磨粒及其制备方法
CN102115619A (zh) * 2009-12-31 2011-07-06 中国科学院化学研究所 对氧化铝进行表面处理的方法
JP2012000734A (ja) * 2010-06-18 2012-01-05 Yamaguchi Seiken Kogyo Kk 研磨剤組成物および磁気ディスク基板の研磨方法
CN103509470A (zh) * 2013-09-28 2014-01-15 浙江大学 用于超精密抛光的核壳结构复合料浆的制备方法
CN103555272A (zh) * 2013-09-25 2014-02-05 沈阳建筑大学 改性超细氧化铝制备高耐磨性抛光磨料

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0395925A1 (de) * 1989-04-19 1990-11-07 Degussa Aktiengesellschaft Alpha-Aluminiumoxid und Verfahren zu seiner Herstellung
JPH10298500A (ja) * 1997-04-28 1998-11-10 Yokohama Yushi Kogyo Kk 新規床用艶出し剤組成物
CN1902292A (zh) * 2003-11-14 2007-01-24 昭和电工株式会社 抛光组合物和抛光方法
CN101087731A (zh) * 2004-12-22 2007-12-12 德古萨有限责任公司 氧化铝粉末、分散体和涂布组合物
CN1654585A (zh) * 2005-01-17 2005-08-17 上海大学 核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法
CN1955239A (zh) * 2005-10-28 2007-05-02 安集微电子(上海)有限公司 铜的化学机械抛光浆料
CN101368084A (zh) * 2008-09-24 2009-02-18 上海大学 氧化铝/聚苯乙烯磺酸接枝共聚物复合磨粒及其制备方法
CN102115619A (zh) * 2009-12-31 2011-07-06 中国科学院化学研究所 对氧化铝进行表面处理的方法
JP2012000734A (ja) * 2010-06-18 2012-01-05 Yamaguchi Seiken Kogyo Kk 研磨剤組成物および磁気ディスク基板の研磨方法
CN103555272A (zh) * 2013-09-25 2014-02-05 沈阳建筑大学 改性超细氧化铝制备高耐磨性抛光磨料
CN103509470A (zh) * 2013-09-28 2014-01-15 浙江大学 用于超精密抛光的核壳结构复合料浆的制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
陈启元等: "分散剂对氧化铝悬浮液分散稳定性的影响", 《中国粉体技术》 *

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108587474A (zh) * 2018-03-25 2018-09-28 湖南皓志科技股份有限公司 一种氧化铝微粉抛光液及其制备方法
CN108997940B (zh) * 2018-06-04 2021-01-19 上海映智研磨材料有限公司 适用于蓝宝石抛光的化学机械抛光液
CN108997940A (zh) * 2018-06-04 2018-12-14 上海映智研磨材料有限公司 适用于蓝宝石抛光的化学机械抛光液
CN109321141A (zh) * 2018-11-02 2019-02-12 山东天岳先进材料科技有限公司 一种制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法
CN109554119A (zh) * 2018-11-02 2019-04-02 山东天岳先进材料科技有限公司 一种pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液及其应用
WO2020087721A1 (zh) * 2018-11-02 2020-05-07 山东天岳先进材料科技有限公司 pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液及制备方法和应用
CN110256968A (zh) * 2019-05-29 2019-09-20 湖南皓志科技股份有限公司 一种用于铜抛光的氧化铝抛光液及其制备方法
CN111518478A (zh) * 2020-06-15 2020-08-11 宁波日晟新材料有限公司 一种碳化硅抛光液及其应用
CN112341994A (zh) * 2020-12-20 2021-02-09 长沙县新光特种陶瓷有限公司 一种超精密抛光磨料生产方法
CN113499784A (zh) * 2021-08-05 2021-10-15 湖南立晟新材料有限公司 一种多孔氧化铝的配方材料及其制备方法
CN113563803A (zh) * 2021-08-31 2021-10-29 昆山捷纳电子材料有限公司 一种含有氧化铝-碳化硼杂化颗粒的抛光液及其制备方法
CN115851135A (zh) * 2022-11-28 2023-03-28 宁波平恒电子材料有限公司 一种不锈钢抛光液及其制备方法和用途
CN116855176A (zh) * 2023-06-26 2023-10-10 东莞市海发科技发展有限公司 一种金属表面处理抛光液及其制备方法
CN116855176B (zh) * 2023-06-26 2024-03-12 东莞市海发科技发展有限公司 一种金属表面处理抛光液及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106147616A (zh) 溶剂型表面改性氧化铝抛光液的制备方法
CN107312463A (zh) 一种氧化铝抛光液的制作方法
CN103173045B (zh) 一种纳米凹土无机富锌防腐涂料及其制备方法
CN103992743B (zh) 含有二氧化铈粉体与胶体二氧化硅混合磨料的抛光液及其制备工艺
CN104946114B (zh) 含石墨烯的金属表面防腐涂层及其制备方法
CN103694955B (zh) 一种单晶金刚石磨粒的制备方法
CN100453212C (zh) 纳米陶瓷和微米金属复合粉体的机械制备方法
MY171840A (en) Composition for polishing purposes,polishing method using same,and method for producing substrate
WO2014201898A1 (zh) 多极静磁场下使用的软磁涂料及其制备方法
CN104628931A (zh) 高膨胀纳米二氧化硅复合微球制备方法
WO2000012647A1 (en) Diamond abrasive particles and method for preparing the same
CN104592897B (zh) 一种含有石墨烯的化学机械抛光液
CN109943117A (zh) 抗氧化陶瓷涂料及其制备方法和涂覆制品
TW200600455A (en) Composition for polishing
CN103509470B (zh) 用于超精密抛光的核壳结构复合料浆的制备方法
Chen et al. Magnetization and self-sharpening mechanism of polymerized diamond abrasive based on magnetorheological polishing technology
JP6385307B2 (ja) 板状粒子、及び該板状粒子を含む研磨用組成物
CN109988508A (zh) 一种硅溶胶基磁流变金属抛光液及其制备方法和用途
Zhang et al. The importance of surface hydration and particle shape on the rheological property of silica-based suspensions
CN115584507B (zh) 一种防锈金属清洗剂及其制备方法和使用方法
Yan et al. Preparation and sintering of silica-coated ultrafine diamonds–vitrified bond composite powders
CN109456732A (zh) 一种金刚石磁性聚集磨料的制备方法
CN108753175A (zh) 适用于不锈钢抛光的化学机械抛光液及其用途
CN109055927A (zh) 高耐磨耐腐蚀石墨烯涂层的制备方法及其应用
CN105567193B (zh) 一种可降低水泥浆自由液的二氧化硅分散液、制备方法及应用

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20161123

RJ01 Rejection of invention patent application after publication