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CN105911784A - 一种配线修复结构 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种配线修复结构，适用于TFT‑LCD阵列基板，该基板具有一像素区，该像素区由多条扫描线和多条数据信号线交叉限定；一配线区以及一端子区，其中该配线区和端子区位于该像素区外侧；一TFT阵列，形成在该基板上并配置在该像素区；所述的配线区包括多个配线连接在像素区的多个像素端子和端子区域的多个信号端子之间；在每一所述的配线上浮接一条配线修复线，当配线发生断线时，采用镭射熔接的方式对存在断线的配线部分通过配线修复线进行搭桥式修补。利用TFT‑LCD阵列基板的TFT阵列的栅极层以及像素电极层在配线区形成配线修复线，不仅解决单层金属配线容易遭遇到的线宽线距不利于窄边化的问题，同时也确保了TFT‑LCD阵列基板的配线区与像素区的制程相同。

Description

一种配线修复结构
技术领域
本发明涉及一种配线修复结构，尤其涉及一种TFT-LCD阵列基板的配线修复结构。
背景技术
窄边框高分辨率面板已成为市场主流，面板的边框越窄越好，就要求面板周边走线所需空间越小越好。面板的分辨率越高,扫描线与数据线数量将大幅增加，导致面板周边配线所需的空间就越大。要想同时满足窄边框和高分辨率，现有技术是将面板周边配线的线幅宽度降低，压缩配线空间来达到窄边框的目的。
如图1所示为现有技术的液晶显示器TFT-LCD阵列基板周边局部示意图，该基板表面具有一像素区P(即显示区)和一配线区L以及端子区T，其中，该配线区和端子区位于该像素区外侧。TFT阵列和像素区端子形成在该基板的像素区。配线区L包括多个配线L1～Ln连接在像素区P的多个像素端子P1～Pn和端子区域T的多个信号端子T1～Tn之间。其中，每一配线包括Z型配线部分Z和斜线配线部分X。多个像素端子电性连接多条扫描线或多条数据线。通过配线L1～Ln将像素区的多个像素端子和所述的端子区域的多个信号端子相电性连接，使数据信号传递给显示区。
现有技术的配线区L一般都使用同一层金属进行配线，为了缩小配线区域达到窄边框的目标，就要将配线区域的配线线宽线距缩小。减小配线宽度会大幅增加工艺难度，将会导致配线断路或配线间短路等不良，影响到产品良率。
发明内容
为了解决现有技术的问题，本发明提供一种配线修复结构，适用于TFT-LCD阵列基板，该基板具有一像素区，该像素区由多条扫描线和多条数据信号线交叉限定；一配线区以及一端子区，其中该配线区和端子区位于该像素区外侧；一TFT阵列，形成在该基板上并配置在该像素区；所述的配线区包括多个配线连接在像素区的多个像素端子和端子区域的多个信号端子之间；在每一所述的配线上浮接一条配线修复线，当配线发生断线时，采用镭射熔接的方式对存在断线的配线部分通过配线修复线进行搭桥式修补。
进一步，所述的多个配线与所述的像素区的源漏电极为同层金属；
进一步，所述的配线包括Z型配线部分和斜线配线部分，配线修复线包括分别浮接在配线的Z型配线部分上的Z型配线修复线和浮接在斜线配线部分上的斜线配线修复线；
进一步，所述的斜线配线修复线又分为长度相等的第一斜线配线修复线和第二斜线配线修复线，并第一斜线配线修复线和第二斜线配线修复线交替浮接于斜线配线部分；
进一步，所述的Z型配线修复线与所述的像素区的扫描线为同层金属；
进一步，所述的第一斜线配线修复线与所述的像素区的扫描线为同层金属；所述的第二斜线配线修复线与所述的像素区的像素电极为同层金属。
有益效果：利用TFT-LCD阵列基板的TFT阵列的栅极层以及像素电极层在配线区形成配线修复线，不仅解决单层金属配线容易遭遇到的线宽线距不利于窄边化的问题，同时也确保了TFT-LCD阵列基板的配线区与像素区的制程相同，即本提案所述结构的制作流程，完全等同于现行普遍使用的工艺流程。
附图说明
图1为现有技术的TFT-LCD阵列基板的配线示意图；
图2为本发明的TFT-LCD阵列基板的配线示意图；
图3为图2中配线修复线示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例，进一步阐明本发明，应理解这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围，在阅读了本发明后，本领域技术人员对本发明的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。
为了解决现有技术中因缩小配线区域的配线线宽线距，而导致配线断路或配线间短路等不良，影响到产品良率的问题，本发明给出了一种配线修复结构。
如图2所示为本发明配线修复结构的局部示意图。TFT-LCD阵列基板表面具有一像素区P(即显示区)，该像素区由多条扫描线和多条数据信号线交叉限定；一配线区L以及一端子区T；多个像素端子电性连接多条扫描线或多条数据线。其中，该配线区和端子区位于该像素区外侧；一TFT阵列(图中未示)和多个像素端子形成在该基板的像素区；TFT阵列包括TFT的栅极、源极以及漏极。配线区L包括多个配线L10连接在像素区P的多个像素端子P1～Pn和端子区域T的多个信号端子T1～Tn之间。其中，多个配线L10与所述的像素区的源漏电极为同层金属，配线L10包括Z型配线部分Z和斜线配线部分X，为了解决配线断线问题，在每一配线L10上浮接一条配线修复线D10，当配线L10发生断线时，采用镭射熔接的方式对存在断线的配线部分通过配线修复线进行搭桥式修补。
其中，配线修复线D10包括分别浮接在配线L10的Z型配线部分Z上的Z型配线修复线DZ和浮接在斜线配线部分X上的斜线配线修复线DX，如图3所示。其中，Z型配线修复线DZ与所述的像素区的扫描线为同层金属；斜线配线修复线DX又分为长度相等的第一斜线配线修复线DX1和第二斜线配线修复线DX2，第一斜线配线修复线DX1和第二斜线配线修复线DX2交替浮接于斜线配线部分。第一斜线配线修复线DX1与所述的像素区的扫描线为同层金属；第二斜线配线修复线DX2与所述的像素区的像素电极为同层金属。
利用TFT-LCD阵列基板的TFT阵列的栅极层以及像素电极层在配线区形成配线修复线，不仅解决单层金属配线容易遭遇到的线宽线距不利于窄边化的问题，同时也确保了TFT-LCD阵列基板的配线区与像素区的制程相同，即本提案所述结构的制作流程，完全等同于现行普遍使用的工艺流程。

Claims (6)

1.一种配线修复结构，适用于TFT-LCD阵列基板，该基板具有一像素区，该像素区由多条扫描线和多条数据信号线交叉限定；一配线区以及一端子区，其中该配线区和端子区位于该像素区外侧；一TFT阵列，形成在该基板上并配置在该像素区；所述的配线区包括多个配线连接在像素区的多个像素端子和端子区域的多个信号端子之间；其特征在于：在每一所述的配线上浮接一条配线修复线，当配线发生断线时，采用镭射熔接的方式对存在断线的配线部分通过配线修复线进行搭桥式修补。
2.根据权利要求1所述的一种配线修复结构,其特征在于：所述的多个配线与所述的像素区的源漏电极为同层金属。
3.根据权利要求1所述的一种配线修复结构,其特征在于：所述的配线包括Z型配线部分和斜线配线部分，配线修复线包括分别浮接在配线的Z型配线部分上的Z型配线修复线和浮接在斜线配线部分上的斜线配线修复线。
4.根据权利要求3所述的一种配线修复结构,其特征在于：所述的斜线配线修复线又分为长度相等的第一斜线配线修复线和第二斜线配线修复线，并第一斜线配线修复线和第二斜线配线修复线交替浮接于斜线配线部分。
5.根据权利要求3所述的一种配线修复结构,其特征在于：所述的Z型配线修复线与所述的像素区的扫描线为同层金属。
6.根据权利要求4所述的一种配线修复结构,其特征在于：所述的第一斜线配线修复线与所述的像素区的扫描线为同层金属；所述的第二斜线配线修复线与所述的像素区的像素电极为同层金属。
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