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CN105895196A - 一种新型透明导电薄膜及其制备方法 - Google Patents

一种新型透明导电薄膜及其制备方法 Download PDF

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CN105895196A
CN105895196A CN201610214990.8A CN201610214990A CN105895196A CN 105895196 A CN105895196 A CN 105895196A CN 201610214990 A CN201610214990 A CN 201610214990A CN 105895196 A CN105895196 A CN 105895196A
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transparent conductive
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李崇
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Jiangsu Sunera Technology Co Ltd
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Jiangsu Sanyue Optoelectronic Technology Co Ltd
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Abstract

本发明公开了一种新型透明导电薄膜及其制备方法，该导电薄膜由透明基材、纳米金属线和金属氧化物组成，制备方法包括如下步骤：(1)采用湿加工的方法在透明基材上涂布一层纳米金属线溶液，再将透明基材置于加热板上，温度120～140℃，加热90～120s，最后将透明基材置于烘箱中，50～80℃条件下，烘干5～10min；(2)采用湿加工的方法在经过步骤(1)处理的透明基材上涂布一层金属氧化物溶液，再将透明基材置于加热板上，温度120～140℃，加热90～120s，制得所述透明导电薄膜。本发明透明导电薄膜具有较好的平整度，且金属氧化物有助于提高透明导电薄膜的导电性和透光率。

Description

一种新型透明导电薄膜及其制备方法
技术领域
本发明涉及电子元器件技术领域，尤其是涉及一种有纳米金属线与金属氧化物共同作用形成的透明导电薄膜及其制备方法。
背景技术
目前，ITO(Indium Tin Oxide,氧化铟锡)透明导电薄膜已广泛应用于液晶显示，OLED显示，OLED照明，触控面板和太阳能电池等方面。
尽管目前的ITO透明导电膜具有良好的稳定性、高导电性和高透过率，但是也存在生产原料资源日益稀缺，生产工艺复杂，成本高，且形成的导电薄膜质脆等缺陷。这些缺陷限制了ITO的应用和推广，尤其在柔性电子器件方面。基于传统ITO薄膜的局限性，人们不断寻找可以代替ITO的新材料。
纳米银线具有良好的导电性和柔韧性，其形成的透明导电膜与传统ITO透明导电薄膜相比，具有更高的挠曲性和透光率及更低的电阻，且制作方法相对简单，成本低廉，可广泛用于平板显示、柔性发光器件、柔性显示器件、可折叠太阳能电池等领域。然而现有的纳米银线导电薄膜技术，如专利CN104538087A、CN104637570A，在制备时加入树脂等凝固剂，凝固剂极易包覆纳米银线，从而导致薄膜导电性和透明度下降。
发明内容
针对现有技术存在的上述问题，本申请人提供了一种新型透明导电薄膜及其制备方法。本发明导电薄膜以纳米金属线为主要原料，并以金属氧化物作为填充料，金属氧化物以分子形式填充于相互搭接的纳米金属线的空隙中，可提高透明导电薄膜的平整度，且金属氧化物有助于提高透明导电薄膜的导电性和透光率。
本发明的技术方案如下：
一种新型透明导电薄膜，该导电薄膜由透明基材、纳米金属线和金属氧化物组成。
一种所述透明导电薄膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)采用湿加工的方法在透明基材上涂布一层纳米金属线溶液，再将透明基材置于加热板上，温度120～140℃，加热90～120s，最后将透明基材置于烘箱中，50～80℃条件下，烘干5～10min；
(2)采用湿加工的方法在经过步骤(1)处理的透明基材上涂布一层金属氧化物溶液，再将透明基材置于加热板上，温度120～140℃，加热90～120s，制得所述透明导电薄膜。
所述透明基材为玻璃或具有柔性特征的塑料；所述纳米金属线为纳米银线、纳米金线或纳米铜线，所述纳米金属线的直径为40～110nm，长度为10～130μm；所述金属氧化物为三氧化钼、五氧化二钒、氧化镍中的一种或多种，所述金属氧化物平均费氏粒度值为10～20μm。
所述透明基材为玻璃、聚酰亚胺、聚四氟乙烯或聚对苯二甲酸乙二醇酯；所述透明基材的透光率大于90％。
所述湿加工方法为旋转涂膜、喷墨印刷、喷雾制膜、丝网印刷或点胶涂覆。
所述步骤(1)中所述纳米金属线溶液的制备方法为：将市售的纳米金属线溶液与等体积的异丙醇混合，形成浓度均一的溶液；所述市售纳米金属线溶液为美国Cambrios公司生产，型号为NKA710。
所述步骤(2)中所述金属氧化物溶液的制备方法为：将金属氧化物粉末溶于浓度为25～28％的氨水中，室温下，在磁力搅拌机中搅拌30min，之后静置1～3h，取上清液得到浓度为0.1～1.0％的金属氧化物氨水溶液，即所述金属氧化物溶液。
所述步骤(1)中所述湿加工方法为旋转涂膜时，旋转涂膜的条件为：低速转数/时间为200～600rpm/5s，高速转数/时间为600～1200rpm/35s。
所述步骤(2)中所述湿加工方法为旋转涂膜时，旋转涂膜的条件为：低速转数/时间为200～600rpm/5s，高速转数/时间为600～1200rpm/35s。
所述步骤(1)中透明基材经过预处理，预处理的步骤为：(a)中性洗涤剂超声清洗20min；(b)去离子水超声清洗20min；(c)碱液超声清洗30min；(d)去离子水超声清洗30min，3次；(e)异丙醇超声清洗20s；(f)氮气条件下风干；(g)在臭氧氛围中于紫外灯下照射5min或在氩气与氧气流量比1：1氛围中于等离子体反应腔中清洗5min。
本发明有益的技术效果在于：
(1)本发明导电薄膜包括透明基材及层叠与所述透明基材上的导电层即金属氧化物和纳米金属线，所述纳米金属线以湿加工方式涂布于所述透明基材上，并在其上用湿加工方式覆盖涂布所述金属氧化物，纳米金属线相互搭接，并与所述金属氧化物共同形成导电网络。
(2)本发明制备透明导电薄膜的方法是通过湿加工方式涂布在透明基材上，并经由烘干固化，工艺流程简单，容易操作，同时避免了纳米金属线被胶水包裹而导致透明导电膜导电率下降的情况。
(3)本发明所述金属氧化物填充于所述纳米金属线之间的空隙中，有助于提高导电膜表面平整度和透过率。
附图说明
图1为本发明透明导电薄膜的结构示意图。
图中：1、透明基材，2、纳米金属线与金属氧化物形成的透明导电层。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明进行具体描述。
实施例1
一种新型透明导电薄膜，该导电薄膜由透明玻璃基材(厚度为0.5mm，透光率大于90％)、纳米银线(直径为40～110nm，长度为10～130μm)和金属三氧化钼(平均费氏粒度值为10～20μm)组成；
所述透明导电薄膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)采用旋转涂膜法，(低速转数/时间为200rpm/5s，高速转数/时间为600rpm/35s)在透明玻璃基材上涂布一层纳米银线溶液，再将透明玻璃基材置于加热板上，温度140℃，加热100s，最后将透明玻璃基材置于烘箱中，80℃条件下，烘干5min；所述纳米银线溶液的制备方法为：将美国Cambrios公司生产，型号为NKA710的纳米银线溶液与等体积的异丙醇混合，形成浓度为4X的溶液；
(2)采用旋转涂膜法(低速转数/时间为200rpm/5s，高速转数/时间为600rpm/35s)在经过步骤(1)处理的透明玻璃基材上涂布一层金属三氧化钼溶液，再将透明玻璃基材置于加热板上，温度140℃，加热100s，制得所述透明导电薄膜；所述金属三氧化钼溶液的制备方法为：将金属三氧化钼粉末溶于浓度为28％的氨水中，室温下，在磁力搅拌机中搅拌30min，之后静置3h，取上清液得到浓度为0.1％的金属三氧化钼氨水溶液，即所述金属三氧化钼溶液；
所述步骤(1)中透明基材经过预处理，预处理的步骤为：(a)中性洗涤剂超声清洗20min；(b)去离子水超声清洗20min；(c)碱液超声清洗30min；(d)去离子水超声清洗30min，3次；(e)异丙醇超声清洗20s；(f)氮气条件下风干；(g)在臭氧氛围中于紫外灯下照射5min。
采用方块电阻测试仪测试本发明实施例所得透明导电薄膜的方块电阻；采用紫外可见分光光度计测试本发明实施例所得透明导电薄膜的透光率；测试结果见表1所示。
实施例2
一种新型透明导电薄膜，该导电薄膜由透明玻璃基材(厚度为0.5mm，透光率大于90％)、纳米银线(直径为40～110nm，长度为10～130μm)和金属三氧化钼(平均费氏粒度值为10～20μm)组成；
所述透明导电薄膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)采用旋转涂膜法(低速转数/时间为600rpm/5s，高速转数/时间为1200rpm/35s)在透明玻璃基材上涂布一层纳米银线溶液，再将透明玻璃基材置于加热板上，温度140℃，加热90s，最后将透明玻璃基材置于烘箱中，80℃条件下，烘干5min；所述纳米银线溶液的制备方法为：将美国Cambrios公司生产，型号为NKA710的纳米银线溶液与等体积的异丙醇混合，形成浓度为4X的溶液；
(2)采用旋转涂膜法(低速转数/时间为600rpm/5s，高速转数/时间为1200rpm/35s)在经过步骤(1)处理的透明玻璃基材上涂布一层金属三氧化钼溶液，再将透明玻璃基材置于加热板上，温度140℃，加热90s，制得所述透明导电薄膜；所述金属三氧化钼溶液的制备方法为：将金属三氧化钼粉末溶于浓度为28％的氨水中，室温下，在磁力搅拌机中搅拌30min，之后静置3h，取上清液得到浓度为0.1％的金属三氧化钼氨水溶液，即所述金属三氧化钼溶液；
所述步骤(1)中透明基材经过预处理，预处理的步骤为：(a)中性洗涤剂超声清洗20min；(b)去离子水超声清洗20min；(c)碱液超声清洗30min；(d)去离子水超声清洗30min，3次；(e)异丙醇超声清洗20s；(f)氮气条件下风干；(g)在臭氧氛围中于紫外灯下照射5min。
采用方块电阻测试仪测试本发明实施例所得透明导电薄膜的方块电阻；采用紫外可见分光光度计测试本发明实施例所得透明导电薄膜的透光率；测试结果见表1所示。
实施例3
一种新型透明导电薄膜，该导电薄膜由透明聚酰亚胺基材(厚度为0.5mm，透光率大于90％)、纳米银线(直径为40～110nm，长度为10～130μm)和金属三氧化钼(平均费氏粒度值为10～20μm)组成；所述透明导电薄膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)采用旋转涂膜法(低速转数/时间为400rpm/5s，高速转数/时间为900rpm/35s)在透明聚酰亚胺基材上涂布一层纳米银线溶液，再将透明聚酰亚胺基材置于加热板上，温度140℃，加热120s，最后将透明聚酰亚胺基材置于烘箱中，80℃条件下，烘干10min；所述纳米银线溶液的制备方法为：将美国Cambrios公司生产，型号为NKA710的纳米银线溶液与等体积的异丙醇混合，形成浓度为4X的溶液；
(2)采用旋转涂膜法(低速转数/时间为400rpm/5s，高速转数/时间为900rpm/35s)在经过步骤(1)处理的透明聚酰亚胺基材上涂布一层金属三氧化钼溶液，再将透明聚酰亚胺基材置于加热板上，温度140℃，加热120s，制得所述透明导电薄膜；所述金属三氧化钼溶液的制备方法为：将金属三氧化钼粉末溶于浓度为28％的氨水中，室温下，在磁力搅拌机中搅拌30min，之后静置3h，取上清液得到浓度为0.1％的金属三氧化钼氨水溶液，即所述金属三氧化钼溶液；
所述步骤(1)中透明基材经过预处理，预处理的步骤为：(a)中性洗涤剂超声清洗20min；(b)去离子水超声清洗20min；(c)碱液超声清洗30min；(d)去离子水超声清洗30min，3次；(e)异丙醇超声清洗20s；(f)氮气条件下风干；(g)在臭氧氛围中于紫外灯下照射5min。
采用方块电阻测试仪测试本发明实施例所得透明导电薄膜的方块电阻；采用紫外可见分光光度计测试本发明实施例所得透明导电薄膜的透光率；测试结果见表1所示。
实施例4
一种新型透明导电薄膜，该导电薄膜由透明聚四氟乙烯基材(厚度为0.5mm，透光率大于90％)、纳米银线(直径为40～110nm，长度为10～130μm)和金属五氧化二钒(平均费氏粒度值为10～20μm)组成；所述透明导电薄膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)采用旋转涂膜法(低速转数/时间为400rpm/5s，高速转数/时间为900rpm/35s)在透明玻璃基材上涂布一层纳米银线溶液，再将透明聚四氟乙烯基材置于加热板上，温度120℃，加热120s，最后将透明聚四氟乙烯基材置于烘箱中，80℃条件下，烘干10min；所述纳米银线溶液的制备方法为：将美国Cambrios公司生产，型号为NKA710的纳米银线溶液与等体积的异丙醇混合，形成浓度为4X的溶液；
(2)采用旋转涂膜法(低速转数/时间为400rpm/5s，高速转数/时间为900rpm/35s)在经过步骤(1)处理的透明聚四氟乙烯基材上涂布一层金属五氧化二钒溶液，再将透明聚四氟乙烯基材置于加热板上，温度120℃，加热100s，制得所述透明导电薄膜；所述金属五氧化二钒溶液的制备方法为：将金属五氧化二钒粉末溶于浓度为25％的氨水中，室温下，在磁力搅拌机中搅拌30min，之后静置2h，取上清液得到浓度为0.7％的金属五氧化二钒氨水溶液，即所述金属三氧化钼溶液；
所述步骤(1)中透明基材经过预处理，预处理的步骤为：(a)中性洗涤剂超声清洗20min；(b)去离子水超声清洗20min；(c)碱液超声清洗30min；(d)去离子水超声清洗30min，3次；(e)异丙醇超声清洗20s；(f)氮气条件下风干；(g)在氩气与氧气流量比1：1氛围中于等离子体反应腔中清洗5min。
采用方块电阻测试仪测试本发明实施例所得透明导电薄膜的方块电阻；采用紫外可见分光光度计测试本发明实施例所得透明导电薄膜的透光率；测试结果见表1所示。
实施例5
一种新型透明导电薄膜，该导电薄膜由透明聚对苯二甲酸乙二醇酯基材(厚度为0.5mm，透光率大于90％)、纳米铜线(直径为40～90nm，长度为60～120μm)和金属五氧化二钒(平均费氏粒度值为10～20μm)组成；所述透明导电薄膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)采用旋转涂膜法(低速转数/时间为400rpm/5s，高速转数/时间为900rpm/35s)在透明聚对苯二甲酸乙二醇酯基材上涂布一层纳米铜线溶液，再将透明聚对苯二甲酸乙二醇酯基材置于加热板上，温度120℃，加热120s，最后将透明聚对苯二甲酸乙二醇酯基材置于烘箱中，50℃条件下，烘干10min；所述纳米铜线溶液的制备方法为：将徐州洪武纳米材料有限公司生产的纳米铜线溶液与等体积的异丙醇混合，形成浓度为4X的溶液；
(2)采用旋转涂膜法(低速转数/时间为400rpm/5s，高速转数/时间为900rpm/35s)在经过步骤(1)处理的透明聚对苯二甲酸乙二醇酯基材上涂布一层金属五氧化二钒溶液，再将透明聚对苯二甲酸乙二醇酯基材置于加热板上，温度120℃，加热120s，制得所述透明导电薄膜；所述金属五氧化二钒溶液的制备方法为：将金属五氧化二钒粉末溶于浓度为28％的氨水中，室温下，在磁力搅拌机中搅拌30min，之后静置2h，取上清液得到浓度为0.7％的金属五氧化二钒氨水溶液，即所述金属五氧化二钒溶液；
所述步骤(1)中透明基材经过预处理，预处理的步骤为：(a)中性洗涤剂超声清洗20min；(b)去离子水超声清洗20min；(c)碱液超声清洗30min；(d)去离子水超声清洗30min，3次；(e)异丙醇超声清洗20s；(f)氮气条件下风干；(g)在臭氧氛围中于紫外灯下照射5min。
实施例6
一种新型透明导电薄膜，该导电薄膜由透明玻璃基材(厚度为0.5mm，透光率大于90％)、纳米银线(直径为40～110nm，长度为10～130μm)和金属氧化镍(平均费氏粒度值为10～20μm)组成；所述透明导电薄膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)采用旋转涂膜法(低速转数/时间为600rpm/5s，高速转数/时间为1200rpm/35s)在透明玻璃基材上涂布一层纳米银线溶液，再将透明玻璃基材置于加热板上，温度140℃，加热90s，最后将透明玻璃基材置于烘箱中，80℃条件下，烘干5min；所述纳米银线溶液的制备方法为：将美国Cambrios公司生产，型号为NKA710的纳米银线溶液与等体积的异丙醇混合，形成浓度为4X的溶液；
(2)采用旋转涂膜法(低速转数/时间为600rpm/5s，高速转数/时间为1200rpm/35s)在经过步骤(1)处理的透明玻璃基材上涂布一层金属氧化镍溶液，再将透明玻璃基材置于加热板上，温度140℃，加热90s，制得所述透明导电薄膜；所述金属氧化镍溶液的制备方法为：将金属氧化镍粉末溶于浓度为25％的氨水中，室温下，在磁力搅拌机中搅拌30min，之后静置1h，取上清液得到浓度为1.0％的金属氧化镍氨水溶液，即所述金属氧化镍溶液；
所述步骤(1)中透明基材经过预处理，预处理的步骤为：(a)中性洗涤剂超声清洗20min；(b)去离子水超声清洗20min；(c)碱液超声清洗30min；(d)去离子水超声清洗30min，3次；(e)异丙醇超声清洗20s；(f)氮气条件下风干；(g)在氩气与氧气流量比1：1氛围中于等离子体反应腔中清洗5min。
采用方块电阻测试仪测试本发明实施例所得透明导电薄膜的方块电阻；采用紫外可见分光光度计测试本发明实施例所得透明导电薄膜的透光率；测试结果见表1所示。
对比例1
一种新型透明导电薄膜，该导电薄膜由透明玻璃基材(厚度为0.5mm，透光率大于90％)、纳米银线(直径为40～110nm，长度为10～130μm)和金属三氧化钼(平均费氏粒度值为10～20μm)组成；所述透明导电薄膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)采用旋转涂膜法(低速转数/时间为600rpm/5s，高速转数/时间为1200rpm/35s)在透明玻璃基材上涂布一层纳米银线溶液，再将透明玻璃基材置于加热板上，温度140℃，加热90s，最后将透明玻璃基材置于烘箱中，80℃条件下，烘干5min；所述纳米银线溶液的制备方法为：将美国Cambrios公司生产，型号为NKA710的纳米银线溶液与等体积的异丙醇混合，形成浓度为4X的溶液；
所述步骤(1)中透明基材经过预处理，预处理的步骤为：所述步骤(1)中透明基材经过预处理，预处理的步骤为：(a)中性洗涤剂超声清洗20min；(b)去离子水超声清洗20min；(c)碱液超声清洗30min；(d)去离子水超声清洗30min，3次；(e)异丙醇超声清洗20s；(f)氮气条件下风干；(g)在臭氧氛围中于紫外灯下照射5min。
采用方块电阻测试仪测试本发明实施例所得透明导电薄膜的方块电阻；采用紫外可见分光光度计测试本发明实施例所得透明导电薄膜的透光率；测试结果见表1所示。
对比例2
一种新型透明导电薄膜，该导电薄膜由透明玻璃基材(厚度为0.5mm，透光率大于90％)、纳米银线(直径为40～110nm，长度为10～130μm)和金属三氧化钼(平均费氏粒度值为10～20μm)组成；所述透明导电薄膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)对所述透明基材进行预处理，预处理的步骤为：在臭氧氛围中于紫外灯下照射5min。
(2)采用旋转涂膜法(低速转数/时间为600rpm/5s，高速转数/时间为1200rpm/35s)在经过步骤(1)处理的透明玻璃基材上涂布一层金属三氧化钼溶液，再将透明玻璃基材置于加热板上，温度140℃，加热90s，制得所述透明导电薄膜；所述金属三氧化钼溶液的制备方法为：将金属三氧化钼粉末溶于浓度为28％的氨水中，室温下，在磁力搅拌机中搅拌30min，之后静置3h，取上清液得到浓度为0.1％的金属三氧化钼氨水溶液，即所述金属三氧化钼溶液；
所述步骤(1)中透明基材经过预处理，预处理的步骤为：(a)中性洗涤剂超声清洗20min；(b)去离子水超声清洗20min；(c)碱液超声清洗30min；(d)去离子水超声清洗30min，3次；(e)异丙醇超声清洗20s；(f)氮气条件下风干；(g)在氩气与氧气流量比1：1氛围中于等离子体反应腔中清洗5min。
采用方块电阻测试仪测试本发明实施例所得透明导电薄膜的方块电阻；采用紫外可见分光光度计测试本发明实施例所得透明导电薄膜的透光率；测试结果见表1所示。
对比例3
一种新型透明导电薄膜，该导电薄膜由透明玻璃基材(厚度为0.5mm，透光率大于90％)、纳米银线(直径为40～110nm，长度为10～130μm)和金属三氧化钼(平均费氏粒度值为10～20μm)组成；所述透明导电薄膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)采用旋转涂膜法(低速转数/时间为600rpm/5s，高速转数/时间为1200rpm/35s)在透明玻璃基材上涂布一层纳米银线溶液，再将透明玻璃基材置于加热板上，温度140℃，加热90s，最后将透明玻璃基材置于烘箱中，80℃条件下，烘干5min；所述纳米银线溶液的制备方法为：将美国Cambrios公司生产，型号为NKA710的纳米银线溶液与等体积的异丙醇混合，形成浓度为4X的溶液；
(2)采用旋转涂膜法(低速转数/时间为600rpm/5s，高速转数/时间为1200rpm/35s)在经过步骤(1)处理的透明玻璃基材上涂布一层金属三氧化钼溶液，再将透明玻璃基材置于加热板上，温度140℃，加热90s，制得所述透明导电薄膜；所述金属三氧化钼溶液的制备方法为：将金属三氧化钼粉末溶于浓度为28％的氨水中，室温下，在磁力搅拌机中搅拌30min，之后静置3h，取上清液得到浓度为0.1％的金属三氧化钼氨水溶液，即所述金属三氧化钼溶液；
所述步骤(1)中透明基材不经过预处理
采用方块电阻测试仪测试本发明实施例所得透明导电薄膜的方块电阻；采用紫外可见分光光度计测试本发明实施例所得透明导电薄膜的透光率；测试结果见表1所示。
表1
方块电阻(Ω/cm2) 透光率(T％)
实施例1 8 90
实施例2 12 92
实施例3 10 91
实施例4 11 91
实施例5 10 92
实施例6 10 90
对比例1 14 88
对比例2 无 95
对比例3 16 92
以上数据均为测量10次所得平均值。
从表1可以看出，在实施例1～6的新型透明导电薄膜中，使用不同的所述透明基材、所述纳米金属线，所述金属氧化物搭配，以及对所述透明基材的预处理方式，均能制成所述新型透明导电薄膜。
从表1可以看出，在实施例1～2的新型透明导电薄膜中，采用旋转涂膜法，使用的转速越低，新型透明导电薄膜中纳米金属线和金属氧化物的含量越高，新型透明导电薄膜的方块电阻越小，透过率越小。
从表1还可以看出，由实施例1与对比例1的方块电阻和透光率相比可以得出，金属氧化物的添加降低新型透明导电薄膜的方块电阻并且提高透光率。
从表1还可以看出，对比例2中无法测量出方块电阻，说明仅涂布金属氧化物不能制备导电膜。
从表1还可以看出，由实施例1与对比例3的方块电阻和透光率相比可以得出，对透明基材的预处理，能改变透明基材的表面能，是保证涂布成功的关键步骤。
实际上在测量对比例1的方块电阻时，10次测量中仅有4次能正确显示读数，而实施例1～6和对比例2在10次测量中均能正确显示读数，说明加入金属氧化物不仅可以提高薄膜的导电性，还能填补纳米银线间的空隙，消除薄膜上的缺陷。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为本发明专利的范围显示。应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种新型透明导电薄膜，其特征在于该导电薄膜由透明基材、纳米金属线和金属氧化物组成。
2.一种权利要求1所述透明导电薄膜的制备方法，其特征在于所述方法包括如下步骤：
(1)采用湿加工的方法在透明基材上涂布一层纳米金属线溶液，再将透明基材置于加热板上，温度120～140℃，加热90～120s，最后将透明基材置于烘箱中，50～80℃条件下，烘干5～10min；
(2)采用湿加工的方法在经过步骤(1)处理的透明基材上涂布一层金属氧化物溶液，再将透明基材置于加热板上，温度120～140℃，加热90～120s，制得所述透明导电薄膜。
3.根据权利要求1所述的透明导电薄膜，其特征在于所述透明基材为玻璃或具有柔性特征的塑料；所述纳米金属线为纳米银线、纳米金线或纳米铜线，所述纳米金属线的直径为40～110nm，长度为10～130μm；所述金属氧化物为三氧化钼、五氧化二钒、氧化镍中的一种或多种，所述金属氧化物平均费氏粒度值为10～20μm。
4.根据权利要求1或3所述的透明导电薄膜，其特征在于所述透明基材为玻璃、聚酰亚胺、聚四氟乙烯或聚对苯二甲酸乙二醇酯；所述透明基材的透光率大于90％。
5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于所述湿加工方法为旋转涂膜、喷墨印刷、喷雾制膜、丝网印刷或点胶涂覆。
6.根据权利要求2所述的方法，其特征在于所述步骤(1)中所述纳米金属线溶液的制备方法为：将市售的纳米金属线溶液与等体积的异丙醇混合，形成浓度均一的溶液；所述市售纳米金属线溶液为美国Cambrios公司生产，型号为NKA710。
7.根据权利要求2所述的方法，其特征在于所述步骤(2)中所述金属氧化物溶液的制备方法为：将金属氧化物粉末溶于浓度为25～28％的氨水中，室温下，在磁力搅拌机中搅拌30min，之后静置1～3h，取上清液得到浓度为0.1～1.0％的金属氧化物氨水溶液，即所述金属氧化物溶液。
8.根据权利要求2所述的方法，其特征在于所述步骤(1)中所述湿加工方法为旋转涂膜时，旋转涂膜的条件为：低速转数/时间为200～600rpm/5s，高速转数/时间为600～1200rpm/35s。
9.根据权利要求2所述的方法，其特征在于所述步骤(2)中所述湿加工方法为旋转涂膜时，旋转涂膜的条件为：低速转数/时间为200～600rpm/5s，高速转数/时间为600～1200rpm/35s。
10.根据权利要求2所述的方法，其特征在于所述步骤(1)中透明基材经过预处理，预处理的步骤为：(a)中性洗涤剂超声清洗20min；(b)去离子水超声清洗20min；(c)碱液超声清洗30min；(d)去离子水超声清洗30min，3次；(e)异丙醇超声清洗20s；(f)氮气条件下风干；(g)在臭氧氛围中于紫外灯下照射5min或在氩气与氧气流量比1：1氛围中于等离子体反应腔中清洗5min。
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