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CN105327337A - 抗辐射防龋消炎口腔制剂 - Google Patents

抗辐射防龋消炎口腔制剂 Download PDF

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CN105327337A
CN105327337A CN201510717026.2A CN201510717026A CN105327337A CN 105327337 A CN105327337 A CN 105327337A CN 201510717026 A CN201510717026 A CN 201510717026A CN 105327337 A CN105327337 A CN 105327337A
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CN
China
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oral preparation
radioprotective
tinidazole
oltipraz
decayed tooth
Prior art date
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Pending
Application number
CN201510717026.2A
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English (en)
Inventor
李广文
李卉
张陈兵
曹思樟
王军
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No96617 Troops Pla
Original Assignee
No96617 Troops Pla
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Abstract

本发明属于口腔药物制剂技术领域,特别涉及一种多功能抗辐射防龋消炎的口腔药物制剂。其技术方案是:一种抗辐射防龋消炎口腔制剂,它包括按质量分数计,0.5%~5%的奥替普拉、0.3%~2%的重组人角质细胞生长因子、0.02%~0.2%的度米酚、0.02%~0.2%的百里酚,0.02%~0.5%的替硝唑;余量为助药物、清新剂、甜味剂、增塑剂、崩解剂、清凉剂、稳定剂等;可制成漱口水、浓缩喷雾液,速崩洗消片三种不同剂型。本发明针对电离辐射性口腔疾病的致病因素研发,满足具有携带方便、平时预防保障和战时应急救治等多方面需求。

Description

抗辐射防龋消炎口腔制剂
技术领域
本发明属于口腔药物制剂技术领域,特别涉及一种多功能抗辐射防龋消炎的口腔药物制剂。
背景技术
人体在受到一定剂量的电离辐射作用后不仅在受照射当时可以出现早期急性效应,而且在受照若干年后甚至更长时间才出现远期效应。电离辐射对人体细胞内的水分子及生物分子如蛋白质的作用有特别重要的意义,其中水分子的电离和激发(ionizationandexcitation)产生自由基,而自由基是引起有机分子的放射损伤的主要原因;另外电离辐射可引起细胞分裂延迟(divisiondelay)改变及细胞死亡。由辐射产生的生物效应包括直接作用(directaction)和间接作用(indirectaction)。直接作用是辐射线自身或其生成的二次粒子直接作用于分子所造成的效应。例如用X射线照射生物体,将能量转给某个二次电子后,此电子再造成靶分子的游离,产生活性的游离基(freeradical),该游离基化学性质很活泼,结合至生物体内氢原子以外的原子,即可能造成所结合分子的变性,进而产生生物效应。间接作用是辐射线自身或由其生成的二次粒子,先作用于介质分子(例如水分子)上,使之成为化学性质活泼的产物(例如自由基、过氧化氢、水合电子等),此产物再继续作用于分子形成的效应。间接作用可受辐射敏感剂(radiosensitizer)或辐射保护剂(radioprotector)增强或减弱,直接作用则不易改变。引起的细胞损伤分3类:(1)致死性损伤(lethaldamage)不可逆的导致细胞死亡;(2)亚致死性损伤(sublethaldamage)正常情况下几小时内修复;(3)潜在致死性损伤(potentiallylethaldamage),在一定条件下损伤可修复。电离辐射队细胞损伤后的修复可分3个水平:(1)组织水平修复,即未受损的细胞在组织中再植;(2)细胞水平修复,即由于改变照射后细胞的环境条件或分割,细胞的存活增高;(3)分子水平的修复,即通过细胞内酶系的作用使受损伤的DNA分子恢复完整。
引起放射性黏膜损伤的主要射线是X线、β线及γ线。X、β线穿透能力强,除黏膜外,黏膜下组织、腺体,甚至骨骼也受损,有时产生溃疡长期不愈。β线损伤浅,治疗容易,只要处理得当,预后多数较好。此外,产生相同黏膜损伤所需的吸收剂量不同。γ线损伤黏膜吸收剂量较大,β线则较小。因为γ线的穿透能力强,电离作用小,传给黏膜的能量也小,部分能量消耗在深层组织。而β线的电离作用强,黏膜吸收的能量也多。有相当一部分X或γ线黏膜损伤合并有放射性病,使观察和治疗更为困难。慢性放射性黏膜损伤的临床表现:有较长的潜伏期,病情有明显的潜在性、进行性、反复性和持续性等特点。放射性口腔黏膜炎初始为口腔粘膜红肿,随后出现毛细血管反应性扩张,局部充血、红斑、糜烂、溃疡、假膜覆盖,严重者合并粘膜广泛萎缩和局部感染。常感口腔粘膜不适、口干、口臭,甚至持续难忍的疼痛感。放射线除直接损伤口腔黏膜外,并使放射野内的微血管发生肿胀,管壁增厚,管腔变窄或闭塞,出现受损部位供血不足,发生口腔黏膜炎。口干症是以腮腺为主的涎腺长期受照后出现腺泡和导管损伤,导致分泌量减少,随之唾液成分改变,口腔环境发生变化以及菌群失调。口腔内环境变化使得对细菌防御能力降低,变形链球菌和乳酸菌等细菌繁殖导致龋齿发生,甚至出现大面积急性放射性龋齿。同时受辐射后的正常牙齿牙颈部釉质出现脱矿现象,釉质灶性微孔增多、加深及釉质裂隙的出现,使口腔中的细菌和酸性物质沿釉质缺损进入釉质内部,并且抗酸性下降,加速龋损的发展进程,导致猖獗龋。目前临床处理的总体原则是预防为主,减轻症状、促进愈合、防治合并感染。对于放射性口腔黏膜炎临床上多采用局部消炎、杀菌和止痛剂来治疗和缓解,但是单纯的抗菌消炎对粘膜的修复起不到积极的作用,而辐射引起机体免疫力降低,常因合并其他感染而加重症状,影响创面愈合。
据第四军医大学口腔医学院对普通人群口腔流行病调查结果显示龋齿发病率为38.6%,牙龈炎牙周病发病率为59%,口腔黏膜炎发病率为4.7%,而口腔咽喉炎、口干症发病率几乎为0。而同期据对某工作单位500余名相关工作人员口腔流行病学、分子流行病学的临床现况调查结果显示:放射性龋齿发病率为97.4%,牙龈炎牙周病发病率为82%,放射性口腔黏膜炎发病率达53.6%,放射性口腔咽喉炎为27%,放射性口干症发病率高达87%。通过统计数据,可以看出相关工作人员龋病、口腔黏膜炎等口腔疾病高发,部分疾病发病率甚至比普通人群平均发病率高几十倍。分析致病因素主要有长期处于直接或间接电离辐射照射条件下,环境封闭、偏僻,基层医疗条件有限,口腔疾病常常合并有白色念珠菌、单纯疱疹病毒、厌氧菌等真菌、细菌和病毒的继发感染。同时辐射严重损害全身机体功能,,导致机体免疫、防御修复机能严重下降,使得病程迁延,反复发作。给相关工作人员带来极大的身心痛苦,严重影响他们日常工作及应急工作。据前期临床现况调查统计评估出勤率下降约20%-30%。
目前针对辐射性口腔疾病的药物一般是对症治疗,疗效欠佳,有一定的毒副作用,缺乏针对性和便携性,不适合用于应急保障、野外训练条件下的预防治疗。
发明内容
本发明的目的是:提供一种针对放射性口腔疾病、无毒副作用,且便携的多功能抗辐射防龋消炎口腔制剂、不同剂型及其制备方法。
本发明的技术方案是:一种抗辐射防龋消炎口腔制剂,包括奥替普拉、重组人角质细胞生长因子、度米酚、百里酚和替硝唑。
具体地,上述抗辐射防龋消炎口腔制剂中,所述组分按质量分数计,奥替普拉为0.5%~5%、重组人角质细胞生长因子为0.3%~2%、度米酚为0.02%~0.2%、百里酚为0.02%~0.2%,替硝唑0.02%~0.5%。
更具体地,上述抗辐射防龋消炎口腔制剂还包括清新剂、甜味剂、增塑剂、崩解剂、清凉剂、稳定剂;所述清新剂为食用香精;所述甜味剂选自以下一种或几种物质:糖蜜素、二肽甜味剂、阿斯巴甜;所述增塑剂选自以下一种或几种多元醇:甘油、山梨醇、乙醇、丙二醇和甘露醇;所述崩解剂选自以下一种或几种物质:交联羧甲基纤维素钠,羧甲基淀粉钠,联聚维酮;所述清凉剂选自以下一种或几种物质:薄荷油,薄荷脑,清凉醇;所述稳定剂选自可溶性淀粉和/或氨基酸。
再具体地,本发明提供了剂型为漱口水的抗辐射防龋消炎口腔制剂,它包括以质量分数计,0.5%的奥替普拉,0.3%的重组人角质细胞生长因子,0.02%的度米酚,0.02%的百里酚,0.02%的替硝唑,0.1%的糖蜜素,0.05%的薄荷脑,0.01%的薄荷油,2%的甘油,4%的乙醇,余量为蒸馏水;同时提供了所述漱口水的制备方法:在无菌生产车间中,将奥替普拉、重组人角质细胞生长因子、度米酚、百里酚、替硝唑按上述质量分数依次加入洁净的玻璃容器中,轻轻搅拌,充分混合均匀后,再加入上述质量分数的薄荷脑、薄荷油、甜味剂、甘油、乙醇、蒸馏水均匀混合物,将所有混合物充分混匀后,检测合格后灌装于灭菌塑料瓶中密封入库,室温保存。
本发明也提供了剂型为浓缩喷雾液的抗辐射防龋消炎口腔制剂,它包括以质量分数计,1.2%的奥替普拉,0.8%的重组人角质细胞生长因子,0.04%的度米酚,0.03%的百里酚,0.04%的替硝唑,0.1%的糖蜜素,0.05%的薄荷脑,0.01%的薄荷油,2%的甘油,4%的乙醇,余量为蒸馏水;同时提供了所述浓缩喷雾液的制备方法:在无菌生产车间中,将奥替普拉、重组人角质细胞生长因子、度米酚、百里酚、替硝唑,按上述质量分数依次加入洁净的玻璃容器中,轻轻搅拌,充分混合均匀后,再加入上述质量分数的薄荷脑、薄荷油、甜味剂、甘油、乙醇、蒸馏水均匀混合物,将所有混合物充分混匀后,输进储存罐,储存2小时,过滤、灌装50ml塑料喷雾瓶、封口、包装。
本发明还提供了剂型为速崩洗消片的抗辐射防龋消炎口腔制剂,它包括以质量分数计,5%的奥替普拉,2%的重组人角质细胞生长因子,0.2%的度米酚,0.2%的百里酚,0.5%的替硝唑,5%的可溶性淀粉,56.1%的甘露醇,9%的聚维酮K30,15%的微晶化纤维素,5%的交联聚维酮XL-10,2%的薄荷脑;同时提供了该速崩洗消片的制备方法:按所述质量分数分别称取奥替普拉、重组人角质细胞生长因子、度米酚、百里酚、替硝唑、甘露醇加入洁净的玻璃容器中,轻轻搅拌,充分混合均匀后,加入5%放入可溶性淀粉,组成速崩漱口片的活性成分单元,再加入9%的聚维酮K30溶液,搅拌,过40目筛制粒,干燥,将15%放入微晶化纤维素、5%的交联聚维酮XL-10、2%的薄荷脑分散于PROSOLVSMCC50(优化微晶纤维素50)中,与已制备的粒混匀,用13mm浅弧圆冲压片,片剂硬度控制在4kgf。
本发明主要活性成分及其功效如下:
奥替普拉:奥替普拉(Oltipraz,OLT),即5-(2-吡嗪基)-4-甲-1,2-二羟基-3-硫酮,是从十字花科蔬菜等绿色植物中提取的巯基化合物,最早用于血吸虫病的治疗。现有研究表明,放射照射前给予OLT,可以降低放射性舌炎的病情和缩短病程时间,预防效应与剂量相关,具有预防放射性口腔黏膜炎(radiation-inducedoralmucositis,ROM)的应用前景。奥替普拉对放射性舌炎的预防效应机制可能是通过保护保护RTG舌体病损组织内血管内皮细胞,减少血管内皮细胞脱落和调控炎症相关细胞因子。OLT是一种抗氧化剂,具有抗氧化、清自由基作用,结构与还原性谷胱甘肽相似,具有外源性化学物质的解毒、抗氧化剂的保护作用,与肿瘤的化学预防相关。1993年美国NCI倡仪用它作临床I期抗癌药物试验。
重组人角质细胞生长因子:重组人角质细胞生长因子(rhKGF)是具有肝素结合特性的成纤维细胞生长因子(FGF)家族中的一员,因此又称为FGF-7。近来研究表明,rhKGF具有广泛的生物学活性,尤其是其拮抗辐射损伤作用引人注目。rhKGF促进上皮细胞增殖与分化作用明显:rhKGF特异性的靶细胞是上皮细胞,外源性的KGF对皮肤创面的上皮细胞有促增殖作用,促进创面边缘上皮细胞增殖并移行覆盖创面,并且加速毛囊和皮脂腺祖干细胞的增殖和分化,从而促进创面的愈合。rhKGF在口腔黏膜组织疾病的发生发展过程中,rhKGF通过调节凋亡相关基因Bcl-2、Bax的表达来调节上皮细胞的凋亡程,从而在口腔黏膜病的发生及发展过程中发挥重要作用。rhKGF辐射防护作用较强。有研究表明,应用离体微集落测定法发现rhKGF可提高辐射后口腔黏膜细胞和肠干细胞的存活率,并能减轻辐射引起的胃肠毒性。通过测定荧光素异硫氰酸盐标记发现在同样剂量的辐照条件下rhKGF降低了培养单层细胞的通连性,说明rhKGF对辐射引起气道上皮细胞的通透性增高有拮抗作用,对通气道的屏障功能具有保护作用,对射线所诱发的肺损伤和辐射内照射气溶胶损伤也有较强防护作用。rhKGF对维持细胞骨架蛋白的主要成分F-肌纤蛋白的稳定和保护细胞-细胞间连结起重要作用。rhKGF结合受体相继激活PKC,阻止了F-肌纤蛋白的断裂并使胞内的G-肌纤蛋白向F-肌纤蛋白转变,保持了细胞结构的完整性。同时rhKGF通过促进细胞内的粘附分子表达,使细胞通过整合素粘住细胞内基质,维持细胞结构的完整。
度米酚:别名杜美芬、消毒灵、溴化度粉芬。为白或微黄色片状结晶,能溶于水及醇。系阳离子型表面活性广谱杀菌剂,抗菌谱及抗菌活性与苯扎溴铵(新洁尔灭)相似。其作用在碱性中增强。用于预防和治疗口腔、咽喉感染如咽喉炎、扁桃体炎和粘膜皮肤消毒等。
百里酚:与香芹酚是同分异构体,由于被发现于百里香中而得名。有令人愉快的芳香气味百里,是我国《食品添加剂使用卫生标准》规定允许使用的食品香料。溶于乙醇等有机溶剂,微溶于水和甘油。是很强的防腐剂。杀菌作用麝香草酚的杀菌作用比苯酚强,且毒性低,对口腔咽喉粘膜有杀菌、杀真菌作用,对口腔龋齿有预防作用,用于口腔、咽喉的消毒杀菌、放射菌病等。
替硝唑:白色或淡黄色结晶或结晶性粉末,味微苦。在丙酮或氯仿中溶解,在水或乙醇中微溶。替硝唑与甲硝唑同属硝基咪唑类。对厌氧菌有良好活性。革兰阳性厌氧菌(消化球菌、消化链球菌、乳杆菌属),梭状芽胞杆菌属和难辨梭菌等对替硝唑均较敏感;替硝唑对脆弱类杆菌、梭杆菌属和费氏球菌属等革兰阴性厌氧菌的作用强于甲硝唑。其作用机制为抑制病原体DNA合成、并能快速进入细胞内。替硝唑主要用于预防和治疗牙周炎,冠周炎等口腔感染及手术创口、皮肤粘膜软组织的感染。
本发明不仅能有效清除人体内多余的自由基,可以阻断外源因素导致的辐射损伤,具有超强的抗辐射作用,而且促进口腔黏膜创面细胞RNA及DNA的复制和蛋白质的合成,提供组织再生与修复的基础,缩短创面愈合时间,消炎止痛防治口腔黏膜炎;同时还能高效杀灭变形链球菌等龋病致病菌,去除牙菌斑防龋固齿,阻断牙龈炎、牙周炎致病进程,保持口腔卫生、无异味,消除牙本质过敏,使用后具有持久抗菌效果,能够长时间附着在牙齿或口腔表面,形成保护膜,温柔呵护口腔,而且口感良好,对人体安全。
本发明的漱口水、浓缩喷雾液,速崩洗消片三种不同剂型,可以根据需要灵活使用:漱口水剂型用于针对外照射损伤和气溶胶损伤的预防性漱口;浓缩喷雾液用于辐射急慢性粘膜皮肤损伤的紧急治疗药品;速崩洗消片,携带方便,溶解迅速,短时间产生大量洗消溶液,配合淋浴车使用,用于进入辐射场所前后口鼻腔粘膜和全身皮肤的洗消。
本发明可配备在平时预防保健药箱或应急药箱中以便应对相关工作人员的放射性口腔疾病,同时还可以用便携式速崩洗消片稀释调制洗消液用于进入辐射场所前后口鼻腔粘膜和全身皮肤的洗消,适应平时保障和应急救治两种不同条件,满足预防和治疗保障工作需求,对保护相关工作人员的身体健康具有重要现实意义。
具体实施方式
主要原料及其来源:
奥替普拉;厂家:湖北巨胜科技有限公司;产地:湖北货号:TR75-6;规格:10∶1;有效成分:5-(2-吡嗪基)-4-甲-1,2-二羟基-3-硫酮。
重组人角质细胞生长因子;厂家:近岸蛋白质科技有限公司;产地:上海近岸;货号:C029;规格:10μg/50μg/1mg;有效成分:重组人表皮生长因子(rhKGF)。
度米酚。厂家:南京法姆化学厂;产地:南京;货号:T1162-7;规格:10g/瓶;有效成分:白色或微黄色片状结晶Domifene;
百里酚;厂家:沈阳市试剂三厂;产地:沈阳;货号:CAS89-83-8;规格:10g/瓶;有效成分:2-异丙基-5甲基苯酚。
替硝唑;厂家:武汉远城化工科技有限公司;产地:武汉;货号:CAS80-34-5;规格:5kg纸板桶;有效成分:2-甲基-1-[2-(乙基磺酰基)乙基]-5-硝基-1H咪唑。
实施例1:抗辐射防龋消炎口腔漱口液的组成、制备、及使用
漱口水剂型抗辐射防龋消炎口腔制剂,它包括以质量分数计,0.5%的奥替普拉,0.3%的重组人角质细胞生长因子,0.02%的度米酚,0.02%的百里酚,0.02%的替硝唑,0.1%的糖蜜素,0.05%的薄荷脑,0.01%的薄荷油,2%的甘油,4%的乙醇,余量为蒸馏水。
制备方法:在无菌生产车间中,将奥替普拉、重组人角质细胞生长因子、度米酚、百里酚、替硝唑按上述质量分数依次加入洁净的玻璃容器中,轻轻搅拌,充分混合均匀后,再加入上述质量分数的薄荷脑、薄荷油、甜味剂、甘油、乙醇、蒸馏水均匀混合物,将所有混合物充分混匀后,检测合格后灌装于灭菌塑料瓶中密封入库,室温保存。
产品性状:从外观上看均匀混合溶液,一般为白色;口味上,甜度适中,不带苦味,冰凉;细菌总数:<100个/L;大肠杆菌:<30个/L;致病菌:不得检出。
使用方法:上述漱口液的使用方法为直接开启后漱口,用量为1-3次/天,50ml/次,含漱3分钟。
实施例2:抗辐射防龋消炎口腔浓缩喷雾液的组成、制备、及使用
浓缩喷雾液型抗辐射防龋消炎口腔制剂,它包括以质量分数计,1.2%的奥替普拉,0.8%的重组人角质细胞生长因子,0.04%的度米酚,0.03%的百里酚,0.04%的替硝唑,0.1%的糖蜜素,0.05%的薄荷脑,0.01%的薄荷油,2%的甘油,4%的乙醇,余量为蒸馏水。
制备方法:在无菌生产车间中,将奥替普拉、重组人角质细胞生长因子、度米酚、百里酚、替硝唑,按上述质量分数依次加入洁净的玻璃容器中,轻轻搅拌,充分混合均匀后,再加入上述质量分数的薄荷脑、薄荷油、甜味剂、甘油、乙醇、蒸馏水均匀混合物,将所有混合物充分混匀后,输进储存罐,储存2小时,过滤、灌装50ml塑料喷雾瓶、封口、包装。
产品形状:从外观上看均匀混合悬浊溶液,一般为白色;口味上,甜度适中,不带苦味,冰凉;细菌总数:<100个/100ml;大肠杆菌:<30个/100ml;致病菌:不得检出。
使用方法:直接开启后喷于患处即可,用量为1-3次/天,1-2ml/次,疗程一般为3-20天,剂量和疗程都可根据实际情况遵医嘱调整。也可将其按5ml溶液:200ml清水兑成漱口水,含漱3分钟用于平时口腔保健。
实施例3:抗辐射防龋消炎速崩洗消片的组成、制备、及使用
速崩洗消片剂型抗辐射防龋消炎口腔制剂,它包括以质量分数计,5%的奥替普拉,2%的重组人角质细胞生长因子,0.2%的度米酚,0.2%的百里酚,0.5%的替硝唑,5%的可溶性淀粉,56.1%的甘露醇,9%的聚维酮K30,15%的微晶化纤维素,5%的交联聚维酮XL-10,2%的薄荷脑。
制备方法:按所述质量分数分别称取奥替普拉、重组人角质细胞生长因子、度米酚、百里酚、替硝唑、甘露醇加入洁净的玻璃容器中,轻轻搅拌,充分混合均匀后,加入5%放入可溶性淀粉,组成速崩漱口片的活性成分单元,再加入9%的聚维酮K30溶液,搅拌,过40目筛制粒,干燥,将15%放入微晶化纤维素、5%的交联聚维酮XL-10、2%的薄荷脑分散于PROSOLVSMCC50(优化微晶纤维素50)中,与已制备的粒混匀,用13mm浅弧圆冲压片,片剂硬度控制在4kgf。
产品性状:成品从外观上看均匀、有光泽,一般为白色;口味上,甜度适中,不带苦味,冰凉;细菌总数:<100个/Kg;大肠杆菌:<30个/Kg;致病菌:不得检出。
使用方法:将按1片:1000mL清水的比例,投放到水中在3分钟内完全分解,形成皮肤黏膜洗消液。单人用量为1-3次/片。集体使用时按人数以上剂量累加。本实施例中,所述速崩洗消片
实施例4:产品性能指标检测
本发明的漱口水、浓缩喷雾液及速崩洗消片,经检测,满足表1所示的指标要求:
表1口腔制剂指标要求

Claims (9)

1.一种抗辐射防龋消炎口腔制剂,其特征是:它包括奥替普拉、重组人角质细胞生长因子、度米酚、百里酚和替硝唑。
2.根据权利要求1所述的抗辐射防龋消炎口腔制剂,其特征是,所述口腔制剂中,按质量分数计,奥替普拉为0.5%~5%、重组人角质细胞生长因子为0.3%~2%、度米酚为0.02%~0.2%、百里酚为0.02%~0.2%,替硝唑0.02%~0.5%。
3.根据权利要求2所述的抗辐射防龋消炎口腔制剂,其特征是,它还包括清新剂、甜味剂、增塑剂、崩解剂、清凉剂、稳定剂;所述清新剂为食用香精;所述甜味剂选自以下一种或几种物质:糖蜜素、二肽甜味剂、阿斯巴甜;所述增塑剂选自以下一种或几种多元醇:甘油、山梨醇、乙醇、丙二醇和甘露醇;所述崩解剂选自以下一种或几种物质:交联羧甲基纤维素钠,羧甲基淀粉钠,联聚维酮;所述清凉剂选自以下一种或几种物质:薄荷油,薄荷脑,清凉醇;所述稳定剂选自可溶性淀粉和/或氨基酸。
4.根据权利要求3所述的抗辐射防龋消炎口腔制剂,其特征是,所述抗辐射防龋消炎口腔制剂为漱口水,它包括以质量分数计,0.5%的奥替普拉,0.3%的重组人角质细胞生长因子,0.02%的度米酚,0.02%的百里酚,0.02%的替硝唑,0.1%的糖蜜素,0.05%的薄荷脑,0.01%的薄荷油,2%的甘油,4%的乙醇,余量为蒸馏水。
5.根据权利要求3所述的抗辐射防龋消炎口腔制剂,其特征是,所述抗辐射防龋消炎口腔制剂为浓缩喷雾液,它包括以质量分数计,1.2%的奥替普拉,0.8%的重组人角质细胞生长因子,0.04%的度米酚,0.03%的百里酚,0.04%的替硝唑,0.1%的糖蜜素,0.05%的薄荷脑,0.01%的薄荷油,2%的甘油,4%的乙醇,余量为蒸馏水。
6.根据权利要求3所述的抗辐射防龋消炎口腔制剂,其特征是,所述抗辐射防龋消炎口腔制剂为速崩洗消片,它包括以质量分数计,5%的奥替普拉,2%的重组人角质细胞生长因子,0.2%的度米酚,0.2%的百里酚,0.5%的替硝唑,5%的可溶性淀粉,56.1%的甘露醇,9%的聚维酮K30,15%的微晶化纤维素,5%的交联聚维酮XL-10,2%的薄荷脑。
7.一种制备如权利要求4所述抗辐射防龋消炎口腔制剂的方法,其特征是,所述方法包括以下步骤:在无菌生产车间中,将奥替普拉、重组人角质细胞生长因子、度米酚、百里酚、替硝唑按权利要求4所述的质量分数依次加入洁净的玻璃容器中,轻轻搅拌,充分混合均匀后,再加入权利要求4所述质量分数的薄荷脑、薄荷油、甜味剂、甘油、乙醇、蒸馏水均匀混合物,将所有混合物充分混匀后,检测合格后灌装于灭菌塑料瓶中密封入库,室温保存。
8.一种制备如权利要求5所述抗辐射防龋消炎口腔制剂的方法,其特征是,所述方法包括以下步骤:在无菌生产车间中,将奥替普拉、重组人角质细胞生长因子、度米酚、百里酚、替硝唑,按权利要求5所述质量分数依次加入洁净的玻璃容器中,轻轻搅拌,充分混合均匀后,再加入权利要求5所述质量分数的薄荷脑、薄荷油、甜味剂、甘油、乙醇、蒸馏水均匀混合物,将所有混合物充分混匀后,输进储存罐,储存2小时,过滤、灌装50ml塑料喷雾瓶、封口、包装。
9.一种制备如权利要求6所述抗辐射防龋消炎口腔制剂的方法,其特征是,,所述方法包括以下步骤:按权利要求6所述质量分数分别称取奥替普拉、重组人角质细胞生长因子、度米酚、百里酚、替硝唑、甘露醇加入洁净的玻璃容器中,轻轻搅拌,充分混合均匀后,加入5%放入可溶性淀粉,组成速崩漱口片的活性成分单元,再加入9%的聚维酮K30溶液,搅拌,过40目筛制粒,干燥,将权利要求6所述的15%放入微晶化纤维素、5%的交联聚维酮XL-10、2%的薄荷脑分散于优化微晶纤维素50中,与已制备的粒混匀,用13mm浅弧圆冲压片,片剂硬度控制在4kgf。
CN201510717026.2A 2015-10-30 2015-10-30 抗辐射防龋消炎口腔制剂 Pending CN105327337A (zh)

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