[go: up one dir, main page]

CN104536259A - 一种光配向掩膜板对位的检测方法 - Google Patents

一种光配向掩膜板对位的检测方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104536259A
CN104536259A CN201410828551.7A CN201410828551A CN104536259A CN 104536259 A CN104536259 A CN 104536259A CN 201410828551 A CN201410828551 A CN 201410828551A CN 104536259 A CN104536259 A CN 104536259A
Authority
CN
China
Prior art keywords
mask plate
optical detector
glass substrate
detection method
alarm
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201410828551.7A
Other languages
English (en)
Inventor
黄秋蓉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nanjing CEC Panda LCD Technology Co Ltd
Original Assignee
Nanjing CEC Panda LCD Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nanjing CEC Panda LCD Technology Co Ltd filed Critical Nanjing CEC Panda LCD Technology Co Ltd
Priority to CN201410828551.7A priority Critical patent/CN104536259A/zh
Publication of CN104536259A publication Critical patent/CN104536259A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
    • G03F1/44—Testing or measuring features, e.g. grid patterns, focus monitors, sawtooth scales or notched scales
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
    • G02F1/133788—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by light irradiation, e.g. linearly polarised light photo-polymerisation
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
    • G03F1/42—Alignment or registration features, e.g. alignment marks on the mask substrates

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

本发明公开一种配向掩膜板对位的检测方法，包括：一曝光机台、设置于该机台上一光侦测器、与所述光侦测器相连接的一报警器、一玻璃基板以及一掩膜板；该掩膜板包括透光区与非透光区；检测方法为：将所述的光侦测器设置于所述掩膜板的非透光区在所述曝光机台上的投影区域；曝光机台将所述掩膜板与所述玻璃基板对位，并进行UV2A曝光制程；若所述掩膜板发生位移，所述光侦测器将接收到UV光；将信号传给曝光机台的报警器，报警器报警；机台停止工作；掩膜板与玻璃基板重新调整对位。通过本发明的检测方法，在曝光扫描的过程中，不仅可确保UV2A掩膜板对位的精准度；发生位移时，也可及时停止曝光机台工作，避免产线上大量的损失。

Description

一种光配向掩膜板对位的检测方法
技术领域
本发明涉及液晶显示制造领域，特别涉及一种光配向时掩膜板对位的检测方法。
背景技术
随着信息社会的发展，人们对显示器件的要求也越来越高，在平板显示器件当中，VA(Vertical Alignment，垂直配向显示模式)，IPS(In Plan Switch，面内开关显示模式)等广视角显示技术得到了飞跃的发展。进而，UV2A光配向技术在TFT-LCD制造业内更受青睐。
UV2A(Ultra Violet Vertical Alignment)技术是一种采用紫外线(UV＝UltraViolet)进行液晶配向的VA(Vertical Alignment，垂直配向)面板技术，其名称来源于紫外线UV与液晶面板VA模式的相乘。通过导入UV2A技术后，可以省去目前在VA模式液晶面板中用于控制液晶分子配向的狭缝隙和突起，因此通过UV2A技术液晶面板的开口率、对比度和响应速度都能得到提高，并能大幅削减生产程序。
UV2A技术的关键步骤是对阵列基板和彩膜基板进行曝光。如图1所示为现有技术的多畴显示配向的示意图，多畴显示配向方法是分别在阵列基板侧及CF基板侧的一颗像素上进行不同方向的曝光，为了确保在曝光扫描的过程中，UV2AMASK(掩膜板)与阵列基板或彩膜基板精准对位，以确保曝光后，玻璃基板上各处相同设计的图案尺寸应保持一致，并且均与掩膜板设计相同。在玻璃基板20上会设计一对位图案30，当掩膜板10与玻璃基板20对准时，在曝光扫描的过程中，利用CCD可追踪到玻璃基板上这一对位图案，如图2所示。
但由于目前面板像素线宽愈做愈小，及制程能力的飘移，使得追踪的图案线宽太小，或者追踪面板画素的CCD感应器老化，使得CCD侦测不到原本的追踪对位图案，而追踪到像素内其它的对位图案，进而使得UV2A掩膜板发生位移，造成曝光方向不对，若此时机台不停止工作，则会造成产线上大量的损失。
发明内容
本发明揭示一种配向掩膜板对位的检测方法，包括：一曝光机台、设置于该机台上
一光侦测器、与所述光侦测器相连接的一报警器、一玻璃基板以及一掩膜板；该掩膜板包括透光区与非透光区；检测方法如下：
将所述的光侦测器设置于所述掩膜板的非透光区在所述曝光机台上的投影区域；
曝光机台将所述掩膜板与所述玻璃基板对位，并进行UV2A曝光制程；
若所述掩膜板发生位移，所述光侦测器将接收到UV光；当所述光侦测器接收到UV光时，将信号传给曝光机台的报警器，报警器报警；机台停止工作；掩膜板与玻璃基板重新调整对位。
进一步，所述的光侦测器可设置于所述掩膜板的非透光区在所述玻璃基板上的投影区域；
进一步，所述的光侦测器可设置于所述掩膜板的透光区在所述曝光机台上的投影区域；若所述掩膜板发生位移，所述光侦测器将接收不到UV光；当所述光侦测器将接收不到UV光时，该光侦测器将信号传给曝光机台的报警器，报警器报警；机台停止工作；掩膜板与玻璃基板重新调整对位；
进一步，所述的光侦测器可设置于所述掩膜板的透光区在所述玻璃基板上的投影区域；
进一步，所述的玻璃基板为TFT阵列基板；
进一步，所述的玻璃基板为彩膜基板。
有益效果：通过在光配向制程的曝光机台上中增加一光侦测器，在曝光扫描的过程中，不仅可确保UV2A掩膜板对位的精准度；当UV2A掩膜板对位发生位移时，也可及时停止曝光机台工作，避免产线上大量的损失。
附图说明
图1为现有技术的多畴显示配向的示意图；
图2为图1中玻璃基板上的对位图案示意图；
图3为本发明的光配向示意图；
其中，10、掩膜板，20、玻璃基板，30、对位图案，50、光侦测器，60、报警器，101、透光区，102、非透光区。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例，进一步阐明本发明，应理解这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围，在阅读了本发明之后，本领域技术人员对本发明的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。
本发明提供一种可自动报警的光配向掩膜板对位的检测方法，当曝光方向不对时，报告机台报警并止工作，避免产线上大量的损失。该检测方法为：在曝光机台上设有一光侦测器50，以及与该光侦测器50相连接的报警器60。一掩膜板10，用于遮挡待曝光的玻璃基板10的有效区，包括透光区101和非透光区102。
将所述的光侦测器50设置于所述掩膜板的非透光区102在所述曝光机台上的投影区域；或者设置于掩膜板的非透光区102在玻璃基板上的投影区域。即当掩膜板10与玻璃基板20对准时，光侦测器50被掩膜板的非透光区挡住，故接收不到UV光。其中，玻璃基板20为TFT阵列基板或者彩膜基板。
曝光机台将所述掩膜板10与所述玻璃基板20对位，并进行UV2A曝光制程；若所述掩膜板10发生位移，所述光侦测器50将接收到UV光；当所述光侦测器50接收到UV光时，将信号传给曝光机台的报警器60，报警器报警；机台停止工作；掩膜板与玻璃基板重新调整对位。
光侦测器50也可以设置于掩膜板10的透光区102在曝光机台上或者玻璃基板的投影区域。当掩膜板10与玻璃基板20对准时，光侦测器50一直可以接收UV光。
曝光机台将所述掩膜板10与所述玻璃基板20对位，并进行UV2A曝光制程；若所述掩膜板10发生位移，所述光侦测器50将接收到不到UV光；当所述光侦测器50接收不到UV光时，将信号传给曝光机台的报警器60，报警器报警；机台停止工作；掩膜板与玻璃基板重新调整对位。
通过本发明的检测方法，可确保在曝光扫描的过程中，UV2A掩膜板对位的精准度，发生位移时，及时停止曝光机台工作，避免产线上大量的损失。

Claims (6)

1.一种光配向掩膜板对位的检测方法，包括：一曝光机台、设置于该机台上一光侦测器、与所述光侦测器相连接的一报警器、一玻璃基板以及一掩膜板；该掩膜板包括透光区与非透光区；检测方法如下：
将所述的光侦测器设置于所述掩膜板的非透光区在所述曝光机台上的投影区域；
曝光机台将所述掩膜板与所述玻璃基板对位，并进行UV2A曝光制程；
若所述掩膜板发生位移，所述光侦测器将接收到UV光；当所述光侦测器接收到UV光时，将信号传给曝光机台的报警器，报警器报警；机台停止工作；掩膜板与玻璃基板重新调整对位。
2.根据权利要求1所述的光配向掩膜板对位的检测方法，其特征在于：所述的光侦测器可设置于所述掩膜板的非透光区在所述玻璃基板上的投影区域。
3.根据权利要求1所述的光配向掩膜板对位的检测方法，其特征在于：所述的光侦测器可设置于所述掩膜板的透光区在所述曝光机台上的投影区域；若所述掩膜板发生位移，所述光侦测器将接收不到UV光；当所述光侦测器将接收不到UV光时，该光侦测器将信号传给曝光机台的报警器，报警器报警；机台停止工作；掩膜板与玻璃基板重新调整对位。
4.根据权利要求3所述的光配向掩膜板对位的检测方法，其特征在于：所述的光侦测器可设置于所述掩膜板的透光区在所述玻璃基板上的投影区域。
5.根据权利要求1-4任一项所述的光配向掩膜板对位的检测方法，其特征在于：所述的玻璃基板为TFT阵列基板。
6.根据权利要求1-4任一项所述的光配向掩膜板对位的检测方法，其特征在于：所述的玻璃基板为彩膜基板。
CN201410828551.7A 2014-12-26 2014-12-26 一种光配向掩膜板对位的检测方法 Pending CN104536259A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410828551.7A CN104536259A (zh) 2014-12-26 2014-12-26 一种光配向掩膜板对位的检测方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410828551.7A CN104536259A (zh) 2014-12-26 2014-12-26 一种光配向掩膜板对位的检测方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN104536259A true CN104536259A (zh) 2015-04-22

Family

ID=52851806

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410828551.7A Pending CN104536259A (zh) 2014-12-26 2014-12-26 一种光配向掩膜板对位的检测方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104536259A (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104730857A (zh) * 2015-03-24 2015-06-24 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 一种液晶显示面板的掩膜板及使用该掩膜板的曝光方法
CN106338892A (zh) * 2016-11-01 2017-01-18 合肥京东方光电科技有限公司 一种曝光机、曝光的方法以及透明对位件的移位控制方法
CN108153061A (zh) * 2018-01-04 2018-06-12 京东方科技集团股份有限公司 光配向检测单元、光配向方法及装置
WO2018120343A1 (zh) * 2016-12-30 2018-07-05 深圳市华星光电技术有限公司 一种平曲面共用改善液晶显示穿透率的方法
CN112033281A (zh) * 2019-06-04 2020-12-04 纬创资通股份有限公司 具有对位校准图样的面板装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007113933A1 (ja) * 2006-04-05 2007-10-11 Sharp Kabushiki Kaisha 露光方法および露光装置
CN102681258A (zh) * 2012-04-25 2012-09-19 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 一种紫外光配向的液晶显示器的制造方法
CN102692831A (zh) * 2012-05-28 2012-09-26 京东方科技集团股份有限公司 对位标识及在曝光工艺中采用该对位标识制作工件的方法
CN103412428A (zh) * 2013-07-24 2013-11-27 北京京东方光电科技有限公司 一种对位系统

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007113933A1 (ja) * 2006-04-05 2007-10-11 Sharp Kabushiki Kaisha 露光方法および露光装置
CN102681258A (zh) * 2012-04-25 2012-09-19 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 一种紫外光配向的液晶显示器的制造方法
CN102692831A (zh) * 2012-05-28 2012-09-26 京东方科技集团股份有限公司 对位标识及在曝光工艺中采用该对位标识制作工件的方法
CN103412428A (zh) * 2013-07-24 2013-11-27 北京京东方光电科技有限公司 一种对位系统

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104730857A (zh) * 2015-03-24 2015-06-24 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 一种液晶显示面板的掩膜板及使用该掩膜板的曝光方法
CN106338892A (zh) * 2016-11-01 2017-01-18 合肥京东方光电科技有限公司 一种曝光机、曝光的方法以及透明对位件的移位控制方法
CN106338892B (zh) * 2016-11-01 2018-05-08 合肥京东方光电科技有限公司 一种曝光机、曝光的方法以及透明对位件的移位控制方法
WO2018120343A1 (zh) * 2016-12-30 2018-07-05 深圳市华星光电技术有限公司 一种平曲面共用改善液晶显示穿透率的方法
CN108153061A (zh) * 2018-01-04 2018-06-12 京东方科技集团股份有限公司 光配向检测单元、光配向方法及装置
CN108153061B (zh) * 2018-01-04 2020-12-01 京东方科技集团股份有限公司 光配向检测单元、光配向方法及装置
CN112033281A (zh) * 2019-06-04 2020-12-04 纬创资通股份有限公司 具有对位校准图样的面板装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103744214B (zh) 一种液晶显示器的玻璃基板的曝光方法
US9141000B2 (en) Double-surface manufacturing method and exposure apparatus
CN104536259A (zh) 一种光配向掩膜板对位的检测方法
CN103278987B (zh) 阵列基板、该阵列基板断线修复方法及显示装置
CN104516133B (zh) 阵列基板及该阵列基板的断线修补方法
CN103904060B (zh) Tft lcd阵列对位标记设计及制造方法
US20190235288A1 (en) Alignment detection method and display device
US10429708B2 (en) Array substrate, display panel and display device
CN105974638B (zh) 一种显示基板及显示装置
CN104977745A (zh) 液晶显示面板用基板及液晶显示面板切割方法
EP3486716A1 (en) Liquid crystal grating and control method therefor
CN104122700A (zh) 一种3d显示用基板及其制作方法、掩模板
CN105867066B (zh) 掩膜板、显示基板的制作方法、显示基板及显示装置
CN106502060A (zh) 一种显示基板、显示面板及显示装置
CN106019814A (zh) 掩膜板及膜层的制备方法
JP2010170250A (ja) 表示入力装置
US10211080B2 (en) Robot arms and method for aligning substrate with the same
EP3200015B1 (en) Array substrate, display panel, display apparatus, and method for repairing display panel
CN106125384B (zh) 超窄边框显示面板的挡墙
JP6586225B2 (ja) 光配向に用いられるフォトマスク及び光配向の方法
US9806102B2 (en) Display substrate and method for fabricating the same and display device
WO2018033012A1 (zh) 对盒基板、液晶显示面板及其亮点消除方法
CN103713441A (zh) 液晶透镜及其制作方法、显示装置
KR20110074262A (ko) 포토 마스크 및 상기 포토 마스크를 이용하여 제조된 박막 트랜지스터
CN108873402B (zh) 一种显示基板及检测曝光异常的方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20150422