CN104409650A - 一种发光器件及其制作方法、显示装置、光检测装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种发光器件及其制作方法、显示装置、光检测装置,涉及发光器件技术领域,能够提高发光器件的出光效率。其中发光器件包括:基板及依次层叠于基板上的阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和阳极,空穴传输层和/或电子传输层的形成材料包括光导电高分子材料。由于光导电高分子材料在光照激发下能够产生载流子,促进载流子转移,提高器件的载流子传输性能,因此本发明所提供的发光器件具有更高的出光效率。
Description
技术领域
本发明涉及发光器件技术领域,尤其涉及一种发光器件及其制作方法、显示装置、光检测装置。
背景技术
OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)显示器件具备自发光、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于柔性面板、使用温度范围广、构造及制程较简单等优点,是目前平面显示器技术的主流发展方向之一。
OLED显示器件主要包括一TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶体管)阵列基板及设置于其上的OLED发光器件,其中OLED发光器件的结构包括依次层叠的阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极。当向OLED发光器件两端施加电压后,阳极中的空穴经过空穴注入层和空穴传输层、阴极中的电子经过电子传输层注入发光层中发生复合,激发发光层中的发光材料向外辐射光子,实现器件发光。
发明内容
基于上述现有技术的现状,本发明提供一种发光器件及其制作方法、显示装置、光检测装置,以提高发光器件的出光效率。
为达到上述目的,本发明采用如下技术方案:
本发明的第一方面提供了一种发光器件,包括:基板及依次层叠于所述基板上的阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极,其特征在于,所述空穴传输层和/或所述电子传输层的形成材料包括光导电高分子材料。
优选的,当所述空穴传输层的形成材料包括光导电高分子材料时,所述空穴传输层所包括的光导电高分子材料为P型光导电高分子材料。
优选的,所述空穴传输层所包括的光导电高分子材料为聚乙烯咔唑及其衍生物、、酞菁及其聚合物或偶氮类高分子。
优选的,当所述电子传输层的形成材料包括光导电高分子材料时,所述电子传输层所包括的光导电高分子材料为N型光导电高分子材料。
优选的,所述电子传输层的形成材料包括无机纳米晶。
优选的,所述电子传输层的形成材料所包括的无机纳米晶为ZnO纳米晶。
优选的,所述发光层的形成材料包括量子点材料。
优选的,所述发光层的材料所包括的量子点材料为有包覆层包覆的半导体纳米晶。
优选的,所述发光层的材料所包括的量子点材料为有包覆层包覆的Si、C、InAs、InP、GaAs、CdSe、CdS、CdSe和CdTe中的至少一种。
本发明的第二方面提供了一种发光器件的制作方法,用于制作以上所述的发光器件,所述制作方法包括:采用光导电高分子材料形成空穴传输层和/或电子传输层。
优选的,所述发光器件还包括:采用量子点材料形成发光层。
本发明的第三方面提供了一种显示装置,包括权利要求以上所述的发光器件。
本发明的第四方面提供了一种光检测装置,包括以上所述的发光器件。
本发明所提供的发光器件及其制作方法、显示装置、光检测装置中,发光器件的空穴传输层和/或电子传输层的形成材料包括光导电高分子材料,由于光导电高分子材料在光照激发下能够产生载流子,促进载流子转移,提高器件的载流子传输性能,因此本发明所提供的发光器件具有更高的出光效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为本发明实施例所提供的显示装置的平面结构图;
图2为图1中A-A面的截面图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例,均属于本发明保护的范围。
本实施例提供了一种发光器件,如图2所示,包括:基板1及依次层叠于基板1上的阳极2、空穴注入层3、空穴传输层4、发光层5、电子传输层6和阴极7,其中,空穴传输层4和/或电子传输层6的形成材料包括光导电高分子材料。
本实施例所提供的发光器件采用光导电高分子材料形成空穴传输层和/电子传输层,由于光导电高分子材料在光照激发下能够产生载流子,促进载流子转移,因此采用光导电高分子材料形成空穴传输层和/电子传输层,能够提高空穴传输层和/电子传输层的载流子传输效率,从而增大发光器件的出光效率。
具体的,若空穴传输层4的形成材料包括光导电高分子材料,则空穴传输层所包括的光导电高分子材料为P型光导电高分子材料,P型光导电高分子材料在光照时所产生的载流子为空穴,因此能够提高空穴的传输效率。
此时,空穴传输层4所包括的光导电高分子材料优选的可为聚乙烯咔唑(PVK)及其衍生物、酞菁及其聚合物、偶氮类高分子等,更优选为PVK及其衍生物,PVK是由N-乙烯基咔唑单体聚合得到,具有电致发光性能,光致发光峰的位置在412nm,由于咔唑侧基的存在,PVK具有很强的空穴传输能力,通过协同效应提高器件的发光效率,同时PVK还具有较强的耐热、耐稀酸和稀碱的性能,有利于提高器件的稳定性。
若电子传输层6的形成材料包括光导电高分子材料,则电子传输层6所包括的光导电高分子材料为N型光导电高分子材料,N型光导电高分子材料在光照激发下所产生的载流子为电子,因此能够提高电子的传输效率。
在本发明的其它实施例中,电子传输层6的形成材料优选的可包括无机纳米晶,更优选为ZnO纳米晶,以进一步提高器件的出光效率。
基于以上所述的技术方案,本实施例中的发光器件的发光层5的形成材料可选用用于发出不同颜色的光的荧光材料或者量子点材料,本实施例中优选为量子点材料。量子点材料的量子尺寸效应和介电限域效应使其具有独特的光致发光和电致发光性质,能够作为发光器件的发光层。相比传统的荧光材料的发光器件,本实施例所提供的发光器件采用量子点材料形成发光层,发光层的发光效率高,从而进一步提高了发光器件的出光效率。
另外,量子点发光器件还具有光化学稳定性高、不易光解、宽激发、窄发射、高色纯度等优点,并且,无需对应不同发光颜色的需求选择不同的荧光材料,仅通过控制量子点材料的尺寸或者材料组成,就能够调节发光器件的发光光谱(从近红外到紫外),实现改变发光颜色的目的。
本实施例中,发光层5的材料所包括的量子点材料优选的可为有包覆层包覆的半导体纳米晶,例如可为:有包覆层包覆的由Si、C等Ⅳ族元素形成的材料,由InAs、InP、GaAs等Ⅲ族和Ⅴ族元素形成的材料,CdSe、CdS、CdSe、CdTe等Ⅱ族和Ⅵ族元素形成的材料中的至少一种。发光层5中量子点的直径优选的可为2nm~10nm,以进一步提高量子产量,增大器件的发光效率。
与本实施例所提供的发光器件相对应的,本实施例还提供了发光器件的制作方法,该制作方法包括采用光导电高分子材料形成空穴传输层和/或电子传输层的步骤,以利用光导电高分子材料在光照激发下能够产生载流子的性能,提高所制作的发光器件的出光效率。
进一步的,本实施所提供的制作方法还可以包括采用量子点材料形成发光层的步骤,以利用量子点材料发光效率高的特点进一步提高所制作的发光器件的出光效率。
以所要制作的发光器件为底出光型发光器件为例,本实施例所提供的发光器件的制备过程具体的可为:提供一基板1,该基板1可选用透明玻璃基板,若要制作的发光器件为柔性器件,则该基板1可选用柔性基材,如PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)等;在基板1上沉积ITO(IndiumTin Oxide,氧化铟锡),形成阳极2;在阳极2上旋涂PEDOT:PSS溶液,形成空穴注入层3;采用旋涂、喷墨等工艺在空穴注入层3上覆盖PVK的氯仿溶液,经过后烘和冷却处理形成空穴传输层4;采用旋涂、喷墨、印刷等工艺在空穴注入层3上覆盖量子点溶液,溶剂可为甲苯、氯仿等,形成发光层5;在发光层5上旋涂ZnO纳米晶材料,形成电子传输层6;在电子传输层6上蒸镀Al,形成阴极。
需要说明的是,发光器件的各膜层的形成材料和制备工艺并不限定于上述发光器件的制备过程,在本发明的其它实施例中,发光器件的各膜层的形成材料和制备工艺可根据实际情况进行选择。
本实施例还提供了一种显示装置,该显示装置包括本实施所提供的发光器件,如图1和图2所示,其中图1为该显示装置的平面结构图,该显示装置包括基板1及呈矩阵式设置于基板1上的多个像素11,每个像素11包括一发光器件,图2为该显示装置沿A-A面的截面图,示出了显示装置每个像素中发光器件的截面结构。本实施例所提供的显示装置由于采用了本实施例所提供的发光器件,因此也具有出光效率高、显示亮度高的优点。
另外,由于高分子光导体具有成膜性好、容易加工成型、柔韧性好的特点,因此本实施例所提供的发光器件的膜层质量好、发光器件的性能更优、制作过程更简单,更适用于制作柔性显示装置。
需要说明的是,本实施例所提供的显示装置,其基板1优选的可为一薄膜晶体管阵列基板,包括与显示装置的像素一一对应设置的薄膜晶体管,每个像素中薄膜晶体管的漏极与发光器件的阳极相连,用于驱动对应的发光器件发光。
本实施例还提供了一种光检测装置,包括本实施例所提供的发光器件,如图2所示,该发光器件包括:基板1及依次层叠于基板1上的阳极2、空穴注入层3、空穴传输层4、发光层5、电子传输层6和阴极7,其中,空穴传输层4和/或电子传输层6的形成材料包括光导电高分子材料。由于不同的光导电高分子材料对光照的敏感度不同,例如:作为光导电高分子材料的聚乙烯咔唑(PVK)及其衍生物、酞菁及其聚合物、偶氮类高分子等材料达到最大载流子传输速率所需要的光波段不同,因此可根据实际所要测量的光波段,选择相应的光导电高分子材料作为发光器件的传输层,依据发光器件最终的发光亮度,能够实现对不同光波段的检测,范围可扩展到整个可见光波段。
以上所述仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (13)
1.一种发光器件,包括:基板及依次层叠于所述基板上的阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极,其特征在于,所述空穴传输层和/或所述电子传输层的形成材料包括光导电高分子材料。
2.根据权利要求1所述的发光器件,其特征在于,当所述空穴传输层的形成材料包括光导电高分子材料时,所述空穴传输层所包括的光导电高分子材料为P型光导电高分子材料。
3.根据权利要求2所述的发光器件,其特征在于,所述空穴传输层所包括的光导电高分子材料为聚乙烯咔唑及其衍生物、酞菁及其聚合物或偶氮类高分子。
4.根据权利要求1所述的发光器件,其特征在于,当所述电子传输层的形成材料包括光导电高分子材料时,所述电子传输层所包括的光导电高分子材料为N型光导电高分子材料。
5.根据权利要求1所述的发光器件,其特征在于,所述电子传输层的形成材料包括无机纳米晶。
6.根据权利要求5所述的发光器件,其特征在于,所述电子传输层的形成材料所包括的无机纳米晶为ZnO纳米晶。
7.根据权利要求1~6任一项所述的发光器件,其特征在于,所述发光层的形成材料包括量子点材料。
8.根据权利要求7所述的发光器件,其特征在于,所述发光层的材料所包括的量子点材料为有包覆层包覆的半导体纳米晶。
9.根据权利要求8所述的发光器件,其特征在于,所述发光层的材料所包括的量子点材料为有包覆层包覆的Si、C、InAs、InP、GaAs、CdSe、CdS、CdSe和CdTe中的至少一种。
10.一种发光器件的制作方法,其特征在于,用于制作权利要求1~9任一项所述的发光器件,所述制作方法包括:采用光导电高分子材料形成空穴传输层和/或电子传输层。
11.根据权利要求10所述的发光器件的制作方法,其特征在于,还包括:采用量子点材料形成发光层。
12.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1~9任一项所述的发光器件。
13.一种光检测装置,其特征在于,包括权利要求1~9任一项所述的发光器件。
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