[go: up one dir, main page]

CN104102028A - 表面处理氧化铟锌基板的有机溶液及显示基板制备方法 - Google Patents

表面处理氧化铟锌基板的有机溶液及显示基板制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104102028A
CN104102028A CN201310560061.9A CN201310560061A CN104102028A CN 104102028 A CN104102028 A CN 104102028A CN 201310560061 A CN201310560061 A CN 201310560061A CN 104102028 A CN104102028 A CN 104102028A
Authority
CN
China
Prior art keywords
organic solution
acid
zinc oxide
organic substance
methyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201310560061.9A
Other languages
English (en)
Inventor
崔玄武
金智惠
安暻源
柳娥凛
任宰范
田桓承
许健宁
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Cheil Industries Inc
Original Assignee
Cheil Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020130063501A external-priority patent/KR20140122635A/ko
Application filed by Cheil Industries Inc filed Critical Cheil Industries Inc
Publication of CN104102028A publication Critical patent/CN104102028A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

本发明公开了表面处理氧化铟锌基板的有机溶液及显示基板制备方法,具体地公开了一种用于表面处理氧化铟锌(IZO)基板的有机溶液和一种使用该有机溶液制备显示基板的方法,该有机溶液用于氧化铟锌(IZO)基板的表面处理,并且包含有机物质。

Description

表面处理氧化铟锌基板的有机溶液及显示基板制备方法
相关申请
本申请要求分别于2013年4月10日和6月3日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请号10-2013-0039335和10-2013-0063501的优先权和权益,它们的全部内容通过引用并入本文。
技术领域
公开了一种用于表面处理氧化铟锌(IZO)基板的有机溶液和一种使用该有机溶液制备显示基板的方法。
背景技术
一般来说,由于将黑色物质涂覆于显示用的玻璃基板上并且不产生残留物地形成黑色图案,这个过程可以无问题地进行。黑色图案可包括黑色矩阵或黑色柱间隔(column spacer)。
近期对用于显示面板的电极中的氧化铟锌(IZO)以及氧化铟锡(ITO)的兴趣已经增加,因此,已经尝试在这些基板上制造黑色图案。
发明内容
一个实施方式提供了一种用于表面处理氧化铟锌(IZO)基板以便在挡光层的图案形成期间最小化残留物的有机溶液。
另一个实施方式提供了一种使用该用于表面处理氧化铟锌(IZO)基板的有机溶液制备显示基板的方法。
一个实施方式提供了一种用于表面处理氧化铟锌(IZO)基板的有机溶液,其用于氧化铟锌(IZO)基板的表面处理,并且其包含有机物质,该有机物质包含次氮基三乙酸(nitrilo triacetic acid)、异羟肟酸、硫醇、羧酸、醇、磷酸、磺酸或它们的组合。
有机溶液可进一步包含溶剂,并且该溶液可包含蒸馏水、醇、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺或它们的组合。
基于有机溶液的总量,可以以1至10wt%的包含有机物质。
另一个实施方式提供了一种制备显示基板的方法,其包括用有机物质表面处理氧化铟锌(IZO)基板;以及在用有机物质表面处理过的IZO基板上涂覆光敏树脂组合物,然后预烘焙、曝光和显影该光敏树脂组合物以形成挡光层,其中有机物质包括次氮基三乙酸、异羟肟酸、硫醇、羧酸、醇、磷酸、磺酸或它们的组合。
可以通过将IZO基板浸渍于包含有机物质的有机溶液中以表面处理所述IZO基板。
所述光敏树脂组合物可包括粘合剂树脂、可光聚合(光聚合性,photopolymerizable)单体、光聚合引发剂、着色剂和溶剂。
在以下具体实施方式中包括其它实施方式。
可以无残留物地在氧化铟锌(IZO)基板上实现挡光层的图案。
附图说明
图1至图4为分别示出根据实施例1和比较例1至3的显示基板的残留物图像的光学显微镜照片。
具体实施方式
在下文中,详细地描述了实施方式。然而,这些实施方式是示例性的,且本公开并不限于此。
一个实施方式提供了一种用于IZO基板表面处理的有机溶液,其用于氧化铟锌(IZO)基板的表面处理。
有机溶液包括有机物质。有机物质可包括次氮基三乙酸、异羟肟酸、硫醇、羧酸、醇、磷酸、磺酸或它们的组合,并且它们当中,优选次氮基三乙酸。
当使用包含有机物质的有机溶液处理IZO基板的表面时,在后续工艺中在IZO基板上形成挡光层期间,由于有机物质与IZO基板上的锌金属的相互作用,可以使挡光层材料的残留物最小化。
有机溶液可进一步包含溶剂。溶剂可包括蒸馏水、醇、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺或它们的组合。醇可以包括伯醇、仲醇、叔醇等。
基于有机溶液的总量,可以以1至10wt%,且特别的3至7wt%的量包含有机物质。当有机物质包括在该范围内时,有机物质在IZO基板的表面上可以有效地相互作用并且在挡光层的形成期间使挡光层的残留物最小化。
根据另一个实施方式,所述有机溶液可以用于在表面处理过的IZO基板上形成挡光层,制造显示基板。
具体地,可以通过使用有机物质处理IZO基板的表面并且在以该有机物质进行了表面处理的IZO基板上形成挡光层来制造显示基板。
当在形成挡光层之前有机物质预处理IZO基板表面上的有机物质时,有机物质与IZO基板上的锌金属相互作用,从而可以使IZO基板的表面上的挡光层材料的残留物最小化。
根据一个实施方式,在IZO基板上形成挡光层以制造显示基板。另一方面,氧化铟锡(ITO)基板与挡光层材料间没有高的紧密接触力并且几乎不产生挡光层材料的残留物。与ITO基板不同,IZO基板与挡光层材料之间具有非常高的紧密接触力并产生残留物,因此当IZO基板的表面上预处理有机物质之后形成挡光层时,挡光层材料的残留物可以被最小化。
可以通过将IZO基板浸渍于所述包含有机物质和溶剂的有机溶液中来实施使用有机物质对IZO基板的表面的处理。
其后,通过在使用有机物质表面处理过的IZO基板上涂覆、预烘焙、曝光和显影光敏树脂组合物来形成挡光层。
光敏树脂组合物可包括粘合剂树脂、可光聚合单体、光聚合引发剂、着色剂和溶剂。
在下文中,描述了光敏树脂组合物的各组分。
粘合剂树脂可以是cardo基类树脂(cardo-based resin)、丙烯酸类树脂或它们的组合。
通过凝胶渗透色谱法(GPC)测量的cardo基类树脂的重均分子量可以在1,000至20,000g/mol,且特别地在1,500至8,000g/mol的范围内。当cardo基类树脂具有该范围的重均分子量时,在制备挡光层期间可以提供优异的图案化能力和显影性。
丙烯酸类树脂的具体实例可以包括甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸2-羟乙酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-羟乙酯共聚物等,但不限于此。它们可以单独使用或作为两种或更多种的混合物使用。
丙烯酸类树脂的重均分子量可以在3,000至150,000g/mol的范围,特别地为5,000至50,000g/mol,且更特别地为5,000至30,000g/mol。当丙烯酸类树脂具有该范围的重均分子量时,在制备挡光层期间,光敏树脂组合物具有良好的物理和化学性质、适当的粘度、和与基板的紧密接触性质。
基于光敏树脂组合物的总量,可以以可以为5至50wt%,且特别地为10至30wt%的量包含粘合剂树脂。当粘合剂树脂包括在上述范围内时,由于适当的粘度,在挡光层的制备期间改善了图案化能力、加工性和显影性。
光聚合性单体可包括具有至少一个烯键式不饱和双键的(甲基)丙烯酸的单官能或多官能酯。
由于烯键式不饱和双键,可光聚合单体在图案形成过程期间的曝光下引起充分的聚合以形成具有优异的耐热性、耐光性和耐化学性的图案。
可光聚合单体的具体实例可以是乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二甘醇二(甲基)丙烯酸酯、三甘醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚A二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、双酚A环氧(甲基)丙烯酸酯、乙二醇单甲醚(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酰氧基乙基磷酸酯、线型酚醛环氧(甲基)丙烯酸酯(novolacepoxy(meth)acrylate)等。
可以使用酸酐处理所述可光聚合单体以提高显影性。
基于光敏树脂组合物的总量,可以以1至20wt%,且特别地为1至15wt%的量包含可光聚合单体。当可光聚合单体包括在该范围内时,在图案形成过程中在曝光下充分地进行固化,并且由于在氧气下的优异敏感性,可以提高与粘合剂的相容性。
光聚合引发剂可以包括苯乙酮类化合物、二苯甲酮类化合物、噻吨酮类化合物、安息香类化合物、三嗪类化合物、肟类化合物或它们的组合。
苯乙酮类化合物可以包括2,2'-二乙氧基苯乙酮、2,2'-二丁氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基苯丙酮、对-叔丁基三氯苯乙酮、对叔丁基二氯苯乙酮、4-氯苯乙酮、2,2'-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-吗啉代丙-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁-1-酮等。
二苯甲酮类化合物可以包括二苯甲酮、苯甲酰基苯甲酸、苯甲酰基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、羟基二苯甲酮、丙烯酸酯化的二苯甲酮、4,4'-双(二甲基氨基)二苯甲酮、4,4'-双(二乙基氨基)二苯甲酮、4,4'-二甲基氨基二苯甲酮、4,4'-二氯二苯甲酮、3,3'-二甲基-2-甲氧基二苯甲酮等。
噻吨酮类化合物可以包括噻吨酮、2-甲基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮等。
安息香类化合物可以包括安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香异丙醚、安息香异丁醚、苄基二甲基缩酮等。
三嗪类化合物可以包括2,4,6-三氯-s-三嗪、2-苯基4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4'-甲氧基萘基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(对甲氧基苯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(对甲苯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-联苯基4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、双(三氯甲基)-6-苯乙烯基-s-三嗪、2-(萘酚-1-基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基萘酚-1-基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-4-三氯甲基(胡椒基)-6-三嗪、2-4-三氯甲基(4'-甲氧基苯乙烯基)-6-三嗪等。
肟类化合物可以包括邻酰基肟类化合物、2-(邻苯甲酰基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮、1-(邻乙酰基肟)-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮、邻乙氧羰基-α-氧氨基-1-苯基丙-1-酮等。邻酰基肟类化合物的具体实例可以包括1,2-辛二酮、2-二甲基氨基-2-(4-甲基苄基)-1-(4-吗啉-4-基-苯基)-丁-1-酮、1-(4-苯基硫烷基苯基)-丁烷-1,2-二酮2-肟-邻苯甲酸酯、1-(4-苯基硫烷基苯基)-辛烷-1,2-二酮2-肟-邻苯甲酸酯、1-(4-苯基硫烷基苯基)-辛-1-酮肟-邻乙酸酯和1-(4-苯基硫烷基苯基)-丁-1-酮肟-邻乙酸酯等。
光聚合引发剂可进一步包含咔唑类化合物、二酮类化合物、硼酸锍类化合物、重氮类化合物、联咪唑类化合物等。
基于光敏树脂组合物的总量,可以以0.1至20wt%,且特别地为1至10wt%的量包含光聚合引发剂。当光聚合引发剂包括在该范围内时,在挡光层的图案形成过程期间在曝光下进行了充分地光聚合,从而获得优异的敏感性、图案的线性、对溶剂的溶解性、以及存贮稳定性,并且由于在光聚合后非反应性引发剂而不会劣化透射率。
着色剂可以包括颜料、染料或它们的组合。
颜料可包括有机颜料、无机颜料或它们的组合。可以混合有机颜料和无机颜料以实现高光密度。
有机颜料可包括黑色有机颜料。黑色有机颜料具有绝缘(隔离,insulation)性能。
黑色有机颜料的实例可以包括二萘嵌苯黑、花青黑(花菁黑)等,并且可以单独使用或两种以上的组合使用。
黑色有机颜料可以是两种以上有机颜料的混合物以显示黑色。可以使用在色坐标颜料中通过混合而显示黑色的任何颜料的组合,并且特别地可以使用选自红色颜料、蓝色颜料、绿色颜料、紫色类颜料、黄色类颜料、花青(花菁)类颜料和品红类颜料中的至少两种的黑化组合。例如,可以使用红色类颜料、蓝色类颜料和绿色类颜料的黑化混合物,或者可以使用绿色颜料和紫色类颜料的黑化混合物。
红色类颜料可以包括二萘嵌苯类颜料、蒽醌类颜料、二蒽醌类颜料、偶氮类颜料、重氮类颜料、喹吖啶酮类颜料、蒽类颜料等。红色类颜料的具体实例可以包括二萘嵌苯颜料、喹吖啶酮颜料、萘酚AS、Sicomin颜料、蒽醌(苏丹I、II、III、R)、二蒽醌酯、双偶氮、苯并吡喃等。
蓝色类颜料可以包括金属酞菁类颜料、阴丹酮类颜料、靛酚类颜料等。蓝色类颜料的具体实例可以包括酞菁金属络合物,如铜酞菁、氯铜酞菁、氯铝酞菁、钛氧基酞菁、钒酸酞菁、镁酞菁、锌酞菁、铁酞菁、钴酞菁等。
绿色类颜料可以包括卤化酞菁类颜料。具体地,绿色颜料可以包括多氯铜酞菁、多氯溴酞菁等。
紫色类颜料可以包括二噁嗪紫、第一紫B、甲基紫、阴丹酮亮紫(indanthone brilliant violet)等。
黄色类颜料可以包括四氯异吲哚啉酮类颜料、汉撒(hansa)类颜料、联苯胺黄色类颜料、偶氮类颜料等。具体地,汉撒黄(10G、5G、3G、G、GR、A、RN、R)、联苯胺(G、GR)、铬黄、永固黄(FGL、H10G、HR)、蒽等。
花菁类颜料可以包括非金属酞菁、部花青(份菁,merocyanine)等。
品红色类颜料可以包括二甲基喹吖啶酮、硫代靛蓝等。
无机颜料可以包括炭黑、氧化铬、氧化铁、钛黑、碳化钛、苯胺黑等。此类无机颜料具有高电阻特性,并且一种或多种可以单独使用和作为它们的混合物使用。
光敏树脂组合物可以进一步包含分散剂以提高颜料的分散性。
具体地,颜料可以使用分散剂进行表面预处理或者在光敏树脂组合物的制备期间将颜料和分散剂一起加入。
染料可以是三苯基甲烷类染料、蒽醌类染料、偶氮类染料或它们的组合,并且它们当中,可以优选使用蒽醌类染料和偶氮类染料中的至少一种与三苯基甲烷类染料的混合物。
基于光敏树脂组合物的总量,可以以1至40wt%,且特别地为5至30wt%的量包含着色剂。当着色剂包括在该范围内时,可以提高绝缘性,可以提供高光密度、改善的加工性如显影性等。
溶剂的实例可以包括醇类,如甲醇、乙醇等;醚类,如二氯乙醚、正丁醚、二异戊醚、甲基苯基醚、四氢呋喃等;乙二醇醚类,如乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、丙二醇甲醚等;溶纤剂乙酸酯类,如甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、二乙基溶纤剂乙酸酯等;卡必醇类,如甲基乙基卡必醇、二乙基卡必醇、二甘醇单甲醚、二甘醇单乙醚、二甘醇二甲醚、二甘醇甲基乙基醚、二甘醇二乙醚等;丙二醇烷基醚乙酸酯类,如丙二醇甲基醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等;芳族烃类,如甲苯、二甲苯等;酮类,如甲基乙基酮、环己酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、甲基正丙基酮、甲基正丁基酮、甲基正戊基酮、2-庚酮等;饱和脂肪族一元羧酸烷基酯类,如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯等;乳酸烷基酯类,如乳酸甲酯、乳酸乙酯等;羟基乙酸烷基酯类,如羟基乙酸甲酯、羟基乙酸乙酯、羟基乙酸丁酯等;乙酸烷氧基烷基酯类,如乙酸甲氧基甲酯、乙酸甲氧基乙酯、乙酸甲氧基丁酯、乙酸乙氧基甲酯、乙酸乙氧基乙酯等;3-羟基丙酸烷基酯类,如3-羟基丙酸甲酯、3-羟基丙酸乙酯等;3-羟基丙酸烷基酯类,如3-羟基丙酸甲酯、3-羟基丙酸乙酯等;2-羟基丙酸烷基酯类,如2-羟基丙酸甲酯、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基丙酸丙酯等;2-烷氧基丙酸烷基酯类,如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯,2-乙氧基丙酸甲酯等;2-羟基-2-甲基丙酸烷基酯类,如2-羟基-2-甲基丙酸甲酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯等;2-烷氧基-2-甲基丙酸烷基酯类,如2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等;酯类,如丙酸2-羟基乙酯、丙酸2-羟基-2-甲基乙酯、乙酸羟乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯等;或酮酸酯类,如丙酮酸乙酯等。此外,也可以使用以下溶剂:N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基甲酰苯胺、N-甲基乙酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、苄基乙基醚、二己醚、乙酰丙酮、异佛尔酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苯甲醇、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、马来酸二乙酯、γ-丁内酯、碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、苯基溶纤剂乙酸酯等。这些溶剂可以单独使用或作为两种或更多种的混合物使用。
考虑到相溶性和反应性,二醇醚类,如乙二醇单乙基醚等;乙二醇烷基醚乙酸酯类,如乙基溶纤剂乙酸酯等;酯类,如丙酸2-羟基乙酯等;二甘醇类,如二甘醇单甲醚等;丙二醇烷基醚乙酸酯类,如丙二醇甲基醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等。
使用溶剂作为余量,并且具体地基于光敏树脂组合物的总量20至90wt%。当溶剂包括在该范围内时,光敏树脂组合物具有良好的涂覆性质并且保持具有2μm以上厚度的膜的优异的平整度。
光敏树脂组合物可进一步包括其它添加剂,如丙二酸;3-氨基-1,2-丙二醇;包括乙烯基或(甲基)丙烯酰氧基的硅烷类偶联剂;流平剂(均化剂);氟类表面活性剂;自由基聚合引发剂,以在涂覆期间防止污点或斑点,调节流平性,或防止由于未显影所致的图案残留物。
硅烷类偶联剂可以包括三甲氧基硅烷苯甲酸、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、γ-异氰酸丙基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、β-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷等。这些可以单独使用或以两种或更多种的混合物使用。
氟类表面活性剂可以包括商业产品,例如(BMChemie Inc.);MEGAFACE F(DAINIPPON INK KAGAKU KOGYO CO.,LTD.);FULORADFULORADFULORAD和FULORAD(SUMITOMO3M CO.,LTD.);SURFLONSURFLONSURFLONSURFLON和SURFLON(ASAHI GLASSCO.,LTD.);和等(TORAY SILICONE CO.,LTD.)。
根据所需的性能,可以容易地调整添加剂。
根据以下方法施用、预烘焙、曝光和显影光敏树脂组合物以形成挡光层。
采用旋涂法或狭缝涂覆法、辊涂法、丝网印刷法、涂膜器法等,将光敏树脂组合物涂覆在经过预定预处理的基板上,达到期望的厚度,如0.5至25μm范围内的厚度。然后,在70至110℃范围内的温度下加热经涂覆的基板1至10分钟以除去溶剂。
放置具有预定形状的掩膜之后,用190至500nm的活性射线辐照得到的膜以形成期望的图案。通过使用光源如低压、高压或超高压汞灯、金属卤化物灯、氩气激光灯等实施辐照。也可以使用X射线、电子束等。
当使用高压汞灯时,曝光过程使用例如500mJ/cm2以下(利用365nm传感器)的光剂量。然而,光剂量可以取决于光敏树脂组合物的各组分的种类、其组合比以及干膜厚度而变化。
曝光过程之后,使用碱性水溶液显影曝光的膜,溶解并除去曝光部分之外的不必要部分,形成图像图案。
为了实现耐热性、耐光性(photo resistance)、紧密接触性能、耐裂性、耐化学性、高强度、存储稳定性等方面的优异性能,可以再次加热或用活性射线等辐照显影的图像图案进行固化。
因此,用于彩色滤光片的光敏树脂组合物可以带来挡光层所需的优异的紧密接触性能和光密度。
所述挡光层可以是显示器用的黑色矩阵、黑色柱间隔或它们的组合。
在下文中,参照实施例更加详细地描述了本发明。但是,这些实施例在任何意义上都不能被解释为对本发明的范围的限制。
实施例1
使用玻璃刀将沉积有氧化铟锌(IZO)(Sumitomo Corporation KyushuCo.,Ltd.)的IZO大块玻璃切割成10cm*10cm的尺寸。然后,将IZO大块玻璃在含有20ml有机溶液(DECONEX,DECONEX16PLUS)的100cm*100cm容器中浸渍5分钟,用蒸馏水清洗,并在100℃烘箱中干燥大于或等于2小时。使用2ml黑色矩阵化学液体(CR-BK0951L,CheilIndustries Inc.)旋涂该干燥的IZO基板,并且在100℃预烘焙2分钟。然后,将经烘焙的IZO基板在90mJ的曝光剂量条件下进行曝光,然后使用1%KOH溶液显影80秒,制造在IZO基板上包括挡光层的显示基板。
比较例1
除了使用100ml三次蒸馏水代替20ml有机溶液(DECONEX16PLUS),按照与实施例1相同的方法制造了在IZO基板上包括挡光层的显示基板。
比较例2
除了使用100ml的1%KOH显影液代替20ml有机溶液(DECONEX16PLUS)之外,按照与实施例1相同的方法制造了在IZO基板上包括挡光层的显示基板。
比较例3
除了使用100ml三次蒸馏水清洗IZO大块玻璃,通过使用100ml的1%KOH显影液代替20ml有机溶液(DECONEX16PLUS)并且通过使用超声波仪进行5分钟的超声波粉碎以外,按照与实施例1相同的方法制备在IZO基板上包括挡光层的显示基板。
评价1:残留物测量
使用光学显微镜检查实施例1和比较例1至3的显示基板,以检查是否产生了残留物,并且在图1至图4中提供了结果。
图1至图4是分别示出实施例1和比较例1至3的显示基板的残留物图像的光学显微镜照片。
参见图1至图4,与比较例1至3的显示基板相比,根据实施例1通过预处理在IZO基板的表面上的有机物质,并且具体地在IZO基板上形成了挡光层而制造的显示基板显示出在表面上几乎未产生残留物。
尽管参照目前被认为是实践上示例性的实施方式描述了本公开,但应当理解的是,本发明不限于所公开的实施方式,相反地,本发明旨在涵盖所附权利要求的精神和范围内所包括的各种修改和等同安排。因此,应当理解的是,前述实施方式是示例性的,不以任何方式限制本公开。

Claims (8)

1.一种用于表面处理氧化铟锌基板的有机溶液,其中所述有机溶液用于氧化铟锌基板的表面处理,并且
包含有机物质,所述有机物质包括次氮基三乙酸、异羟肟酸、硫醇、羧酸、醇、磷酸、磺酸或它们的组合。
2.如权利要求1所述的有机溶液,其中所述有机溶液进一步包含溶剂,并且
所述溶剂包括蒸馏水、醇、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺或它们的组合。
3.如权利要求2所述的有机溶液,其中基于所述有机溶液的总量,以1至10wt%的量包含所述有机物质。
4.一种制备显示基板的方法,包括:
用有机物质表面处理氧化铟锌基板;以及
在用所述有机物质表面处理过的所述氧化铟锌基板上涂覆光敏树脂组合物,然后预烘焙、曝光并显影所述光敏树脂组合物以形成挡光层,
其中所述有机物质包括次氮基三乙酸、异羟肟酸、硫醇、羧酸、醇、磷酸、磺酸或它们的混合物。
5.如权利要求4所述的方法,其中通过将所述氧化铟锌基板浸渍于包含所述有机物质的有机溶液中来表面处理所述氧化铟锌基板。
6.如权利要求5所述的方法,其中所述有机溶液进一步包含溶剂,
所述溶剂包括蒸馏水、醇、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺或它们的混合物。
7.如权利要求6所述的方法,其中基于所述有机溶液的总量,以1至10wt%的量包含所述有机物质。
8.如权利要求4所述的方法,其中所述感光树脂组合物包含粘合剂树脂、可光聚合单体、光聚合引发剂、着色剂和溶剂。
CN201310560061.9A 2013-04-10 2013-11-12 表面处理氧化铟锌基板的有机溶液及显示基板制备方法 Pending CN104102028A (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20130039335 2013-04-10
KR10-2013-0039335 2013-04-10
KR10-2013-0063501 2013-06-03
KR1020130063501A KR20140122635A (ko) 2013-04-10 2013-06-03 인듐아연산화물(izo) 기판의 표면 처리용 유기 용액 및 이를 이용한 표시 기판의 제조 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN104102028A true CN104102028A (zh) 2014-10-15

Family

ID=51670293

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310560061.9A Pending CN104102028A (zh) 2013-04-10 2013-11-12 表面处理氧化铟锌基板的有机溶液及显示基板制备方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20140308618A1 (zh)
CN (1) CN104102028A (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10211302B2 (en) 2017-06-28 2019-02-19 International Business Machines Corporation Field effect transistor devices having gate contacts formed in active region overlapping source/drain contacts

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1488740A (zh) * 2002-09-09 2004-04-14 ������ѧ��ʽ���� 清洁组合物
US20060040838A1 (en) * 2004-08-18 2006-02-23 Kenji Shimada Cleaning liquid and cleaning method
CN101206396A (zh) * 2006-12-14 2008-06-25 富士胶片株式会社 感光性树脂组合物的图案形成方法、滤色片及其制作方法
JP2008176098A (ja) * 2007-01-19 2008-07-31 Sumitomo Chemical Co Ltd 現像液及びパターン形成方法
TW201024403A (en) * 2008-12-22 2010-07-01 Fujifilm Corp Cleaning liquid for semiconductor device and cleaning method
CN101836306A (zh) * 2007-10-24 2010-09-15 默克专利有限公司 光电子器件
KR101213787B1 (ko) * 2007-11-14 2012-12-18 성균관대학교산학협력단 전도성이 개선된 투명 전도성 필름 및 그 제조방법

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7348300B2 (en) * 1999-05-04 2008-03-25 Air Products And Chemicals, Inc. Acetylenic diol ethylene oxide/propylene oxide adducts and processes for their manufacture
US7563753B2 (en) * 2001-12-12 2009-07-21 Hynix Semiconductor Inc. Cleaning solution for removing photoresist
US8236485B2 (en) * 2002-12-20 2012-08-07 Advanced Technology Materials, Inc. Photoresist removal
SG10201504423QA (en) * 2005-06-07 2015-07-30 Entegris Inc Metal and dielectric compatible sacrificial anti-reflective coating cleaning and removal composition
KR101636996B1 (ko) * 2006-12-21 2016-07-07 엔테그리스, 아이엔씨. 에칭 후 잔류물의 제거를 위한 액체 세정제
JP5813280B2 (ja) * 2008-03-19 2015-11-17 富士フイルム株式会社 半導体デバイス用洗浄液、および洗浄方法
US20100105595A1 (en) * 2008-10-29 2010-04-29 Wai Mun Lee Composition comprising chelating agents containing amidoxime compounds

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1488740A (zh) * 2002-09-09 2004-04-14 ������ѧ��ʽ���� 清洁组合物
US20060040838A1 (en) * 2004-08-18 2006-02-23 Kenji Shimada Cleaning liquid and cleaning method
CN101206396A (zh) * 2006-12-14 2008-06-25 富士胶片株式会社 感光性树脂组合物的图案形成方法、滤色片及其制作方法
JP2008176098A (ja) * 2007-01-19 2008-07-31 Sumitomo Chemical Co Ltd 現像液及びパターン形成方法
CN101836306A (zh) * 2007-10-24 2010-09-15 默克专利有限公司 光电子器件
KR101213787B1 (ko) * 2007-11-14 2012-12-18 성균관대학교산학협력단 전도성이 개선된 투명 전도성 필름 및 그 제조방법
TW201024403A (en) * 2008-12-22 2010-07-01 Fujifilm Corp Cleaning liquid for semiconductor device and cleaning method

Also Published As

Publication number Publication date
US20140308618A1 (en) 2014-10-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4988457B2 (ja) フォトレジスト組成物及びこれを利用したカラーフィルタ基板の製造方法
TWI432898B (zh) 彩色濾光片用藍色感光性樹脂組成物及其應用
CN104950600A (zh) 制造黑色柱隔离层的方法、黑色柱隔离层和滤色片
CN103135351B (zh) 用于彩色滤光片的感光性树脂组合物以及使用它的彩色滤光片
TWI473821B (zh) 用於濾色器的光敏樹脂組合物以及使用其的濾色器
TW201439293A (zh) 適用於柱狀間隔子及黑色矩陣兩者之有色光敏樹脂組成物
CN104216220A (zh) 光敏树脂组合物、通过使用该组合物制造的黑色间隔物、及具有该黑色间隔物的彩色滤光片
CN103869618B (zh) 用于彩色滤光片的光敏树脂组合物以及使用其的彩色滤光片
TW200424773A (en) Photosensitive composition, photosensitive colored compositions, color filters, and liquid crystal displays
CN104423159B (zh) 用于滤色片的光敏树脂组合物和使用其制备的滤色片
CN102566265A (zh) 光敏树脂组合物和使用其的彩色滤光片
CN106019826A (zh) 感光性树脂组合物、使用其的黑柱间隔件以及滤色器
TWI403563B (zh) 供用於濾色器之藍色樹脂組成物以及使用該組成物之濾色器
CN103176355B (zh) 用于滤色器的光敏树脂组合物和使用其的滤色器
TWI541240B (zh) 化合物及含有其的感光性樹脂組成物及由其製備的彩色濾光片
CN108107674A (zh) 感光性树脂组合物及使用其的感光性树脂层及彩色滤光片
CN103885291A (zh) 光敏树脂组合物及使用其的光阻挡层
CN104678708A (zh) 黑色光敏树脂组合物和使用其的挡光层
CN104345565B (zh) 感光树脂组合物和使用其的彩色滤光片
CN103901717A (zh) 用于彩色滤光片的光敏树脂组合物及使用其的彩色滤光片
CN104756011A (zh) 黑色光敏树脂组成物及使用该组成物的遮光层
CN103869619A (zh) 光敏树脂组合物以及使用其的黑色间隔体
CN103901723A (zh) 用于挡光层的光敏树脂组合物及使用其的挡光层
KR20140008033A (ko) 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하는 컬러 필터
CN104813233A (zh) 用于滤色器的光敏树脂组成物和使用所述光敏树脂组成物的滤色器

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20141015

WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication