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BE618732A - Procédé de fabrication de dispositifs semi-conducteurs par dépôt monocristallin à partir de la phase gazeuse - Google Patents

Procédé de fabrication de dispositifs semi-conducteurs par dépôt monocristallin à partir de la phase gazeuse

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BE618732A
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Authority
BE
Belgium
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gas phase
semiconductor devices
manufacturing semiconductor
monocrystalline deposition
monocrystalline
Prior art date
Application number
BE618732A
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English (en)
Original Assignee
Siemens Ag
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Publication date
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
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    • H10P14/3411
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B23/00Single-crystal growth by condensing evaporated or sublimed materials
    • H10P14/24
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BE618732A 1961-06-09 1962-06-08 Procédé de fabrication de dispositifs semi-conducteurs par dépôt monocristallin à partir de la phase gazeuse BE618732A (fr)

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DE1961S0074267 DE1138481C2 (de) 1961-06-09 1961-06-09 Verfahren zur Herstellung von Halbleiteranordnungen durch einkristalline Abscheidung von Halbleitermaterial aus der Gasphase

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BE618732A BE618732A (fr) 1961-06-09 1962-06-08 Procédé de fabrication de dispositifs semi-conducteurs par dépôt monocristallin à partir de la phase gazeuse

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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE636316A (fr) * 1962-08-23 1900-01-01
DE1467360B2 (de) * 1962-12-01 1971-08-12 Siemens AG, 1000 Berlin u 8000 München Verfahren zum herstellen einkristalliner schichten aus indiumantimonid
US3304908A (en) * 1963-08-14 1967-02-21 Merck & Co Inc Epitaxial reactor including mask-work support
DE1544259A1 (de) * 1965-02-05 1970-07-09 Siemens Ag Verfahren zum Herstellen von gleichmaessigen epitaktischen Aufwachsschichten
US3607135A (en) * 1967-10-12 1971-09-21 Ibm Flash evaporating gallium arsenide
US3610202A (en) * 1969-05-23 1971-10-05 Siemens Ag Epitactic apparatus
US3658569A (en) * 1969-11-13 1972-04-25 Nasa Selective nickel deposition
US3647530A (en) * 1969-11-13 1972-03-07 Texas Instruments Inc Production of semiconductor material
US3936328A (en) * 1972-04-28 1976-02-03 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Process of manufacturing semiconductor devices
BE806098A (fr) * 1973-03-28 1974-02-01 Siemens Ag Procede de fabrication de silicium ou autre matiere semi-conductrice tres pure
US3900597A (en) * 1973-12-19 1975-08-19 Motorola Inc System and process for deposition of polycrystalline silicon with silane in vacuum
DE2541284A1 (de) * 1975-09-16 1977-03-24 Wacker Chemitronic Verfahren zur abscheidung von hochreinem halbleitermaterial
US4173944A (en) * 1977-05-20 1979-11-13 Wacker-Chemitronic Gesellschaft Fur Elektronik-Grundstoffe Mbh Silverplated vapor deposition chamber
US4179530A (en) * 1977-05-20 1979-12-18 Wacker-Chemitronic Gesellschaft Fur Elektronik-Grundstoffe Mbh Process for the deposition of pure semiconductor material
US5651839A (en) * 1995-10-26 1997-07-29 Queen's University At Kingston Process for engineering coherent twin and coincident site lattice grain boundaries in polycrystalline materials
CA2721194A1 (fr) * 2008-04-14 2009-10-22 Hemlock Semiconductor Corporation Appareil de fabrication destine a deposer un materiau sur une electrode destinee a etre utilisee dans ledit appareil
WO2009128886A1 (fr) * 2008-04-14 2009-10-22 Hemlock Semiconductor Corporation Appareil de fabrication pour déposer un matériau et électrode destinée à être utilisée dans celui-ci
CA2721095A1 (fr) * 2008-04-14 2009-10-22 Hemlock Semiconductor Corporation Appareil de fabrication destine a deposer un materiau et electrode utilisee dans un tel appareil
JP5477145B2 (ja) * 2009-04-28 2014-04-23 三菱マテリアル株式会社 多結晶シリコン反応炉
KR101115697B1 (ko) * 2009-12-02 2012-03-06 웅진폴리실리콘주식회사 에너지 효율을 높여주는 복사열 차단막을 갖는 화학기상증착 반응기

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE943422C (de) * 1949-04-02 1956-05-17 Licentia Gmbh Gesteuerter Trockengleichrichter, insbesondere mit Germanium, Silizium oder Siliziumkarbid als halbleitender Substanz
DE883784C (de) * 1949-04-06 1953-06-03 Sueddeutsche App Fabrik G M B Verfahren zur Herstellung von Flaechengleichrichtern und Kristallverstaerkerschichten aus Elementen
NL193073A (fr) * 1954-03-05
DE1046196B (de) * 1954-11-27 1958-12-11 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung eines Halbleiters fuer Flaechengleichrichter, -transistoren od. dgl. mit mehreren Bereichen verschiedener Leitfaehigkeit
NL113990C (fr) * 1955-11-02
FR1141561A (fr) * 1956-01-20 1957-09-04 Cedel Procédé et moyens pour la fabrication de matériaux semi-conducteurs
NL215875A (fr) * 1956-05-18
DE1061593B (de) * 1956-06-25 1959-07-16 Siemens Ag Vorrichtung zur Gewinnung reinsten Halbleitermaterials fuer elektrotechnische Zwecke
US3011877A (en) * 1956-06-25 1961-12-05 Siemens Ag Production of high-purity semiconductor materials for electrical purposes
DE1150366B (de) * 1958-12-09 1963-06-20 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung von Reinstsilicium
US3085032A (en) * 1960-02-26 1963-04-09 Bell Telephone Labor Inc Treatment of gallium arsenide
CH428675A (de) * 1960-03-02 1967-01-31 Siemens Ag Verfahren zur Gewinnung von reinstem Halbleitermaterial, insbesondere Silizium

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DE1138481C2 (de) 1963-05-22
GB987895A (en) 1965-03-31
US3152933A (en) 1964-10-13

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