AT527141B1

AT527141B1 - Vorrichtung zur Bekämpfung von Varroamilben

Info

Publication number: AT527141B1
Application number: ATA50868/2023A
Authority: AT
Original assignee: Toi Patententwicklungs Gmbh
Priority date: 2023-10-25
Filing date: 2023-10-25
Publication date: 2024-11-15
Also published as: AT527141A4; WO2025085949A1

Abstract

Vorrichtung zur Verhinderung der Bildung von Varroamilben oder der Eliminierung von vorhandenen Varroamilben in einem Bienenstock, umfassend: a) eine Plasmaerzeugungseinheit, welche eine Plasma-Entladungsfläche von 1,0 cm² bis 6,0 cm², vorzugsweise 2,5 cm² bis 3,5 cm² aufweist, wobei die Plasmaerzeugungseinheit einen Plasmaauslass aufweist, sodass das Plasma in den Bienenstock einführbar ist, b) eine Steuervorrichtung, die mit der Plasmaerzeugungseinheit verbunden ist, wobei die Steuervorrichtung derart ausgebildet ist, dass die Plasmaleistungsdichte der Entladungsfläche an der Plasmaerzeugungseinheit einstellbar ist, wobei die Plasmaleistungsdichte der Entladungsfläche auf 0,2 W/cm² bis 1,0 W/cm², vorzugsweise 0,3 W/cm² bis 0,6 W/cm² eingestellt ist.

Description

Beschreibung

VORRICHTUNG ZUR BEKÄMPFUNG VON VARROAMILBEN

[0001] Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Verhinderung der Bildung von Varroamilben oder der Eliminierung von vorhandenen Varroamilben in einem Bienenstock. Weiters betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Verhinderung der Bildung von Varroamilben oder zur Eliminierung von vorhandenen Varroamilben in einem Bienenstock.

HINTERGRUND DER ERFINDUNG

[0002] Seit etlichen Jahren verursacht die Varroamilbe (Varroa destructor) große Schäden in Bienenstöcken und gilt als Hauptursache für Bienenvölkerzusammenbrüche. Die Varroamilbe ist ein Parasit, der sowohl erwachsene Bienen als auch deren Brut befällt und sich von der Hämolymphe der Bienen ernährt, wodurch einerseits die Stärke und die Lebenserwartung der Bienen verringert wird und andererseits Krankheiten übertragen werden können. Da sich die Varroamilbe sehr schnell innerhalb eines Bienenstocks vermehrt, ist eine frühzeitige Bekämpfung unerlässlich.

[0003] Zur Bekämpfung der Varroamilbe in Bienenstöcken kommen aktuell verschiedene Verfahren zum Einsatz. Bei der chemischen Bekämpfung der Varroa-Milbe setzen Imker bislang zum Beispiel Ameisensäure ein, die auf einen Schwamm aufgetragen und zum Verdunsten in den Bienenstock gelegt wird. Allerdings wurde festgestellt, dass diese Behandlung im Moment noch nicht ausreichend wirksam ist, um einen Rückgang des Milbenbefalls in der gesamten Region zu erzielen. Auch Milch- und Oxalsäure kommen als Mittel gegen die Varroamilbe zum Einsatz. Eine weitere Form der chemischen Behandlung beinhaltet den Einsatz von Akariziden, um die Milbenpopulationen in Bienenstöcken zu reduzieren. All diese Mittel bilden Rückstände in Honig und es lassen sich zunehmend Resistenzentwicklungen bei den Milben beobachten, sodass diese Verfahren rückläufig sind. Bei der biologischen Behandlung setzen Imker Raubmilben ein, die natürliche Feinde der Varroamilben sind. Dieses Verfahren ist allerdings aufwändig und langsam. Mechanische Bekämpfungsverfahren für die Varroamilbe umfassen das Entfernen befallener Brut oder die Verwendung von Drohnenfallen, um die Reproduktion der Varroamilben zu unterbrechen. Dieses Verfahren setzt allerdings zu einem Zeitpunkt an, wo der Bienenstock meist schon stark befallen ist. Die thermische Behandlung setzt auf die Erhitzung von Bienenstöcken, um ein für die Milben tödliches, aber für die Bienen noch verträgliches Klima zu schaffen. Allerdings stellt dieser Ansatz für die Bienen und deren Brut eine hohe Stressbelastung dar. Auch Kombinationen dieser Verfahren und natürlich züchterische Maßnahmen durch Selektion von Bienen mit erhöhter Resistenz werden eingesetzt. Trotzdem konnte noch kein Verfahren gefunden werden, welches Bienenstöcke in ausreichendem Ausmaß von der Varroamilbe befreit.

[0004] In KR 10-2142484 B1 wird eine Bienenstockabdeckung beschrieben, die an einer offenen Seite des Bienenstocks angebracht wird und eine Plasmaerzeugungseinheit aufweist. Mit einem Ventilator wird Plasma in den Bienenstock geblasen. Die in KR 10-2142484 B1 beschriebene Vorrichtung ist technisch aufwändig und hat den Nachteil, dass eine große Menge Ozon gebildet wird, das mit dem Plasma in den Bienenstock geblasen wird und den Bienen und der Brut großen Stress verursacht. Das Gebläse verleitet die Bienen außerdem dazu, die Gebläseöffnung mit Propolis zu verschließen.

[0005] Darüber hinaus befassen sich auch die Dokumente KR 2023 0013420 A, KR 2023 0135829 A, WO 2020/117813 A1 und US 2012/202403 A1 mit einer Vorrichtung sowie einem Verfahren zur Verhinderung der Bildung von Varroamilben bzw. deren Eliminierung in einem Bienenstock.

BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG

[0006] Die bisherigen Ansätze zielen allesamt darauf ab, den bereits befallenen Bienenstock von der Varroamilbe zu befreien. Auch die in KR 10-2142484 B1 beschriebene Lösung ist so konzipiert, dass sie auf einen bereits von Varroamilben befallenen Bienenstock aufgesetzt wird und

den befallenen Bienenstock mit Plasma behandelt.

[0007] Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist daher die Bereitstellung einer Vorrichtung, die den Eintrag der Varroamilbe in den Bienenstock einerseits grundsätzlich verhindert und nicht erst nach Befall eingreift, andererseits die Varroamilbe in einem befallenen Bienenstock bekämpft.

[0008] Gelöst wird diese Aufgabe durch eine Vorrichtung zur Verhinderung der Bildung von Varroamilben oder der Eliminierung von vorhandenen Varroamilben in einem Bienenstock, umfassend:

[0009] a) eine Plasmaerzeugungseinheit, welche eine Plasma-Entladungsfläche von 1,0 cm® bis 6,0 cm®, vorzugsweise 2,5 cm*® bis 3,5 cm? aufweist, wobei die Plasmaerzeugungseinheit einen Plasmaauslass aufweist, sodass das Plasma in den Bienenstock einführbar ist,

[0010] b) eine Steuervorrichtung, die mit der Plasmaerzeugungseinheit verbunden ist, wobei die Steuervorrichtung derart ausgebildet ist, dass die Plasmaleistungsdichte der Entladungsfläche an der Plasmaerzeugungseinheit einstellbar ist, wobei die Plasmaleistungsdichte der Entladungsfläche auf 0,2 W/cm? bis 1,0 W/cm?, vorzugsweise 0,3 W/cm? bis 0,6 W/cm? eingestellt ist.

[0011] Gelöst wird diese Aufgabe außerdem durch ein Verfahren zur Verhinderung der Bildung von Varroamilben oder zur Eliminierung von vorhandenen Varroamilben in einem Bienenstock, umfassend die Schritte:

[0012] a) Einführen eines Plasmaauslasses für Plasma einer Plasmaerzeugungseinheit in einen Bienenstock;

[0013] b) Aktivieren der Plasmaerzeugungseinheit zum Erzeugen eines Plasmas mit einer Plasmaleistungsdichte der Entladungsfläche auf 0,2 W/cm? bis 1,0 W/cm?, vorzugsweise 0,3 W/cm®? bis 0,6 W/cm?.

[0014] Als Entladungsfläche der Plasmaquelle wird insbesondere eine Plasma-Elektrodenfläche verstanden. Diese Fläche kann durch ein typisches Plasmaleuchten unter atmosphärischen Bedingungen - insbesondere in Form von Oberflächen-Mikroentladungen - festgestellt werden.

[0015] Als Plasmaauslass einer Plasmaquelle wird jene Einheit verstanden, mit der das Plasma in den Bienenstock eingetragen wird. Dies kann durch Konvektion, Diffusion oder Ventilation erfolgen.

[0016] Vorteilhaft haben sich sowohl bei der Vorrichtung als auch beim Verfahren unterschiedliche Betriebsmodi erwiesen, bei denen vorzugsweise einerseits eine stoßartige und andererseits eine kontinuierliche Plasmaerzeugung erfolgt.

[0017] Daher sieht die Vorrichtung in einer Ausführungsvariante vor, dass die Steuervorrichtung derart ausgebildet ist, dass zwischen einem ersten Betriebsmodus und einem zweiten Betriebsmodus wählbar ist, wobei mit der Plasmaerzeugungseinheit im ersten Betriebsmodus eine Plasmaleistungsdichte der Entladungsfläche von 0,2 W/cm? bis 0,45 W/cm?®, vorzugsweise von 0,3 W/cm® bis 0,45 W/cm? und im zweiten Betriebsmodus eine Plasmaleistungsdichte der Entladungsfläche von 0,45 W/cm? bis 0,7 W/cm?, vorzugsweise von 0,45 W/cm? bis 0,6 W/cm?® abgebbar ist. Bevorzugt ist im ersten Betriebsmodus die Plasmaabgabe stoßartig und im zweiten Betriebsmodus kontinuierlich.

[0018] Das Verfahren sieht in einer Ausführungsvariante vor, dass mit der Plasmaerzeugungseinheit im ersten Betriebsmodus eine Leistung von 0,2 W/cm? bis 0,45 W/cm?, vorzugsweise von 0,3 W/cm? bis 0,45 W/cm? und im zweiten Betriebsmodus eine Plasmaleistungsdichte der Entladungsfläche von 0,45 W/cm? bis 0,7 W/cm?, vorzugsweise von 0,45 W/cm? bis 0,6 W/cm? abgegeben wird. Vorzugsweise umfasst der erste Betriebsmodus eine kontinuierliche Plasmaabgebe und der zweite Betriebsmodus eine stoßartige Plasmaabgabe.

[0019] Die Wahl zwischen den Betriebsmodi hängt von der Jahreszeit, Temperatur und Aktivität der Bienen ab, wobei der zweite Betriebsmodus im Herbst, besonders bevorzugt nach der Honigernte vorteilhaft ist und der erste Betriebsmodus im Winter, Frühjahr und Sommer. Auch ist es möglich einen Zwischenbereich zwischen diesen Betriebsmodi zu wählen.

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[0020] Es konnte überaschenderweise festgestellt werden, dass bei einer Entladungsfläche von 1,0 cm? bis 6,0 cm?®, vorzugsweise bei 2,5 cm? bis 3,5 cm®, bei Betrieb in beiden Modi, bevorzugt RNS (reactive nitrogen species) von der Plasmaerzeugungseinheit, bei geringen Ozonkonzentrationen erzeugt wurden. RNS, insbesondere Stickoxide wie N2Os und NO dringen tief in die Wabe ein. Somit wird ein Rückgang des Milbenbefalls in der gesamten Region in einem Bienenstock erzielt. Es konnte weiters festgestellt werden, dass bei der Verwendung einer größeren Entladungsfläche, bei einer Plasmaleistungsdichte der Entladungsfläche von 0,3 W/cm? bis 0,6 W/cm?, eine erhöhte Konzentration von Ozon und RNS auftritt und somit Schäden an Bienen und Material des Bienenstockes nicht auszuschließen sind.

[0021] Die vorliegende Erfindung stellt eine innovative Lösung dar, die eine effektive Kontrolle von Varroamilben in Bienenstöcken ermöglicht, indem ein sicheres und kontrolliertes Plasma verwendet wird, das die Milben abtötet, ohne die Bienen oder die Umwelt zu schädigen. Die Vorrichtung und das Verfahren sind anpassbar und können je nach den spezifischen Bedürfnissen und Bedingungen verschiedener Bienenstöcke modifiziert werden.

[0022] Durch das Vorhandensein der Plasmaerzeugungseinheit und indem das Einführungselement in den Bienenstock eingeführt ist, kann im Bienenstock vorbeugend ein Plasma erzeugt werden, sodass z.B. eine durch eine Biene eingebrachte Varroamilbe sofort abgetötet wird. Dabei hat sich herausgestellt, dass eine Plasmaleistungsdichte der Entladungsfläche auf 0,2 W/cm? bis 0,45 W/cm?, vorzugsweise 0,3 W/cm® bis 0,45 W/cm? (Betriebsmodus 1) bei kontinuierlicher Behandlung keinerlei Schäden für die Biene oder die Brut verursacht, wohingegen die Varroamilben abgetötet werden. Des Weiteren hat sich herausgestellt, dass eine Plasmadichte von 0,45 W/cm? bis 0,7 W/cm®, vorzugsweise 0,45 W/cm? bis 0,6 W/cm? (Betriebsmodus 2) sich für eine Stoßbehandlung über mehrere Tage eignet, wohingegen die Varroamilben innerhalb kürzester Zeit abgetötet werden. Bei einer Stoßbehandlung (Betriebsmodus 2) bilden die Bienen Trauben, jedoch konnten keine Schäden bei Bienen über 72 Stunden festgestellt werden. Ein Betriebsmodus im Modus 2 sollte deshalb für maximal 72 Stunden eingestellt werden.

[0023] In einer Ausführungsvariante kann der Plasmaauslass an einem Einführungselement angeordnet sein. Das Einführungselement kann in den Bienenstock eingeführt werden, wo es das Plasma direkt im Bienenstock verteilt. In dieser Ausführungsvariante kann die Plasmaerzeugungseinheit außerhalb des Bienenstocks verbleiben. Das Einführungselement kann dann z.B. einen perforierten Schlauch umfassen, um das Plasma homogen im Bienenstock zu verteilen.

[0024] Der Plasmaauslass kann aber auch direkt an der Plasmaerzeugungseinheit angebracht sein. In diesem Fall kann die gesamte Vorrichtung in den Bienenstock eingeführt werden. Für diesen Fall kann eine interne Stromversorgung (z.B. ein Akkumulator) vorgesehen sein. Plasmaerzeugungseinheiten benötigen nur wenig Raum und können direkt in Waben oder am Boden von Bienenstöcken befestigt werden. In einer Ausführungsvariante hat sich die Positionierung in einer Schublade unterhalb des Bienenstocks als vorteilhaft erwiesen. Derart positioniert steigt das Plasma auf und verteilt sich im Bienenstock.

[0025] Die Erfindung betrifft daher auch einen Bienenstock mit einer an der Unterseite angeordneten Lade, vorzugsweise Schublade, in welcher eine Vorrichtung der vorgenannten Art angeordnet ist.

[0026] Die Vorrichtung kann weiters gekennzeichnet sein durch einen Sensor zum Erkennen der Präsenz von Varroamilben im Bienenstock, wobei der Sensor mit der Steuervorrichtung verbunden ist und wobei die Steuervorrichtung die Plasmaerzeugungseinheit bei Anwesenheit vom Varroamilben aktiviert. Auf diese Weise kann z.B. bei einer geringen Präsenz von Varroamilben die Plasmaerzeugungseinheit getaktet über bestimmte Zeiträume im Betriebsmodus 1 in Betrieb sein, wenn jedoch eine hohe Präsenz festgestellt wird, über 0,2 Stunden bis 72 Stunden, bevorzugt 0,3 Stunden bis 2 Stunden der Betriebsmodus 2 in Betrieb gehen, wenn keine Varroamilben festgestellt werden kann die Plasmaerzeugungseinheit deaktiviert sein.

[0027] Dabei kann der Sensor zum Erkennen der Präsenz von Varroamilben eine Kamera mit Bildanalysefunktion und/oder Infrarotsensoren umfassen. Die Verwendung von optischen Senso-

ren und Bildanalyse-Technologie ermöglicht eine automatische Erkennung Varroamilben in einem Bienenstock. Infrarotsensoren können Vibrationserkennungsmuster der Bienen erkennen und aus Veränderungen im Verhalten oder Zustand der Bienen lässt sich rückschließen, ob die geänderten Vibrationsmuster auf einen Milbenbefall hindeuten.

[0028] Wenn eine Varroamilbenpräsenz durch den Sensor erkannt wird, kann die Steuervorrichtung eine Aktivierung und Regulierung der Plasmaerzeugungseinheit vornehmen, bis der Sensor keine Varroamilbenpräsenz erkennen kann.

[0029] Die Plasmaerzeugungseinheit kann für eine vorbestimmte Dauer aktiviert sein, um die Varroamilben effektiv abzutöten, ohne den Bienen Schaden zuzufügen.

[0030] Nach Ablauf einer bestimmten Dauer kann die Plasmaerzeugungseinheit deaktiviert werden.

[0031] Hinsichtlich der Art des Plasmas hat sich herausgestellt, dass Varroamilben zwar grundsätzlich mit Plasma gut bekämpfbar sind, allerdings reagieren auch die Bienen und insbesondere die Brut der Bienen auch empfindlich auf die Einbringung von Plasma. Hier kann beobachtet werden, dass die Bienen bei bestimmten Plasmaleistungsdichten der Entladungsfläche mit Stress reagieren. Die in KR 10-2142484 B1 beschriebenen Plasmadetails zeigten bei den Bienen ein negatives, gestresstes Verhalten. Mit der beanspruchten Plasmaleistungsdichte der Entladungsfläche im bevorzugten Betriebsmodus 1 wurde dies nicht beobachtet.

[0032] Die Plasmaerzeugungseinheit ist so ausgebildet, dass sie eine dielektrisch behinderte Entladung (DBD) verwendet, um bei Raumtemperatur und atmosphärischem Druck Plasma zu erzeugen. Nachfolgend wird noch eine Plasmaerzeugungseinheit beschrieben, die erfindungsgemäß besonders geeignet ist. Eine solche ist z.B. in DE 10 2021 203 211 B3 beschrieben.

[0033] Die Plasmaerzeugungseinheit ist für die atmosphärische dielektrische Barriereentladung geeignet und umfasst eine Glasröhre und eine Innenelektrode, die aus gebündelten Edelstahlfasern ausgebildet ist, wobei die gebündelten Edelstahlfasern spiralförmig im Inneren der Glasröhre angeordnet sind, wobei eine als Siebzylinder ausgebildete Außenelektrode vorgesehen ist. Bevorzugt ist die Innenelektrode aus gebündelten Edelstahlfasern mit einem Faserdurchmesser von ca. 1,0 bis 1,2 um, bevorzugt ca. 1,0 um ausgebildet, wobei die Länge der Fasern ca. 3 bis 6cm beträgt. Im eingebauten Zustand überlappen die Fasern überwiegend. Der Siebzylinder ist vorzugsweise aus einem Metalldrahtgewebe ausgebildet, wobei der Drahtdurchmesser vorzugsweise zwischen ca. 0,18 und 0,36 mm beträgt und der Abstand der Längsdrähte vorzugsweise zwischen ca. 0,4 und 1,25 mm liegt.

[0034] Die Glasröhre bildet ein Dielektrikum in Verbindung mit dem Siebzylinder als Außenelektrode. Bei einer Materialdicke der Glasröhre von 0,18 bis 0,36 mm sowie einem Abstand der Längsdrähte von 0,4 bis 1,25 mm und der Innenelektrode, die aus gebündelten Edelstahlfäden mit einer Dicke von 1,0 bis 1,2 um besteht, findet eine besonders homogene dielektrische Entladung statt.

[0035] Während des Betriebs der Vorrichtung erfolgt durch die Entladungsröhre eine Umsetzung des Sauerstoffs der Luft im Bienenstock zu Hydroxylradikalen. Durch hochenergetische Spannungsstöße der Wechselspannung mit einer Frequenz von vorzugsweise 25 bis 44KHz wird dieser Effekt am besten erzielt.

[0036] Plasmaleistungsdichten der Entladungsfläche von 0,2 W/cm? bis 0,7 W/cm?, vorzugsweise 0,3 W/cm? bis 0,6 W/cm®, verhindern außerdem die Bildung von unerwünschtem Ozon. Weitere bevorzugte Ausführungsformen zur Erzeugung eines nichtthermischen Plasmas können beispielsweise flache Elektrodenanordnungen der Plasmaquelle sein oder Elektrodenanordnungen in der Form eines hohlen Rohres gestaltet sein mit einem axial ausgerichteten Einlass zur Einführung eines Trägergases in das Rohr, und einem axial ausgerichteten Plasmaauslass zur Abgabe des nichtthermischen Plasmas aus dem Rohr, so dass das Plasma innerhalb des Rohrs erzeugt wird. Als dielektrische Barriere werden vorzugsweise Glaswerkstoffe, Keramiken oder Polymere verwendet.

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[0037] Die Vorrichtung zur Verhinderung der Bildung von Varroamilben oder der Eliminierung von vorhandenen Varroamilben in einem Bienenstock umfasst zunächst eine Plasmaerzeugungseinheit, die zur Erzeugung eines Plasmas konfiguriert ist. Das Einführungselement ist so konstruiert, dass es das Plasma der Plasmaerzeugungseinheit sicher in den Bienenstock einführt, ohne die Bienen oder die Struktur des Bienenstocks zu stören.

[0038] Dabei kann die Plasmaerzeugungseinheit im Inneren des Bienenstocks im Einführungselement angeordnet sein oder sie kann außerhalb des Bienenstocks angeordnet sein.

[0039] Ein Energieversorgungsteil ist vorgesehen, welches die notwendige Energie für die Plasmaerzeugungseinheit bereitstellt. Die Plasmaerzeugungseinheit ist so ausgebildet, dass sie eine dielektrisch behinderte Entladung (DBD) verwendet, um bei Raumtemperatur und atmosphärischem Druck Plasma zu erzeugen.

[0040] Diese Beschreibung dient der Verdeutlichung und soll den Umfang der Erfindung wie durch die Ansprüche definiert nicht einschränken.

Claims

x ‚hes AT 527 141 B1 2024-11-15 8 NN Patentansprüche

1. Vorrichtung zur Verhinderung der Bildung von Varroamilben oder der Eliminierung von vorhandenen Varroamilben in einem Bienenstock, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung:

a) eine Plasmaerzeugungseinheit, welche eine Plasma-Entladungsfläche von 1,0 cm? bis 6,0 cm®, vorzugsweise 2,5 cm?* bis 3,5 cm? aufweist, wobei die Plasmaerzeugungseinheit einen Plasmaauslass aufweist, sodass das Plasma in den Bienenstock einführbar ist, und b) eine Steuervorrichtung, die mit der Plasmaerzeugungseinheit verbunden ist, wobei die Steuervorrichtung derart ausgebildet ist, dass die Plasmaleistungsdichte der Entladungsfläche an der Plasmaerzeugungseinheit einstellbar ist, wobei die Plasmaleistungsdichte der Entladungsfläche auf 0,2 W/cm? bis 1,0 W/cm?, vorzugsweise 0,3 W/cm? bis 0,6 W/cm? eingestellt ist, umfasst.

2, Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuervorrichtung derart ausgebildet ist, dass zwischen einem ersten Betriebsmodus und einem zweiten Betriebsmodus wählbar ist, wobei mit der Plasmaerzeugungseinheit im ersten Betriebsmodus eine Plasmaleistungsdichte der Entladungsfläche von 0,2 W/cm? bis 0,45 W/cm®, vorzugsweise von 0,3 W/cm® bis 0,45 W/cm* und im zweiten Betriebsmodus eine Plasmaleistungsdichte der Entladungsfläche von 0,45 W/cm? bis 0,7 W/cm®, vorzugsweise von 0,45 W/cm? bis 0,6 W/cm? abgebbar ist.

3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass im ersten Betriebsmodus kontinuierlich und im zweiten Betriebsmodus die Plasmaabgabe stoßartig erfolgt.

4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, gekennzeichnet durch einen Sensor zum Erkennen der Präsenz von Varroamilben im Bienenstock, wobei der Sensor mit der Steuervorrichtung verbunden ist und wobei die Steuervorrichtung die Plasmaerzeugungseinheit bei Anwesenheit von Varroamilben aktiviert.

5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Sensor zum Erkennen der Präsenz von Varroamilben eine Kamera mit Bildanalysefunktion und/oder Infrarotsensoren umfasst.

6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuervorrichtung derart ausgebildet ist, dass bei Erkennung einer Präsenz von Varroamilben durch den Sensor die Plasmaerzeugungseinheit so lange aktiviert und reguliert, bis der Sensor eine Präsenz von Varroamilben unterhalb eines Grenzwertes registriert.

7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass der Plasmaauslass an einem Einführungselement angeordnet ist, welches in den Bienenstock einführbar ist.

8. Bienenstock mit einer an der Unterseite angeordneten Lade, vorzugsweise Schublade, in welcher eine Vorrichtung angeordnet ist nach einem der Ansprüche 1 bis 7.

9. Verfahren zur Verhinderung der Bildung von Varroamilben oder zur Eliminierung von vorhandenen Varroamilben in einem Bienenstock mit einer Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, umfassend die Schritte:

a) Einführen eines Plasmaauslasses für Plasma einer Plasmaerzeugungseinheit in einen Bienenstock;

b) Aktivieren der Plasmaerzeugungseinheit zum Erzeugen eines Plasmas mit einer Plasmaleistungsdichte der Entladungsfläche auf 0,2 W/cm? bis 1,0 W/cm®, vorzugsweise 0,3 W/cm? bis 0,6 W/cm?.

10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass mit der Plasmaerzeugungseinheit im ersten Betriebsmodus eine Plasmaleistungsdichte der Entladungsfläche von 0,2 W/cm® bis 0,45 W/cm®, vorzugsweise von 0,3 W/cm® bis 0,45 W/cm* und im zweiten Betriebsmodus eine Plasmaleistungsdichte der Entladungsfläche von 0,45 W/cm? bis 0,7 W/cm?, vorzugsweise von 0,45 W/cm? bis 0,6 W/cm?® abgegeben wird, vorzugsweise umfasst

der zweite Betriebsmodus eine stoßartige Plasmaabgebe und der erste Betriebsmodus eine kontinuierliche Plasmaabgabe.

Hierzu keine Zeichnungen

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