AR011001A1 - Composicion de champu acondicionador y proceso para su preparacion - Google Patents

Abstract

Una composicion de champu acondicionador que comprende: (a) de 5 a 50%, de preferencia de 8% a 30%, en peso de un componente tensioactivo anionicoelegido del grupo que consiste de tensioactivos anionicos, tensioactivos zwitterionicos y anfoteros, teniendo dichos tensioactivos zwitterionicos yanfoteros un grupo unido que es anionico al pH de la composicion, y sus combinaciones; (b) de 0,025% a 3% en peso de un polímero de deposicioncationico orgánico que tiene una densidad de carga cationica de 0,2 meq/g a 5 meq/g, de preferencia de 0,8 meq/g a 2,0 meq/g, y un peso molecular promediode 5.000 a 10.000.000; (c) de 0,005% a 10% en peso de una silicona polimerizada de emulsion, habiendo el polímero sido derivado de la polimerizacion demonomeros de dimetilpolisiloxano lineal que tienen la formula: HO-[Si(R1R2)-O-] n-H, donde R1 y R2 son iguales o distintos y son CH3, o alquilos o radicalesalquilos lineales o ramificados organofuncionales que tienen de 1 a 22 átomos de carbono, y n es de 10 a 100, preferentemente mayor que de 15 a 50; y (d)de 20% a 94% en peso de agua. La composicion tiene ventajas acondicionadoras tales como peinado en estado humedo y seco y sensacion de cabello seco consupresion mínima de espumade champu. También incluye un proceso para la preparacion de la composicion de alguna de las reivindicaciones precedentes,que comprenden los pasos de:(a) preparar una silicona polimerizada de emulsion, derivando el polímero de la polimerizacion de monomeros de dimetilpolisiloxanolineal que tienen la formula: HO-[Si(R1R2)-O-]n-H, donde R1 y R2 son iguales o distintos y son CH3 o alquilos o radicales alquilos lineales o ramificadosorganofuncionales que tienen de 1 a 22 átomos de carbono, yn es de 10 a 100, preferentemente mayor que de 15 a 50; y (b) mezclar de 0,005% a 10% de la