[go: up one dir, main page]

NO810299L - Fremkaller. - Google Patents

Fremkaller.

Info

Publication number
NO810299L
NO810299L NO810299A NO810299A NO810299L NO 810299 L NO810299 L NO 810299L NO 810299 A NO810299 A NO 810299A NO 810299 A NO810299 A NO 810299A NO 810299 L NO810299 L NO 810299L
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
acid
developer
salt
carboxylic acid
radiation
Prior art date
Application number
NO810299A
Other languages
English (en)
Inventor
Jeremy Russell Burch
David Edward Murray
Original Assignee
Vickers Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=10510965&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=NO810299(L) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Vickers Ltd filed Critical Vickers Ltd
Publication of NO810299L publication Critical patent/NO810299L/no

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Medicines Containing Material From Animals Or Micro-Organisms (AREA)
  • Electrotherapy Devices (AREA)

Description

I Foreliggende oppfinnelse vedrører fremkalling av strålings-'følsomme plater, eksempelvis for fremstilling av litografiske trykkplater. i
<!>LiI tografiske trykkplater omfatter trykkfargemottagende, ! I: i vannavstøtende trykkområder og vannmottagbare, trykkfarge-<1>,aystøtende ikke-trykkområder. De trykkende og ikke-trykken-I |de områder er i det vesentlige koplanare. Under trykkingi!påføres et vandig medium på platen. Dette fukter de ikke-'■ trykkende områder men blir i det vesentlige avstøtt fra de trykkende områder. En oleofil trykksverte påføres og denne i aksepteres av de trykkende områder men avstøtes av de våte, i ikke-trykkende områder. Trykkfargen blir deretter overført i i ifra de trykkende områder til det element som trykkes. •
i
i ! ;
. i ! i
l I Slike trykkplater blir konvensjonelt fremstilt fotomekanisk.|i i Ved denne teknikk belegges et egnet substrat med et strål-[ingsfølsomt materiale og den erholdte strålingsfølsomme
■plate blir billedvis eksponert for stråling. Dette oppnås under anvendelse av en transparent film med opake områder. :En negativ transparent av det bilde som ønskes reprodusert
.anvendes for eksponering av en såkalt negativt arbeidende!
i Istrålingsfølsom plate og en positiv transparent anvendes'for I eksponering av en såkalt positivt arbeidende strålingsfølsom
■plate. Således,f.eks. for tilfellet av negativt arbeidende plater vil de klare områder av den negative transparent korrespondere til bilde og stråling som passerer disse klare 'områder, forårsaker en reaksjon i det strålingsfølsomme be-I legg som gjør dette uoppløselige i det billeddannende område,. ^Stråling vil ikke passere gjennom de opake områder av trans-parenten, slik at det strålingsfølsomme belegg under slike ! områder forblir upåvirket. Den eksponerte plate blir der- i etter fremkalt ved selektiv fjerning av ikke-bestrålte om- ! jråder av belegget under anvendelse av en egnet fremkaller j i slik at den underliggende overflate av substratet blott-
i
ilegges. Hvis den blottlagte overflate ikke er hydrofil så
•gjøres den hydrofil og tjener som ikke-trykkende arealer av jplaten. Det uoppløseliggjorte belegg forblir på substratet ! Jetter fremkalling og utgjør de trykkende arealer av platen.<!> ■Typiske representanter for strålingsfølsomme materialer som ii vanligvis anvendes for negativt arbeidende plater er foto-jfornettbare materialer inneholdende grupper med strukturen<!->CH=CH-CO-, eksempelvis polyvinylcinnamat. Selv om trykkplater dannet fra strålingsfølsomme plater basert på disse '.materialer er tilfredsstillende med hensyn til trykkliv, ^ Idvs. antall tilfreddstillende'kopier og at de strålingsføl-j somme ..plater har en tilfredsstillende lagringstid, dvs. de jkan lagres en betydelig tidsperiode før de eksponeres og (fremkalles, så utviser disse materialer ulempe ved at de . i 1 ikke kan fremkalles i vandige media. Således må fremkallere, :som i det vesentlige er basert pa flytende organiske oppløs-, Iningsmidler anvendes under fremkallingstrinnet. Mange av ; jdisse oppløsningsmidler er toksiske, ubehagelige a 0 anvende<i>| jeller forårsaker problemer når man skal kvitte seg med disse;.^Eksempler på slike oppløsningsmidler er cykloheksanon, mei t-oksybutylacetat, 2-metoksyetylacetat og dimetylformamid. i I!lys av den tiltagende bekymring over helse og forurensning^.har den trykkplatefremstillende industri forsøkt å tilveie-bringe en negativt arbeidende, forsensibilisert plate somjikke krever anvendelse av disse flytende oppløsningsmidler, men som likevel vil være tilfredsstillende med hensyn til tryknings- og lagringstid. Problemet ble delvis løst ved å I anvende, som strålingsfølsomt materiale, en vannoppløselig idiazoharpiks, eksempelvis kondensasjonsproduktet av 4-diazo-j difenylaminfosfat og formaldehyd. Selv om slike materialer ,
i var tilfredsstillende ved at vann kunne anvendes som frem-i i kaller så utviste ikke trykkplater fremstilt derfra til- i i strekkelig lang trykklevetid hvis de ikke ble gitt en egnet;behandling med eksempelvis en forsterkende lakk, og strål-:ingsfølsomme plater fremstilt derav utviste ikke tilstrekkelig lang lagringstid. Disse problemer ble unngått ved an- ■ i ^vendelse av diazoharpikser oppløselige i et organisk oppløs-,iIningsmiddel, så som de beskrevet i britisk patent nr. ' 944.276 (eksempel 2), britisk patent nr. 1.010.203 (eksempel. 'III), britisk patent nr. 1.041.463 (eksemplene 2 og 3),
i ,de britiske patenter nr. 1.055.079 og 1.388,038 og i japansk! Ipatentsøknad nr. 66/6813. Slike diazoharpikser oppløselige
ii et organisk oppløsningsmiddel lider ikke av de ovenfor I JJ nevnte ulemper og kan likevel fremkalles i fremkallere i<<i>j idet vesentlige, bestående av vann, eksempelvis en vandig ppp-j ;løsning inneholdende propanol, en sulfonsyre og et ikke-i j i i iionisk overflateaktivt middel. I visse tilfeller var imid-1lertid mengden av n-propanol eller sulfonsyre nødvendig for å fjerne ikke-bestrålte områder slik at også bestrålte j områder ble angrepet, hvilket forårsaket overfremkallingjav platen. I tillegg, selv om n-propanol i så måte er bedre sammenlignet med de organiske oppløsningsmidler som konvensjonelt anvendes for fotopolymeriserbare materialer så erI;den meget brennbar, fordamper raskt og har en ubehagelig i jlukt. Imidlertid utviser den den fordel at den undertrykker! Iskumningsevnen for det overflateaktive middel og dens fravær<;>l I ka'n føre til fremkallere som danner for meget skum ved an-I i Ive' ■ ndelse i en automatisk fre' mkallingsmaskin.<!>| ;
Det er nå overraskende funnet at innbefattelse i i det vesentlige vandige fremkallere av salter av visse alifatiske kar-;b<p>ksylsyrer utviser en markant antiskumningseffekt. Følge- ' ,lig er det i henhold til oppfinnelsen tilveiebrakt en i det I i vesentlige vandig fremkaller av den type som inneholder et<1>!ikke-ionisk overflateaktivt middel og som er ment for billed-i vis fremkalling av eksponerte, negativt arbeidende strålings-ifølsomme plater, og hvor forbedringen omfatter innbefattelse
•av et salt av en alifatisk karboksylsyre inneholdende opptil 91 karbonatomer. .Syren kan være mettet eller umettet og saltet kan eksempel-i vis være natrium-, kalium- eller annet alkalimetallsalt,'et . < Iammoniumsalt eller et trietanolaminsalt. .Ij l; ;Salter av syrer inneholdende 10 eller flere karbonatomer; jutviser ikke en tilstrekkelig anti-skumningseffekt. Snarere; 'tvert imot har de en tendens til å forøke og stabilisere skummet. Fortrinnsvis inneholder syren 7 eller 8 karbonatomer og salter av disse syrer forsterker virkningen av frem-i i Jkalleren, samt virker som skumundertrykkere. Eksempler på ■ egnede syrer er propansyre, valeriansyre, oktansyre,
2-etylheksansyre, nonansyre, heptansyre og sorbinsyre. Blandinger av salter av alifatiske syrer kan også anvendes. i 'Mengden av alifatisk syresalt tilstede i fremkalleren bør
,minst være den mengde som er nødvendig for å ha en signifi-.
■ kant anti-skumningseffekt. Således bør eksempelvis fremkall-; er■ en inneholde minst 20 g/l av det alifatiske syresalt. JI I prinsipp kan fremkalleren inneholde så meget av det alifat- j Jiske syresalt som nødvendig for å gi en mettet oppløsning. ! ;I-prinsipp bør imidlertid fremkalleren inneholde mindre av i det alifatiske syresalt enn det for en mettet oppløsning!og i idet maksimale innhold vil.:være ca. 300 g/l. il !
(Mengden av overflateaktivt middel i fremkalleren kan vari- i 'ere betydelig avhengig av det strålingsfølsomme materialets ! I natur. Typiske mengder er i området 5 - 30 % volum/volum og eksem-, pier på overflateaktive midler som kan anvendes er ikke-• ioniske overf lateaktive midler så som beskrevet på sidene 249-252 i Surfactants (U.K.), Directory of Surface Active Agents
(annen utgave 1979 (Hollis)). Foretrukne overflateaktive j i midler er eventuelt modifiserte alkoholalkoksylater eller i ! fenolalkoksylater. Blandinger av ikke-ioniske overflatey i aktive midler kan også anvendes. : ;
il!henhold til en foretrukket utførelsesform kan fremkalleren ii tillegg inneholde et salt av en aromatisk karboksylsyre. Dette salt kan eksempelvis være et natrium-, kalium- eller
annet alkalimetallsalt, et ammoniumsalt eller et trietanol-iaminsalt. Det er funnet at kombinasjonen av salter av ali-<i>fatiske og aromatiske syrer har en synergistisk effekt idet kombinasjonen har en bedre fremkallende virkning enn et salti i ! av hver av disse syretyper alene. Typisk kan fremkalleren ! inneholde 20 - 300 g/l av saltet av den aromatiske syre og -blandinger av salter av aromatiske syrer kan også anvendes. , ijEksempler på egnede aromatiske karboksylsyresalter er benzo-i syre og toluensyre.
'.Foi rtrinnsvis har fremkal• leren en pH i området 6-11.:^ I
' i
I ,Frerakallerene ifølge oppfinnelsen kan i tillegg innbefat't<e>' 'effektive mengder av fargestoffer, parfymer, samt også små !jmengder av vannblandbare organiske oppløsningsmidler, anion-
I ' i<i>iske overflateaktive midler og dispergeringsmidler. j
.Fremkalleren ifølge oppfinnelsen er spesielt egnet for anvendri I else med strålingsfølsomme plater basert på strålingsfølsom-j me materialer som konvensjonelt.fremkalles i vandige media, j så som de tidligere nevnte diazoharpikser som er oppløselige!. i et organisk oppløsningsmiddel. Eksempler på slike harpiks-:er er 4-diazodifenylamin-bisulfat eller fosfat/ formaldehyd-' !kondensasjonsprodukter som er modifisert ved omsetning med | |et salt, så som natriumtriisopropyl-naftalensulfonat, na^ium-;dodecylbenzensulfonat, eller natrium-4-nitrobenzensulfonat fo! r å gjøre dem mindre vannoppløselige. !i
'Det er imidlertid også funnet at fremkallerene ifølge oppfinnelsen også kan anvendes for å fremkalle strålingsfølsomme materialer basert på visse fotofornettbare harpikser så som
i
de vist i britisk patent nr. 1,377,747, samt også for å fremkalle strålingsfølsomme materialer basert på visse foto-.polymeriserbare olefinisk umettede forbindelser så som penta-i erytritoltriakrylat, et diakrylat av en flytende bisfenol A-.epoksyharpiks (eksempelvis "Epocryl DRH-302" (Shell Chemi-cals) ) en akrylat-uretanoligomer (eksempelvis "UCAR Actomer X-116" (Union Carbide)), 2,2,5,5-tetraakryloksymetyl-cyklo-fentanon og diakrylatet av bisfenol A-diglycidyleter.
De følgende eksempler illustrerer oppfinnelsen:
■ i 'i ii ■
i EKSEMPEL 1
jEt aluminiumark ble elektrokjemisk kornet, anodisert, behand-j let med polyvinylf osf onsyre og deretter virvelbelagt med jet .....<i>•lysfølsomt belegg omfattende reaksjonsproduktet av 4-diazo-<i>difenylamin-bisulfat/formaldehydkondensat og natriumtri-iso-j
.propylnaftalensulfonat til å gi en negativt arbeidend2 e j' ,strålingsfølsom plate. Belegningsvekten var 0,7 g/m . !
j
jEtter eksponering til UV-lys gjennom en negativ transparent j }ble platen fremkalt under anvendelse av en oppløsning be-I stående av 4 % vekt/volum natriumpropionat, 10 % vekt/volum natriumbenzoat og 20 % volum/volum "Ethylan HB4", idet den ! gjenværende del av oppløsningen, var ..vann. "Ethylan HB4 "
• (Diamond Shamrock Ltd.) er et fenoletoksylat.
i i i 1 i i Den fremkalte plate ble desensibilisert på konvensjonell<1>j I måte og ga mange tilfredsstillende kopier i en presse. Det | oppstod ingen skumningsproblemer når fremkalleren ble an-r<;>vendt i en "Howson-Algraphy" negativ fremkallingsmaskin for fremkalling av et antall plater. i
i
EKSEMPEL 2
Eksempel 1 ble gjentatt bortsett fra at fremkalleren var'en oppløsning inneholdende 5 % vekt/volum natriumvalerat, 10 % i vekt/volum natriumbenzoat, 10 % volum/volum "Ethylan HB4" og] 10 % volum/volum "Antarox LF 330" (GAF Surfactants), resten var vann. "Antarox LF330" er et modifisert alkohol-etoksy- _ lat. Tilsvarende resultater ble erholdt.<1>'
t
l i 1
EKSEMPEL 3
i Eksempel 1 ble gjentatt idet det som fremkaller ble anvendt ;en vandig oppløsning inneholdende 15 % vekt/volum natrium- j okatanat og 15 % volum/volum "Antarox LF330" og resten var\vann. Tilsvarende resultater ble oppnådd. !
. EKSEMPEL 4 i Et aluminiumark fremstilt på samme måte som det i eksempel 1 ble virvelbelagt med reaksjonsproduktet av 4-diazodifenyl-;amin-bisulfat/formaldehydkonsasjonsprodukt og natriumsaltet i i 'av dodecylbenzensulfonsyre med en belegningsvekt på 0,8 g/m 2. ! „ i Den derved erholdte strålingsfølsomme plate ble billedvis .eksponert og fremkalt under anvendelse av en oppløsning inne*-j .holdende 9 % vekt/volum natrium-2-etylheksanat, 9 % vekt.|/Svolum natriumtoluat og 15 % volum/volum "Antarox LF330",j" i resten var vann. Resultater tilsvarende de erholdt i hen-1 i hold til eksemplene 1-3 ble oppnådd. '<1>i EKSEMPEL 5 j j i Eksempel. 3 .ble gjentatt bortsett fra at natriumoktanat ble j erstattet med en tilsvarende mengde natriumnonat. Tilsvar- . ende resultater ble erholdt. i i<;> i ■ EKSEMPEL 6 .Eksempel 1 ble gjentatt bortsett fra at (i) natriumtriiso- I propylnaftalensulfonat ble erstattet med natriumsaltet av t<1>4-nitrobenzensulfonsyre, (ii) belegget inneholdt også 5 g j "Victoria Cyan" (BASF) pr. 100 g harpiks og (iii) fremkalleren var en vandig oppløsning inneholdende 10 % vekt/volum !ikaliumbenzoat, 10 % vekt/volum kaliumheptanat og 15 % volum/:ivolum "Ethylan CPG945", resten var vann. "Ethylan CPG945" '.;
(Diamond Shamrock Ltd.) er et modifisert alkoholetoksylat. I Igjen ble tilsvarende resultater oppnådd.
i
EKSEMPEL 7
Eksempel 6 ble gjentatt bortsett fra at fremkalleren var en : vandig oppløsning inneholdende 6 % vekt/volum natriumsorbat,<i>10 % vekt/volum natriumbenzoat og 20 % volum/volum "EthylanHB4", resten var vann. Tilsvarende resultater ble igjeniopp-: l
■ nådd.;1i ; i M i : , EKSEMPEL 8 !
;Fremkalleren ifølge eksempel 7 ble anvendt for å fremkalle en billedeksponert plate med et strålingsfølsomt belegg bestående av 4 vektdeler av reaksjonsproduktet av 4-diazodi-'fenylaminbisulfat/formaldehydkondensat og natriumtriisopro- ; pyl-naftalensulfonat og 1 vektdel av en fullhydrolysert sty-<!>ren/maleinsyreanhydridkopolymer. Tilsvarende resultater<:>ble erholdt. j
EKSEMPEL 9
I
Et aluminiumark fremstilt i henhold til eksempel 1 ble vir- jjVelbelagt med en blanding av (a) reaksjonsproduktet av 4- jIdiazodifenylaminfosfat/formaldehydkondensat og natriumsaltetji av dodecylbenzensulfonsyre og (b) en lik vektmengde av en !
i 1 akrylsyreharpiks ('Macronal SN510" (Resinous'Chemicals, ; ; Hoechst AG)). Den erholdte strålingsfølsomme plate ble eks-' 'ponert med UV-lys igjennom en negativ transparent og dery j letter fremkalt under anvendelse av en vandig oppløsning bestående av 9 % vekt/volum kaliumoktanat, 9 % vekt/volum kal-j:iumbenzoat, 15 % volum/volum benzylalkohol og 15 % volum/vol-ium "Plurafac RA40" (Pechiney-Ugine-Kuhlmann), resten var! I ivann. "Plurafac RA40" er et modifisert alkoholetoksylati i ! i Ti' lsvarende resultater ble erholdt.
I EKSEMPEL 10
For sammenligning ble en plate fremstilt i henhold til eks-'empel 3 fremkalt under anvendelse av en vandig oppløsning bestående av 15 % vekt/volum natriumbenzoat og 15 % volum/ volum "Antarox LF 330", resten vann. Ikke-billedområdene I
i ble misfarget og når et antall plater ble fremkalt under•an-i 'vendelse av en fremkallermaskin så utviklet raskt fremkaller,-:! en I uakseptable skumnivåer. !;
i i ' eksempel il!For å vise den synergistiske effekt ved anvendelse av en; kombinasjon av salter av alifatiske- og aromatiske syrer i ble 3i plater fremstilt i henhold til eksempel 1 eksponert gjennom en gråkile og fremkalt henholdsvis i fremkalleren ifølge '. eksempel 3 (plate 1), eksempel 4 (plate 2) og eksempel lo! !
'(plate 3). j|
i Plate 1 hadde rene, ikke-billedområder. og gråkilen viste! :et kraftig (solid) trinn 6 og et haletrinn 17. Plate 2<!>'hadde like rene, ikke-billedarealer og et kraftig trinn 6 j og et haletrinn 15. Plate 3 hadde kraftige misfargede ikke-l billedarealer og gråkilens hale var umulig å fastslå på-grunn av skumming i platen i dette området. ' .
. EKSEMPEL 12 ! ;For å vise de skumundertrykkende effekter ble fremkallerene i ifølge eksemplene 3, 4, 5 og 10, samt en oppløsning av et [ikke-ionisk overf lateaktivt middel alene ("Antarox LF330") under-kastet en skumprøve bestående av å vende 200 ml av væsken
som skulle undersøkes i en forseglet målesylinder og måle idet initiale skumvolum og skumvolumet med 3 0 s intervaller. Resultatene er vist i tabell 1. i
EKSEMPEL i 1 i1 Et aluminiumark ble elektrokjemisk kornet og anodisert og .deretter belagt med reaksjonsproduktet av en epoksyharpiks |("Epikote 1004") og 4-azido-a-cyano-A-kloro-cinnamyliden-eddiksyre. Den resulterende strålefølsomme plate ble billedeksponert med UV-lys under en negativ transparent og fremkalt med en vandig oppløsning inneholdende 5 %.vekt/volum .natriumoktanat, 5 % vekt/volum natriumbenzoat, 15 % volum/ volum 2-(2-metoksyetoksy)etanol(metyldioksitol) og 15 % i i ;volum/volum "Ukanil 50", resten var vann. "Ukanil 50" j ! (Pechiney Ugine Kuhlmann) er et alkoholetoksylat-overf lateaktivt middel. De fremkalte plater ble desensibilisert på konvensjonell måte og ga mange tilfredsstillende kopier. 1 lingen skumningsproblemer oppsto når et antall slike plater j ble samtidig fremkalt under anvendelse av en platefremkall- .: ingsmaskin. i
EKSEMPEL 14'Fremkalleren ifølge eksempel 6 ble anvendt for å fremkalle ' 1 I en billedeksponert plate med et strålingsfølsomt belegg omfattende reaksjonsproduktet av 3-metoksy-difenylamin-4-diazo-niumsulfat/4'-bismetoksymetyldifenyl-eterkondensasjonspro-dukt og 2-mesitylensulfonsyre. Tilsvarende resultater ble j erholdt.
Fremstillingen av diazoforbindelsene er beskrevet i engelsk | patent nr. 1.312.926. I
I i ■ 1
EKSEMPEL 15 Fremkalleren ifølge eksempel 6 ble anvendt for å fremkalle :en billedeksponert plate med et strålingsfølsomt belegg omfattende reaksjonsproduktet av 2 mol p-(N-etyl-N-3-hydroksy-'etyl)-aminobenzen-diazoniumklorsinkat/1 mol sebacylklorid- i kondensasjonsprodukt og 2-hydroksy-4-metoksybenzofenon-5- : .sulfonsyre. Tilsvarende resultater ble erholdt.
Fremstillingen av diazoforbindelsene er beskrevet i britisk patent nr. 2.003.147.
EKSEMPEL 16
Et aluminiumark fremstilt i henhold til eksempel 1 ble virvelbelagt med en strålingsfølsom blanding omfattende (i) 8,5 vektdeler av reaksjonsproduktet av 2 mol akrylsyre og 1 mol bisfenol A diglycidyleter, (ii) 2,1 vektdeler av en akrylharpiks ("Surcol 1339" (Allied Colloids)), (iii) 0,43 vektdeler 2-(4<1->metoksystyryl)-4,6-bis(triklormetyl)-S-tria-zin.
;Den resulterende strålingsfølsomme plate ble billedeksponert, igjennom en transparent og fremkalt under anvendelse'av en oppløsning omfattende 12,5 % vekt/volum natriumoktanat og 12,5 % vekt/volum "Ethylan HB4", og resten var vann. Oppløs-ningens pH ble justert til 10,5 ved tilsetning av trinatrium-fosfat. Tilsvarende resultater ble erholdt.

Claims (9)

  1. il ' i ;1. En i det vesentlige vandig fremkaller for fremkalling ■ av billedeksponerte, . negativt arbeidende strålingsfølsomme plater og omfatter en.vandig oppløsning av et ikke-ionisk i overflateaktivt middel, karakterisert I v. e d at oppløsningen ytterligere innbefatter et salt av j Jen alifatisk karboksylsyre inneholdende opptil 9 karbonatom-| i er. II I i [2. Fremkaller ifølge krav 1, karakterisert ,v(e d at den alifatiske karboksylsyre er propansyre, !valeriansyre, sorbinsyre eller nonansyre.
  2. ! i ! :3. Fremkaller ifølge krav 1, karakteriser,t v,e d at den alifatiske karboksylsyre inneholder 7 eller 8 ; karbonatomer..i
  3. ,4. Fremkaller ifølge krav 3, karakterisert 'v <!> e d at den alifatiske karboksylsyre er heptansyre, oktansyre eller 2-etylheksansyre.
  4. ; i 1 5'. Fremkaller ifølge kravene 1-4, karakteri-i s-e r t ved at .den inneholder 20 - 300 g/l av et salt av den alifatiske karboksylsyre.
  5. 1
  6. 6. Fremkaller ifølge kravene 1-5, karakteri-;
    :Sie r t ved at den ytterligere innbefatter et salt.av i en aromatisk karboksylsyre. M i ! I
  7. 7. Fremkaller ifølge krav 6, karakterisert !v, e d at den aromatiske karboksylsyre er benzosyre eller j 1 <1> 'toluensyre. ! i
  8. 8. Fremkaller ifølge krav 7, karakterisert<:>
    ved at den inneholder opptil 300 g/l av saltet av den I aromatiske karboksylsyre. ! ! i l i
  9. 9.. Fremkaller ifølge kravene 1-8, karakteri-'
    i i s: ert ved at den har en pH i området 6-11. ■ | i .:
NO810299A 1980-01-29 1981-01-28 Fremkaller. NO810299L (no)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB8002934 1980-01-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NO810299L true NO810299L (no) 1981-07-30

Family

ID=10510965

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO810299A NO810299L (no) 1980-01-29 1981-01-28 Fremkaller.

Country Status (19)

Country Link
US (1) US4350756A (no)
EP (1) EP0033232B2 (no)
AT (1) ATE7823T1 (no)
AU (1) AU543918B2 (no)
BR (1) BR8100520A (no)
CA (1) CA1165610A (no)
DE (1) DE3162627D1 (no)
DK (1) DK160848C (no)
ES (1) ES498879A0 (no)
FI (1) FI72395C (no)
GB (1) GB2068136B (no)
HU (1) HU187293B (no)
IE (1) IE50592B1 (no)
KE (1) KE3465A (no)
MW (1) MW481A1 (no)
NO (1) NO810299L (no)
NZ (1) NZ196110A (no)
ZA (1) ZA81518B (no)
ZW (1) ZW1781A1 (no)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3100259A1 (de) * 1981-01-08 1982-08-05 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren und entwicklergemisch zum entwickeln von belichteten negativ arbeitenden diazoniumsalzschichten
DE3140186A1 (de) * 1981-10-09 1983-04-28 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Entwickler und verfahren zum entwickeln fuer belichtete negativ-arbeitende reproduktionsschichten
US4436807A (en) 1982-07-15 1984-03-13 American Hoechst Corporation Developer composition with sodium, lithium and/or potassium salts for developing negative working imaged photographic material
US4824769A (en) * 1984-10-15 1989-04-25 Allied Corporation High contrast photoresist developer
DE3439597A1 (de) * 1984-10-30 1986-04-30 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten sowie verfahren zur herstellung von druckformen und verwendung des entwicklers
GB2167572A (en) * 1984-11-23 1986-05-29 Colin George Thompson Photo mechanical imaging
US4786582A (en) * 1985-08-02 1988-11-22 Hoechst Celanese Corporation Organic solvent free developer for photosensitive coatings
US4714670A (en) * 1986-06-09 1987-12-22 Imperial Metal & Chemical Company Developer including an aliphatic cyclic carbonate in the oil phase emulsion
US4780396A (en) * 1987-02-17 1988-10-25 Hoechst Celanese Corporation Organic solvent free developer compositions for lithographic plates having neutral pH comprising a lithium and potassium salt and an anionic surfactant
US5081003A (en) * 1987-07-27 1992-01-14 Hoechst Celanese Corporation Developer compositions for newspaper plates
US4851324A (en) * 1987-07-27 1989-07-25 Hoechst Celanese Corporation Phenoxy propanol containing developer compositions for lithographic plates having neutral pH
US4873174A (en) * 1988-02-03 1989-10-10 Hoechst Celanese Corporation Method of using developer-finisher compositions for lithographic plates
US4912021A (en) * 1988-02-03 1990-03-27 Hoechst Celanese Corporation Developer-finisher compositions for lithographic plates
US5278030A (en) * 1988-10-24 1994-01-11 Du Pont-Howson Limited Developer solution comprising ethyl hexyl sulphate, a surfactant, an alkaline material and having a pH of not less than 12
GB8918161D0 (en) * 1989-08-09 1989-09-20 Du Pont Improvements in or relating to radiation sensitive compounds
US5122438A (en) * 1989-11-02 1992-06-16 Konica Corporation Method for developing a waterless light-sensitive lithographic plate
US5279927A (en) * 1992-07-23 1994-01-18 Eastman Kodak Company Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability
US5316892A (en) * 1992-07-23 1994-05-31 Eastman Kodak Company Method for developing lithographic printing plates
US5380623A (en) * 1992-12-17 1995-01-10 Eastman Kodak Company Aqueous developer for lithographic printing plates which provides improved oleophilicity
DE69315046T2 (de) * 1992-12-17 1998-06-04 Eastman Kodak Co Wässriger Entwickler für lithographische Druckplatten der zu einer verringerten Schlammbildung führt
US5582964A (en) * 1994-04-14 1996-12-10 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photographic material having a syndiotactic styrenic polymer containing support
EP0732628A1 (en) 1995-03-07 1996-09-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Aqueous alkaline solution for developing offset printing plate
US6383717B1 (en) 2000-10-11 2002-05-07 Kodak Polychrome Graphics, Llc Aqueous developer for negative working lithographic printing plates
US7316891B2 (en) * 2002-03-06 2008-01-08 Agfa Graphics Nv Method of developing a heat-sensitive lithographic printing plate precursor with a gum solution
CN100573342C (zh) * 2004-05-19 2009-12-23 爱克发印艺公司 制造光聚合物印版的方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE624160A (no) * 1961-10-30
GB1220808A (en) * 1967-05-18 1971-01-27 Howson Algraphy Ltd Processing of presensitized photolithographic printing plate
US3547632A (en) * 1967-11-16 1970-12-15 Eastman Kodak Co Method of lithographic reproduction and solution to render image areas oleophilic
DE1767384A1 (de) * 1968-05-04 1971-11-18 Henkel & Cie Gmbh Schaumarme Spuel- und Reinigungsmittel fuer die Geschirreinigung
US3707373A (en) * 1969-03-17 1972-12-26 Eastman Kodak Co Lithographic plate developers
US3745028A (en) * 1971-04-26 1973-07-10 Eastman Kodak Co Lithographic plate desensitizer formulations
US4147545A (en) * 1972-11-02 1979-04-03 Polychrome Corporation Photolithographic developing composition with organic lithium compound
US4055515A (en) * 1975-12-31 1977-10-25 Borden, Inc. Developer for printing plates
DE2925363C2 (de) * 1978-06-23 1985-09-05 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa Schutzmittel vom Emulsionstyp für die Oberfläche von lithographischen Druckplatten
JPS5542890A (en) * 1978-09-22 1980-03-26 Fuji Photo Film Co Ltd Desensitizing solution for lithographic printing
US4287082A (en) * 1980-02-22 1981-09-01 The Procter & Gamble Company Homogeneous enzyme-containing liquid detergent compositions containing saturated acids

Also Published As

Publication number Publication date
FI72395B (fi) 1987-01-30
AU543918B2 (en) 1985-05-09
US4350756A (en) 1982-09-21
EP0033232B2 (en) 1988-08-24
GB2068136B (en) 1984-09-05
BR8100520A (pt) 1981-08-18
ZA81518B (en) 1982-02-24
ES8204348A1 (es) 1982-05-01
FI810229L (fi) 1981-07-30
AU6669981A (en) 1981-08-06
DE3162627D1 (en) 1984-07-12
IE810163L (en) 1981-07-29
EP0033232A1 (en) 1981-08-05
NZ196110A (en) 1983-06-17
DK160848C (da) 1991-10-07
HU187293B (en) 1985-12-28
IE50592B1 (en) 1986-05-14
ATE7823T1 (de) 1984-06-15
ES498879A0 (es) 1982-05-01
MW481A1 (en) 1982-07-14
EP0033232B1 (en) 1984-06-06
DK37881A (da) 1981-07-30
CA1165610A (en) 1984-04-17
DK160848B (da) 1991-04-22
KE3465A (en) 1984-11-09
FI72395C (fi) 1987-05-11
GB2068136A (en) 1981-08-05
ZW1781A1 (en) 1981-12-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NO810299L (no) Fremkaller.
EP0601240B1 (en) Water developable diazo based lithographic printing plate
US4885230A (en) Burn-in gumming composition for offset printing plates
US4822723A (en) Developer compositions for heavy-duty lithographic printing plates
EP0450199B1 (en) Water developable diazo based lithographic printing plate
US4851324A (en) Phenoxy propanol containing developer compositions for lithographic plates having neutral pH
US4147545A (en) Photolithographic developing composition with organic lithium compound
US5316892A (en) Method for developing lithographic printing plates
JPH06186745A (ja) 放射線感応性物質
US5922502A (en) Imaging element for making a lithographic printing plate wherein that imaging element comprises a thermosensitive mask
US4339530A (en) Developer mixture for developing exposed light-sensistive copying layers
WO2002031599A2 (en) Aqueous developer for negative working lithographic printing plates
US3891438A (en) Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates
CA1266395A (en) Developer compositions for lithographic plates
EP0602739B1 (en) Aqueous developer for lithographic printing plates which provides improved oleophilicity
US3669664A (en) Process of strengthening presensitized lithographic plate with lacquer emulsion
EP0314248B1 (en) Presensitized imaging element suitable for use as a lithographic printing plate
US5279927A (en) Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability
US4786580A (en) Method of developing imaged diazo material with propanol containing developer composition
US3634086A (en) Solvent development of light-sensitive diazo layers
US3877948A (en) Photosensitive printing composition
US4530897A (en) Process for desensitizing diazo lithographic printing forms using desensitizing solution with light absorbing compound
CA2098169C (en) Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability
US5081003A (en) Developer compositions for newspaper plates
JPH02189545A (ja) 平版印刷版の製造方法