NL8501774A - Werkwijze voor het vervaardigen van een zachtmagnetisch amorf metaallint en zachtmagnetisch amorf metaallint. - Google Patents
Werkwijze voor het vervaardigen van een zachtmagnetisch amorf metaallint en zachtmagnetisch amorf metaallint. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8501774A NL8501774A NL8501774A NL8501774A NL8501774A NL 8501774 A NL8501774 A NL 8501774A NL 8501774 A NL8501774 A NL 8501774A NL 8501774 A NL8501774 A NL 8501774A NL 8501774 A NL8501774 A NL 8501774A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- amorphous metal
- metal ribbon
- atomic
- etching liquid
- ribbon
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 27
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 24
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 35
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 claims description 26
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 22
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 16
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 16
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 9
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 29
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 5
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 2
- 235000014413 iron hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- NCNCGGDMXMBVIA-UHFFFAOYSA-L iron(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Fe+2] NCNCGGDMXMBVIA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021486 amorphous silicon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 230000002045 lasting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
- H01F1/153—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals
- H01F1/15383—Applying coatings thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/10—Etching compositions
- C23F1/14—Aqueous compositions
- C23F1/16—Acidic compositions
- C23F1/28—Acidic compositions for etching iron group metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
Description
PHN 11419 1 N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken te Eindhoven.
Werkwijze voor het vervaardigen van een zachtmagnetisch amorf metaallint en zachtmagnetisch amorf metaallint.
De uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor het vervaardigen van een zachtmagnetisch amorf metaallint met aan ten minste een zijde een isolerende bedekkingslaag uit siliciumdioxyde.
De uitvinding heeft bovendien betrekking op een met de werk-5 wijze vervaardigd zachtmagnetisch amorf metaallint.
Een dergelijk metaallint wordt, bijvoorbeeld na wikkelen of lamineren tot een magneetkem, toegepast in transfonratorkemen, magneetkoppen of andere inductieve conponenten.
Amorfe metaallinten met een hoge verzadigingsmagnetisatie 10 bijvoorbeeld groter dan 1 Tesla, kunnen met bijzonder voordeel worden toegepast bij hoge elektrische frequenties, bijvoorbeeld boven 16 kHz. Een daarbij optredend probleem is het ontstaan van wervelstroorverliezen met de daarbij optredende warmteontwikkeling.
Cm dit probleem te ondervangen is het in de techniek gebruikelijk om de lagen waaruit de magneetkem is opgebouwd, onderling elektrisch te isoleren. Bekende werkwijzen daarvoor zijn het aanbrengen van een magnesiumoxydelaag uit een suspensie, het aanbrengen van een polymeer-laag, het opdampen van aluminiumoxyde, fosfateren, het aanbrengen van chroanoxyde (eventueel in combinatie met siliciimdioxyde poederdeel-2jj tjes) en het thermisch oxideren van het amorfe metaallint of van een daarop aangebrachte laklaag.
In het bijzonder is het uit de Japanse octrooiaanvrage (Kokai) JP 57/204,104 (zie Chemical Abstracts, Vol. 98, 1983, 100 077 52 ) bekend cm een isolerende laag uit s iliciuirdioxyde aan te brengen op een 25 amorfe ijzer legering door middel van een plasmareactie in de dampfase tussen SiH^ en N^O bij een temperatuur van 100 tot 150°C.
De uitvinding beoogt nu een eenvoudige en goedkope werkwijze te verschaffen voor het aanbrengen van een siliciuirdioxyde laag op een amorf metaallint. Daarbij is het gewenst dat de isolerende laag goed 3q hecht op het metaallint. De temperatuur bij welke de werkwijze wordt toegepast mag niet zo hoog zijn dat kristallisatie van de amorfe metaallegering optreedt. De uitvinding beoogt verder een werkwijze te verschaffen waarbij de dikte van de siliciuirdioxydelaag binnen & 1 7 / w PHN 11419 ·2 ruimte grenzen gekozen en geregeld kan worden.
Aan deze opgave wordt volgens de uitvinding voldaan door een werkwijze waarbij op gebruikelijke wijze een amorf metaallint wordt vervaardigd uit een amorfe metaallegering welke 8 tot 20 atoom % 5 silicium omvat, waarna ten minste een deel van het oppervlak van het metaallint wordt geëtst met een etsvloeistof onder vorming van een isolerende bedekkingslaag uit siliciumdioxyde, welke etsvloeistof een oplossing van ijzer (III)-chloride in water omvat.
Bij het etsen lossen de hoofdbestanddelen van het metaallint 10 (bijvoorbeeld ijzer) aan het oppervlak op, het silicium lost echter niet op en wordt geoxydeerd tot siliciumdioxyde. Cm een sluitende, isolerende laag te verkrijgen moet er minimaal 8 atoom % silicium in de amorfe metaallegering aanwezig zijn. De bovengrens van 20 atocm % silicium wordt bepaald door de toenemende tendens tot kristalliseren bij 15 grotere hoeveelheden silicium.
Omdat de siliciumdioxydelaag niet is opgegroeid, maar een deel van het materiaal vormt, is de hechting met de ondergrond bijzonder stevig. Bij het wikkelen van het lint en het impregneren van de daarbij vervaardigde magneetkem blijkt de isolerende laag goed 20 bestand te zijn tegen temperaturen tot 450°C. Een Auger analyse van het oppervlak in combinatie met ionetsen toont aan dat er een geleidelijke overgang is van de isolerende laag naar de ondergrond van het amorfe metaallint.
Een bijkomend voordeel van de werkwijze volgens de uitvinding 25 is dat zonder problemen een alzijdige isolerende laag kan worden aangebracht op het amorfe metaallint.
De werkwijze volgens de uitvinding kan worden toegepast op elke geschikte ferromagnetische amorfe metaallegering. Bij voorkeur wordt een amorfe metaallegering toegepast welke de samenstel-30 ling MaR^TcSi^ heeft, waarbij M staat voor een of meer metalen gekozen uit de groep gevormd door Fe, Co en Ni, waarbij R staat voor een of meer elementen gekozen uit de groep gevormd door B, C en P, waarbij T staat voor een of meer elementen gekozen uit de groep gevormd door de overgangsmetalen, de zeldzame aardmetalen en Be, Al, Ge, In, Sn en Sb, 35 waarbij a een waarde heeft van 70 tot 86 atoom %, waarbij b een waarde heeft van 7 tot 22 atocm %, waarbij c een waarde heeft van 0 tot 6 atoom % en waarbij d een waarde heeft van 8 tot 20 atocm %. Soortgelijke amorfe metaallegeringen zijn op zich bekend, bijvoorbeeld uit 5 ™ .-Λ 1 7 7 4 . .. - -- PHN 11419 3 het Duitse octrooischrift DE 3326556 waarin de vervaardiging van een isolerende chrocmoxydehuid op een amorfe metaallegering beschreven wordt.
In een voorkeursuitvoeringsvorm van de werkwijze volgens de uitvinding omvat de amorfe metaallegering ten minste 70 atoom % Fe.
5 Dergelijke amorfe metaallegeringen vertonen aan het oppervlak een huid van ijzeroxyde/ij zerhydroxide welke snel verwijderd wordt bij het etsen, waarna het etsen van het metaallint onder vorming van een isolerende siliciumdioxydelaag kan beginnen.
On een geschikte etssnelheid te verkrijgen verdient het de 10 voorkeur dat de concentratie van het ijzer(III)-chloride in de ets-vloeistof ligt tussen 200 en 750 g/1.
Vooral bij hogere concentraties van silicium in de amorfe metaallegering is het doelmatig dat de etsvloeistof bovendien zoutzuur omvat tot een concentratie van 1 mol/1.
15 In een geschikte uitvoeringsvorm van de werkwijze volgens de uitvinding wordt het metaallint geëtst bij een temperatuur tussen 15 en 80°C. Bij een temperatuur van 70 tot 80°C is de etssnelheid in de werkwijze volgens de uitvinding het hoogst.
Een bijzonder geschikte uitvoeringsvorm van de werkwijze 20 volgens de uitvinding wordt gekenmerkt doordat de amorfe metaallegering ten minste 11 atoom % Si omvat, doordat het amorfe metaallint in een continue werkwijze door de etsvloeistof wordt geleid en daarmee wordt bevochtigd, waarna het amorfe metaallint gedurende 1 tot 10 sec. in contact blijft met de meegevoerde etsvloeistof 25 bij de gekozen etstemperatuur, waarna het amorfe metaallint wordt schoongespoeld en gedroogd.
Cöi enerzijds een goede elektrische isolatie te verkrijgen tussen de verschillende lagen van het amorfe metaallint in een mag-neetkem en anderzijds de volumefractie aan niet-magnetisch materiaal 30 in zo'n magneetkem gering te houden, heeft in het zachtmagnetisch amorf metaallint volgens de uitvinding de isolerende bedekkingslaag uit siliciumdioxyde een dikte van 0.05 ^um tot 1 ^um.
De gewenste dikte van de isolerende bedekkingslaag is eenvoudig te verkrijgen door een geschikte keuze van de verblijftijd van 35 het metaallint in de etsvloeistof, door verversing van de etsvloeistof aan het oppervlak van het metaallint, bijvoorbeeld door roeren, en door keuze van temperatuur, concentratie en zuurgraad van de etsvloeistof.
De uitvinding zal nu nader worden toegelicht aan de hand V ->-!·: s ƒ ƒ i» v V 1 * - * PHN 11419 4 van uitvoeringsvoorbeelden. ü itvoeringsvoorbeeld 1:
Uit een mengsel van gesmolten elementen met de samenstelling 5 Fe^Q 2^2^17 5^10^0 3 °P gebruikelijke wijze een amorf metaal- lint vervaardigd, bijvoorbeeld door het gesmolten mengsel te spuiten op een sneldraaiend gekoeld wiel waarbij een afkoelsnelheid van 10“* 6 o tot 10 C/sec. wordt bereikt. Daarbij wordt een lint gevormd met een dikte van bijvoorbeeld 20 ^um en een breedte van bijvoorbeeld 12 mm.
10 Het metaallint wordt door een bak met etsvloeistof geleid, welke etsvloeistof 600 g/1 ijzer(III)-chloride en 0.1 mol/1 zoutzuur omvat. Het metaallint blijft, nadat het uit de etsvloeistof is verwijderd, nog gedurende 5 sec in contact met meegevoerde etsvloeistof bij een terrperatuur van 50°C. Vervolgens wordt het metaallint door 15 een spoelbak met water geleid en daarna gedroogd in warme lucht waarbij elk van deze stappen 5 tot 10 sec duurt. Deze werkwijze wordt bij voorkeur op bekende wijze in een continue procesgang uitgevoerd. Om de oxidatie van het metaallint nog te bevorderen, kan bijvoorbeeld lucht of zuurstof door de bak met etsvloeistof worden geleid.
20 Door van het oppervlak van het amorfe metaallint een laag met een dikte van ongeveer 1 yum weg te etsen ontstaat een amorfe siliciumdioxydelaag met een dikte tot 0.6 ^um. De gevormde oxydelaag is bijzonder stabiel, wat bijvoorbeeld blijkt uit een test waarbij het metaallint gedurende 1 uur in stikstof bij een temperatuur van 25 450°C wordt gehouden, waardoor de isolerende eigenschappen van de oxydelaag niet verslechteren. De stabiliteit is veel groter dan die van de ijzeroxyde/ijderhydroxyde huid welke vóór het etsen op het metaallint aanwezig is en welke zeer veranderlijk is onder omgevingsinvloeden.
Het zo vervaardigde amorfe metaallint is bijzonder geschikt 30 cm te worden verwerkt tot bijvoorbeeld een transformatorkem, waartoe het lint wordt gewikkeld of gelamineerd en vervolgens wordt verhit om mechanische spanningen te verwijderen. De verhittingsstap verhoogt weliswaar de brosheid van het materiaal, maar dat is na het wikkelen of lamineren van minder belang dan bij het etsen, dat immers nog daar-35 voor plaatsvindt. De temperatuur is gedurende de verhittingsstap laag genoeg om kristallisatie van de amorfe metaallegering te voorkanen. Het gevormde tussenprodukt wordt geïmpregneerd, bijvoorbeeld met een epoxyhars, en vervolgens in de gewenste vorm gezaagd. Het amorfe '00 V’ J / / PHN 11419 5 metaallint volgens de uitvinding vertoont bijzonder geschikte bevoch-tigingseigenschappen bij het impregneren. Het impregneren dient cm de verschillende lagen van de kern mechanisch met elkaar te verbinden en is niet voldoende cm de in het produkt optredende wervel-5 stranen in de gewenste mate te onderdrukken.
De warvelstrocmverliezen die in de zo vervaardigde trans-formatorkem optreden zijn onder andere afhankelijk van de wikkelgeo-metrie, van de bij het wikkelen gebruikte krachten, van de qppervlak-teruwheid van het amorfe metaallint en van de wijze van impregneren en 10 het daarbij gebruikte materiaal. De wervelstroorverliezen zijn vooral ook afhankelijk van de tussen de magnetische lagen aanwezige isolerende lagen. Een siliciumdioxydelaag met een dikte van 0.05 ^um is al voldoende cm de wervelstrcmen in grote mate te onderdrukken. Bij een dikte van 0.1 tot 0.3 ^um. is de werking vrijwel optimaal omdat een 15 grotere dikte weinig meer effect heeft en daarentegen nadelig werkt op de volumefractie van het magnetisch materiaal in de transformator-kem. Een dikte tot 1^um is toelaatbaar, daarboven neemt de mechanische sterkte van de laag af.
Door toepassing van het amorf metaallint, zoals dat is vervaar-20 digd met de werkwijze volgens de uitvinding, is het mogelijk gebleken cm de interlaminaire wervel strocmverliezen te verminderen met een factor 2 tot 10.
U itvoeringsvoorbeeld 2: 25 Een amorf metaallint, vervaardigd zoals beschreven in uit- voeringsvoorbeeld 1 en met de daar beschreven samenstelling, werd bij verschillende temperaturen (20, 35 en 50°C) ondergedcmpeld in etsvloei-stoffen met verschillende samenstellingen (0, 0.2 em 0.4 mol/1 zoutzuur en 250, 475 en 700 g/1 ijzer(Ill^chloride). De resultaten zijn 30 weergegeven in tabel I.
35 85 0 1 7 / , PHN 11419 6
Tabel_I:
T HC1 ' Fed-. I
5 oc iïiol/1 250 g/1 475 g/ï ! 700 g/1 __tijd in seconden___ 20 : 0 2 2 2 20 0.2 5 2 2 10 20 0.4 5 2 2 35 0 5 2 <1 35 0.2 2 2 <1 35 0.4 2 1 <1 50 0 2 <1 <1 15 50 0.2 2 <1 <1 50 0.4 2 <1 (1 20
In Tabel I is weergegeven de tijd in seconden die nodig is on een siliciumdioxyde laag te vormen met een dikte van ongeveer 0.3 yum. De etssnelheid en oxidatiesnelheid nemen toe met de temperatuur en vooral met de concentratie van het ijzer(III)-chloride. De invloed van de zoutzuurconcentratie is in het hier gekozen voorbeeld 25 niet groot.
De etssnelheid kan nog enigszins worden vergroot door de etsvloeistof tot stroming langs of naar het metaallint te dwingen, bijvoorbeeld door te roeren. Een te sterke stroming leidt echter tot een minder goed hechtende en minder homogene siliciumdioxydelaag.
30
Uitvoeringsvoorbeelden 3 tot 8 en vergelijkingsvoorbeelden IX tot XI.
Van een aantal verschillende zachtmagnetische amorfe iretaal-legeringen werden metaallinten vervaardigd volgens een werkwijze zoals aangegeven in uitvoeringsvoorbeeld I. Deze metaallinten werden bij een 35 temperatuur van 50°C gedompeld in een etsvloeistof met 0.8 mol/1 zoutzuur en met een ijzer(III)-gehalte van 250, 475 of 700 g/1. De resultaten zijn samengevat in tabel II, waarbij de voorbeelden 3 tot en met 8 legeringen zijn met een samenstelling volgens de uitvinding en 8501774 PHN 11419 7 waarbij de legeringen IX tot en net XI samenstellingen zijn ter vergelijking en niet volgens de uitvinding.
Tabel II; 5 --
Nr. samenstelling Fö3^3 250 g/1 475 g/1 700 g/1 3 Fe70.2^2Sl17.5B10C0.3 ^ ^ | ** 4 ^66^1.5^16.5 + + + 5 ; Fe73tfa2Si15B10 +/“ + ++ 6 ^70^6^0,2¾. 2Si11.6¾ " +^~ +//_ 7 Fe73Ni7Si-|oB10 - - + 8 Fe73B13Si9 + 15 ^ Fe39^39^4B^6B12 ^ ~ ~ ~ ^ Fe79B168^5 *) “ “ "" 23 Fe81B13.5Sl3.5C2 X) 20 -—--------—- ++ binnen 2 seconden x) niet volgens de uitvinding + binnen 10 seconden +/- binnen 60 seconden - niet in 60 seconden 25
In tabel II is weergegeven binnen welk tijdsinterval een siliciumdioxydelaag wordt gevormd met een dikte van ongeveer 0.3 ^um. Bij de samenstellingen 3 tot en met 6 met een siliciumgehalte van meer dan 11 atocm % kan zo'n laag binnen 10 seconden worden gevormd.
30 Bij de samenstellingen IX tot en met XI, niet volgens de uitvinding, wordt geen goed isolerende siliciumdioxydelaag gevormd.
35 Q ,-¾ » s * * ja .5 -V * * * -
Claims (8)
1. Werkwijze voor het vervaardigen van een zachtmagnetisch amorf metaallint met aan ten minste een zijde een isolerende bedekkingslaag uit siliciumdioyde, met het kenmerk, dat op gebruikelijke wijze een amorf metaallint wordt vervaardigd uit een amorfe metaallegering welke 8 tot 20 5 atoom % silicium omvat, waarna ten minste een deel van het oppervlak van het metaallint wordt geëtst met een etsvloeistof onder vorming van een isolerende bedekkingslaag uit siliciumdioxyde, welke etsvloeistof een oplossing van ijzer (III)-chloride in water omvat.
2. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de amorfe 10 metaallegering de samenstelling MaRkTcsij heeft, waarbij M staat voor een of meer metalen gekozen uit de groep gevormd door Fe, Co en Ni, waarbij R staat voor een of meer elementen gekozen uit de groep gevormd door B, C en P, waarbij T staat voor een of meer elementen gekozen uit de groep gevormd door de overgangsmetalen, de zeldzame aardmetalen 15 en Be, Al, Ge, In, Sn en Sb, waarbij a een waarde heeft van 70 tot 86 atoom %,waarbij b een waarde heeft van 7 tot 22 atoom %, waarbij c een waarde heeft van 0 tot 6 atoom % en waarbij d een waarde heeft van 8 tot 20 atoom %.
3. Werkwijze volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat de amorfe 20 metaallegering ten minste 70 atoom % Fe omvat.
4. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de concentratie van het ijzer(III)-chloride in de etsvloeistof ligt tussen 200 en 750 g/1.
5. Werkwijze volgens conclusie 4, met het kenmerk, dat de etsvloei-25 stof bovendien zoutzour omvat tot een concentratie van 1 mol./l.
6. Werkwijze volgens conclusie 4 of 5, met het kenmerk, dat het metaallint wordt geëtst bij een temperatuur tussen 15 en 80°C.
7. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de amorfe metaallegering ten minste 11 atoom % Si omvat, dat het amorfe metaal- 3Q lint in een continue werkwijze door de etsvloeistof wordt geleid en daarmee wordt bevochtigd, waarna het amorfe metaallint gedurende 1 tot 10 sec. in contact blijft met de meegevoerde etsvloeistof bij de gekozen ets temperatuur, waarna het amorfe metaallint wordt schoongespoeld en gedroogd. 35
8. Zachtmagnetisch amorf metaallint vervaardigd met de werkwijze volgens een der conclusies 1 tot en met 7, met het kenmerk, dat de isolerende bedekkingslaag uit siliciumdioyde een dikte heeft van 0.05 ^um tot 1 ^um. 8501774
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8501774A NL8501774A (nl) | 1985-06-20 | 1985-06-20 | Werkwijze voor het vervaardigen van een zachtmagnetisch amorf metaallint en zachtmagnetisch amorf metaallint. |
| JP61139385A JPS61295357A (ja) | 1985-06-20 | 1986-06-17 | 二酸化ケイ素の絶縁被膜を有する強磁性のアモルフアス金属テ−プの製造方法 |
| EP86201059A EP0206420A1 (en) | 1985-06-20 | 1986-06-18 | Method for the manufacture of a ferromagnetic amorphous metal tape and such a ferromagnetic amorphous metal tape |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8501774A NL8501774A (nl) | 1985-06-20 | 1985-06-20 | Werkwijze voor het vervaardigen van een zachtmagnetisch amorf metaallint en zachtmagnetisch amorf metaallint. |
| NL8501774 | 1985-06-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL8501774A true NL8501774A (nl) | 1987-01-16 |
Family
ID=19846170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL8501774A NL8501774A (nl) | 1985-06-20 | 1985-06-20 | Werkwijze voor het vervaardigen van een zachtmagnetisch amorf metaallint en zachtmagnetisch amorf metaallint. |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0206420A1 (nl) |
| JP (1) | JPS61295357A (nl) |
| NL (1) | NL8501774A (nl) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4759949A (en) * | 1987-07-23 | 1988-07-26 | Westinghouse Electric Corp. | Method of insulating ferromagnetic amorphous metal continuous strip |
| FR2657717B1 (fr) * | 1990-01-31 | 1995-07-13 | Commissariat Energie Atomique | Procede de fabrication de rubans magnetiques a permeabilite elevee en haute frequence. |
| CN120883291A (zh) * | 2023-03-23 | 2025-10-31 | 株式会社博迈立铖 | Fe-Co系合金被覆基材及层叠芯构件 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB195625A (en) * | 1922-04-03 | 1924-06-23 | Aluminum Co Of America | Improved process for coating aluminium and the product produced thereby |
| NL7311225A (nl) * | 1973-08-15 | 1975-02-18 | Philips Nv | Werkwijze voor het bewerken van metaalplaat door etsen. |
| US4310381A (en) * | 1980-04-04 | 1982-01-12 | Allied Corporation | Method for improving magnetic properties of metallic glass ribbon |
-
1985
- 1985-06-20 NL NL8501774A patent/NL8501774A/nl not_active Application Discontinuation
-
1986
- 1986-06-17 JP JP61139385A patent/JPS61295357A/ja active Pending
- 1986-06-18 EP EP86201059A patent/EP0206420A1/en not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61295357A (ja) | 1986-12-26 |
| EP0206420A1 (en) | 1986-12-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0695812B1 (en) | Nanocrystalline alloy with insulating coating, magnetic core made thereof, and process for forming insulating coating on a nanocrystalline alloy | |
| KR930002395B1 (ko) | 자성 박막 | |
| EP0583889A2 (en) | Method of etching sendust and method of pattern-etching sendust and chromium films | |
| US3397084A (en) | Method for producing superconductive layers | |
| US3733692A (en) | Method of fabricating a superconducting coils | |
| NL8501774A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een zachtmagnetisch amorf metaallint en zachtmagnetisch amorf metaallint. | |
| KR930002396B1 (ko) | 자성박막 | |
| KR870002189B1 (ko) | 전자기 장치용 비결정성 합금 | |
| EP0095830B1 (en) | Amorphous metals and articles made thereof | |
| US3710844A (en) | Method of producing superconducting strips | |
| US5154983A (en) | Magnetic alloy | |
| JPH1180908A (ja) | 表面性状に優れた磁性合金ならびにそれを用いた磁心 | |
| US20050176587A1 (en) | Process for producing nb3a1 superconductive wire rod and nb3a1 superconductive wire rod produced by the process | |
| US3489604A (en) | Superconducting wire | |
| US4018942A (en) | Method for the manufacture of a superconductor with a layer of the A-15 phase of the system Nb-Al or Nb-Al-Ge | |
| US4310381A (en) | Method for improving magnetic properties of metallic glass ribbon | |
| JPH0545662B2 (nl) | ||
| JP2662561B2 (ja) | 溶融スズを使用する非晶質金属の迅速磁気焼鈍法 | |
| JPS5928623B2 (ja) | 強度、耐食性および磁気特性のすぐれた非晶質合金 | |
| JPS59185024A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0973821A (ja) | アルミニウム安定化複合超電導導体 | |
| JP2594293B2 (ja) | 磁気回路部品 | |
| JPS6289312A (ja) | 軟磁性薄膜 | |
| JPH0154422B2 (nl) | ||
| JP2668590B2 (ja) | 磁気ヘッド用磁性合金 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A1B | A search report has been drawn up | ||
| BV | The patent application has lapsed |