NL8203230A - ELECTROLYTIC DEPOSITION OF TIN / LEAD ALLOYS. - Google Patents
ELECTROLYTIC DEPOSITION OF TIN / LEAD ALLOYS. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8203230A NL8203230A NL8203230A NL8203230A NL8203230A NL 8203230 A NL8203230 A NL 8203230A NL 8203230 A NL8203230 A NL 8203230A NL 8203230 A NL8203230 A NL 8203230A NL 8203230 A NL8203230 A NL 8203230A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- tin
- lead
- electroplating bath
- acid
- bath according
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/60—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of tin
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
« 4 I" ί VO 362k«4 I" ί VO 362k
Elektrolytische afsetting van tin/lood-legeringen.Electrolytic deposition of tin / lead alloys.
De onderhavige uitvinding heeft betrekking op verbeterde elektro-platteringsbaden voor de afzetting van tin/lood-legeringen op verschei-dene substraten. Meer in het bijzohder heeft de uitvinding betrekking op de afzetting van glanzende, metaliische tin/lood-legeringen uit ver-5 beterde elektroplatteringsbaden waarin oplosbare tin- en loodzouten, bij voorkeur tveevaardige tin- en loodfluoroboraten, tezamen met een daarmee verenigbaar zuur, b.v. fluoroboor-zruur vorden toegepast met een bijzondere combinatie van additieven.The present invention relates to improved electroplating baths for depositing tin / lead alloys on various substrates. More particularly, the invention relates to the deposition of shiny metallic tin / lead alloys from improved electroplating baths containing soluble tin and lead salts, preferably suitable tin and lead fluoroborates, together with a compatible acid, e.g. fluoroboric acid is used with a special combination of additives.
• Er bestaat een grote hoeveelheid octrooischriften die betrek-10 king heeft op elektroplatteringsbaden voor tin/lood-legeringen en verk-wijzen voor het gebruikmaken daarvan. Enkele van de meerrelevante octrooischriften omvatten de Amerikaanse octrooischriften 3.730.853 (Sedlacek et al.); 3.7^9.6^9 (Valayil); 3.769.182 (Beckwith et al.); 3.785.939 (Hsu); 3.850.765 (Karustis, Jr. et al.); 3.875.029 (Rosenberg 15 et al.); 3.905.878 (Dohi et al.); 3.926.7^9 (Passal); 3.965.573 (Dahl-gren et al.); 3-956.123 (Rosenberg et al.); 3.977-9^-9 (Rosenberg); U.000.0^7 (Ostrow et al.); k.135-991 (Canaris et al.); 1+.118.289 (Hsu); en de Britse octrooischriften 1.351.875 en 1.^08.1^8.There is a large amount of patents relating to tin / lead alloy electroplating baths and disclosing the use thereof. Some of the more relevant patents include U.S. Pat. Nos. 3,730,853 (Sedlacek et al.); 3.7 ^ 9.6 ^ 9 (Valayil); 3,769,182 (Beckwith et al.); 3,785,939 (Hsu); 3,850,765 (Karustis, Jr. et al.); 3,875,029 (Rosenberg 15 et al.); 3,905,878 (Dohi et al.); 3,926.7 ^ 9 (Passal); 3,965,573 (Dahl-gren et al.); 3-956,123 (Rosenberg et al.); 3,977-9-9 (Rosenberg); U000.0 ^ 7 (Ostrow et al.); k.135-991 (Canaris et al.); 11182889 (Hsu); and British patents 1,351,875 and 1 ^ 08.1 ^ 8.
Ondanks het bestaan van deze uitgebreide literatuur en verschei-20 dene samenstellingen die voor commerciele toepassingen zijn voorge-steld, bestaat nog steeds de behoefte aan elektroplatteringsbaden die tot een effectieve afzetting van glanzende metallische tin/lood-legerin-gen op verscheidene substraten zullen leiden. Andere belangrijke eigen-schappen zijn het vermogen om een zeer snelle afzetting en de gewenste 25 mate van egalisatie ("leveling”) te realiseren. De verscheidenheid aan hxertoe voorgestelde samenstellingen van tin/lood-legeringsbaden laten bovendien zien, dat alls in de badsamenstelling toegepaste ingredienten niet alleen in verband met de glans verkregen afzetting mahr o.bk in verband met de andere eerder genoemde eigenschappen in aanmerking moe-30 ten worden genomen.Despite the existence of this extensive literature and various compositions proposed for commercial applications, there is still a need for electroplating baths that will lead to an effective deposition of shiny metallic tin / lead alloys on various substrates. Other important properties are the ability to achieve very rapid deposition and the desired degree of leveling. The variety of hxertoe proposed compositions of tin / lead alloy baths further demonstrate that all were used in the bath composition. ingredients should not only be taken into account in connection with the gloss obtained mahr o.bk in connection with the other aforementioned properties.
8203230 4- * - 2 -8203230 4- * - 2 -
Doel van de onderhavige uitvinding is om een elektroplatteringsbad te verschaffen dat de afzetting van glanzende tin/lood-legeringen op verscheidene substraten verzekert. .The object of the present invention is to provide an electroplating bath that ensures the deposition of shiny tin / lead alloys on various substrates. .
Een ander doel van de onderhavige uitvinding is om een tin/lood-5 elektroplatteringsbad te verschaffen dat in staat is om een verbeterde glans bij betrekkelijk grote snelheden te geven.Another object of the present invention is to provide a tin / lead-5 electroplating bath capable of providing improved gloss at relatively high speeds.
Een ander doel van de onderhavige uitvinding is om een elektroplatteringsbad te verschaffen voor de afzetting van legeringen van tin en lood met een verbeterde egalisatie.Another object of the present invention is to provide an electroplating bath for the deposition of tin and lead alloys with improved equalization.
10 Deze eh andere doeleinden zullen uit de volgende beschrijving en illustratieve uitvoeringsvormen van de onderhavige uitvinding gemak-telijk duidelijk vorden.These and other objects will readily become apparent from the following description and illustrative embodiments of the present invention.
Volgens de onderhavige uitvinding is thans gevonden dat een ver-beterd elektroplatteringsbad kan vorden bereikt door een combinatie 15 te gebruiken van bijzondere additieven tezamen met oplosbare tin- en · loodzouten alsmede een daarmee verenigbaar zuur. Het verkregen bad zal tot de zeer snelle afzetting van glanzende metallische tin/lood-legeringen op verscheidene substraten leiden.According to the present invention, it has now been found that an improved electroplating bath can be achieved by using a combination of particular additives together with soluble tin and lead salts as well as a compatible acid. The resulting bath will lead to the very rapid deposition of shiny metallic tin / lead alloys on various substrates.
De vereiste combinatie van badadditieven omvat een aromatische 20 amineglansgever, een aromatische aldehydeglansgever, een alifatische aldehydeglansgever, en een niet-ionogene oppervlakteactieve korrelver-fijner.The required combination of bath additives includes an aromatic amine glosser, an aromatic aldehyde glosser, an aliphatic aldehyde glosser, and a nonionic surfactant grain finer.
Volgens een ander aspect van de onderhavige uitvinding kunnen koper of rhodiummetalen doelmatig samen met het tin en het lood worden 25 afgezet, b.v. in de vorm van ternaire legeringen, vanuit de elektro-platteringsbaden.According to another aspect of the present invention, copper or rhodium metals can advantageously be deposited together with the tin and lead, e.g. in the form of ternary alloys, from the electroplating baths.
De elektroplatteringsbaden volgens de uitvinding vorden samenge-sbeld met tveevaardig tin en lood in de vorm van in het bad oplosbare zouten, bij voorkeur met hetzelfde anion, liefst tin* en loodfluorobora-30 ten. Een verenigbaar zuur, liefst fluoroboorzuur vanneer tin- en lood-fluoroboraten vorden gebruikt, is eveneens aanvezig in een hoeveelheid die voldoende is om geleidingsvermogen te verschaffen en de metaalzou-ten oplosbaar te houden. De in het bad aanvezige hoeveelheden tin en lood zullen tenminste voldoende zijn om afzetting van de gevenste tin/ 35 loodlegering op een substraat te beverken, tot aan hun maximale oplos- 8203230 « + - 3 - baarheid in het bad.The electroplating baths of the present invention are combined with capable tin and lead in the form of bath-soluble salts, preferably with the same anion, most preferably tin, and lead fluoroborates. A compatible acid, most preferably fluoroboric acid of tin and lead fluoroborates, is also used in an amount sufficient to provide conductivity and keep the metal salts soluble. The amounts of tin and lead which are impurities in the bath will be at least sufficient to promote deposition of the given tin / lead alloy on a substrate, up to their maximum solubility in the bath.
Andere in bet bad oplosbare tweewaardige tin- en loodzouten, b.v. de ehloriden, sulfamaten, fenolsulfonaten en dergeli jke, kunnen bij het samenstellen van de baden volgens de uitvinding worden toegepast. Hoewel 5 tin- en loodzouten met verschillende anionen kunnen worden gebruikt, heeft bet de voorkeur om zouten met dezelfde anionen te gebruiken. Boven-dien kunnen andere verenigbare zuren worden gebruikt in plaats van of samen met het fluoroboorzuur, b.v. zoutzuur, sulfaminezuur, fenolsulfon-zuren, en dergelijke. Het toegepaste zuur kan een ander anion bebben 10 dan deiin- en loodzouten, maar bet is bij voorkeur betzelfde anion. Yoor de meest geprefereerde uitvoeringsvorm worden ecbter de fluoroboraat-zouten van tin en lood samen met fluoroboorzuur toegepast.Other bath-soluble divalent tin and lead salts, e.g. the chlorides, sulfamates, phenol sulfonates and the like can be used in the composition of the baths of the invention. Although tin and lead salts with different anions can be used, it is preferable to use salts with the same anions. In addition, other compatible acids can be used in place of or in conjunction with the fluoroboric acid, e.g. hydrochloric acid, sulfamic acid, phenol sulfonic acids, and the like. The acid used may have an anion other than deion and lead salts, but it is preferably the same anion. In the most preferred embodiment, the fluoroborate salts of tin and lead are used together with fluoroboric acid.
Het glansgeversysteem volgens de uitvinding omvat een combinatie van een aromatisch amine, een aromatiscb aldehyde, en een alifatiscb 15 aldehyde. Deze zijn elk aanwezig in een boeveelbeid die tenminste vol-doende is om in combinatie glans aan de elektrolytische tin/lood-afzet-ting te geven, tot aan de maximale oplosbaarheid van elk in het bad.The gloss emitter system of the invention comprises a combination of an aromatic amine, an aromatics aldehyde, and an aliphatic aldehyde. These are each present in a range which is at least sufficient to impart shine to the electrolytic tin / lead deposit in combination, up to the maximum solubility of each in the bath.
In dit glansgeversysteem dient de gewichtsverhouding van bet aromatische amine tot het aromatische aldehyde bij voorkeur in bet gebied van 1,25 20 : 1 tot 100 : 1 te liggen, waarbij een verhouding in bet gebied van ongeveer 5 :1 tot 20 : 1 bij zonder de voorkeur beeft.In this glosser system, the weight ratio of the aromatic amine to the aromatic aldehyde should preferably be in the range from 1.25 to 20: 1 to 100: 1, with a ratio in the range from about 5: 1 to 20: 1 particularly preference is trembling.
De voor de onderhavige doeleinden bruikbare aromatische of aryl-aminen omvatten o-toluidine, p-toluidine, m-toluldine, aniline, en o-cbloroaniline. Voor de meeste doeleinden heeft bet gebruik van o-cbloro-25 aniline b'ijzondere voorkeur. De aromatische aldehyden zijn b.v. verbin-dingen zoals 1-naftaldehyde, 2-hydroxy-l-naftaldehyde, 2-methoxy-l-naftaldehyde, endergelijke. Het geprefereerde aromatische aldehyde is 1-naft-aldehyde. Geschikte alifatische aldehyden zijn die welke 1 - ^ koolstof-atomen bevatten en zijn b.v. formaldehyde, aceetaldehyde, propionaldehy-30 de, butyraldehyde, crotonaldehyde en dergelijke. In deze uitvinding is het geprefereerde aldehyde formaldehyde, dat geschikt als formaline, een 37$'s oplossing van formaldehyde, kan worden toegepast.The aromatic or aryl amines useful for the present purposes include o-toluidine, p-toluidine, m-toluldine, aniline, and o-cbloroaniline. For most purposes, the use of o-cbloro-aniline is particularly preferred. The aromatic aldehydes are e.g. compounds such as 1-naphthaldehyde, 2-hydroxy-1-naphthaldehyde, 2-methoxy-1-naphthaldehyde, and the like. The preferred aromatic aldehyde is 1-naphthaldehyde. Suitable aliphatic aldehydes are those containing 1 to 1 carbon atoms and are e.g. formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, butyraldehyde, crotonaldehyde and the like. In this invention, the preferred aldehyde is formaldehyde, which may suitably be used as formalin, a 37% solution of formaldehyde.
Ook moet in het bad een niet-ionogeen oppervlakteactief middel als korrelverfijner aanwezig zijn. Het is aanwezig in een hoeveelheid 35 die tenminste voldoende is om korrelverfijning in de elektrolytische 8203230 # - k - tin/lood-afzetting te verschaffen, tot aan zijn maximale oplosbaarheid in het bad.A nonionic surfactant must also be present in the bath as a grain refiner. It is present in an amount at least sufficient to provide grain refinement in the electrolytic 8203230 # - k - tin / lead deposit, up to its maximum solubility in the bath.
Geschikte niet-ionogene oppervlakteactieve middelen kunnen in de handel verkrijgbare materialen zijn, zoals nonylfenoxypolyethyleenoxyde 5 ethanol (ipepal CO630 en Triton QS15); geethoxyleerd alkylolamide (Amidox L5 en C3); alkylpolyglycoletherethyleenoxyde (Neutronyx 675); en dergelijke. De niet-ionogene oppervlakteactieve middelen die bijzon-der doelmatig voor de onderhavige doeleinden zijngevonden, zijn de poly-oxyalkyleenethers waarin de alkyleengroep 2-20 koolstofatomen be vat.Suitable nonionic surfactants can be commercially available materials such as nonylphenoxy polyethylene oxide ethanol (ipepal CO630 and Triton QS15); ethoxylated alkylolamide (Amidox L5 and C3); alkyl polyglycol ether ethylene oxide (Neutronyx 675); and such. The nonionic surfactants particularly found effective for the present purposes are the polyoxyalkylene ethers in which the alkylene group contains from 2 to 20 carbon atoms.
10 Polyoxyethyleenethers met 10 - 20 mol ethyleenoxyde per mol lipofiele groepen hebben de voorkeur, en omvatten oppervlakteactieve stoffen zoals polyoxyethyleenlaurylether (in de handel onder het merk Brij 35-SP).Polyoxyethylene ethers with 10-20 moles of ethylene oxide per mole of lipophilic groups are preferred, and include surfactants such as polyoxyethylene lauryl ether (sold under the trade name Brij 35-SP).
Desgevenst kan een antioxydant in het platteringsbad vorden opge-nomen om de vorming van tin(lV)-verbindingen, die een gevolg zijn van de 15 oxydatie van de tin(ll)-zouten die gebruikt zijn voor het bereiden van het bad en in het bad neerslaan, tot een minimum te beperken of te ver-minderen. Elk geschikt antioxydant of oxydatie-inhibitor kan vorden gebruikt, velke bij de zure pH van het platteringsbad werkzaam is en geen nadelige invloed op het verloop van de verkvijze of de gevormde elektro-20 lytische afzetting heeft. Dergelijke antioxydanten vorden typerend ge-bruikt in hoeveelheden van ongeveer 0,5 - 50 g/dm , vaarbij hoeveelheden van ongeveer 5-10 g/dnr de voorkeur hebben.Optionally, an antioxidant can be included in the plating bath to prevent the formation of tin (IV) compounds, which result from the oxidation of the tin (II) salts used to prepare the bath and in the bath, keep it to a minimum or reduce it. Any suitable antioxidant or oxidation inhibitor can be used, which is effective at the acidic pH of the plating bath and does not adversely affect the course of the deposit or the electrolytic deposit formed. Such antioxidants are typically used in amounts of about 0.5 - 50 g / dm, with amounts of about 5-10 g / dnr being preferred.
Bijzonder geprefereerde antioxydanten zijn de aromatische sulfon-zuren. Typerende voorbeelden van deze aromatische sulfonzuren zijn o-25 kresolsulfonzuur, m-kresolsulfonzuur, en fenolsulfonzuur. Andere fenol-sulfonzuurderivaten van fenol en kresol die gebruikt kunnen vorden zijn b.v.: .Particularly preferred antioxidants are the aromatic sulfonic acids. Typical examples of these aromatic sulfonic acids are o-25 cresol sulfonic acid, m-cresol sulfonic acid, and phenol sulfonic acid. Other phenol sulfonic acid derivatives of phenol and cresol that may be used include:.
2,6-dimethylfenolsulfonzuur, 2-chloro-6-methylfenolsulfonzuur, 30 2,U-dimethylfenolsulfonzuur, ' 2,h,6-trimethylfenolsulfonzuur, p-kresoIsulfonzuur.2,6-dimethylphenol sulfonic acid, 2-chloro-6-methylphenol sulfonic acid, 2, U-dimethylphenol sulfonic acid, 2, h, 6-trimethylphenol sulfonic acid, p-creso sulfonic acid.
Ook kunnen siilfonzuurderivaten van <K- en /6-naftolen vorden gebruikt.Siliconic acid derivatives of <K- and / -6-naphthols can also be used.
35 Samenvattend hebben de geprefereerde ingredienten van de vaterige 3203230 _ 5 - % elektroplatteringsbaden volgens de uitvinding de volgende bereiken:In summary, the preferred ingredients of the unsaturated 3203230-5% electroplating baths of the invention have the following ranges:
OO
Ingredienten Hoeveelheden (g/drr) '_ · algemeen voorkeur (1) tin 5-50 15-30 5 (2) lood . 3-20 2-8 (3) zuur 100 - 250 :160 - 190 (¼) aromatiseh aldehyde 0,01 - 0,5 0,03 - 0.,1 (5) aromatiseh amine 0,3 - 15 0,5 - 1*5 (6) alifatisch aldehyde 0,5 - 20 0,9 - 10,0 IQ (7) niet-ionogeen oppervlakactief middel 0,1 - 20 0,5 - 2,5Ingredients Amounts (g / drr) General Preference (1) Tin 5-50 15-30 5 (2) Lead. 3-20 2-8 (3) acid 100 - 250: 160 - 190 (¼) aromatise aldehyde 0.01 - 0.5 0.03 - 0., 1 (5) aromatise amine 0.3 - 15 0.5 - 1 * 5 (6) aliphatic aldehyde 0.5 - 20 0.9 - 10.0 IQ (7) non-ionic surfactant 0.1 - 20 0.5 - 2.5
Bij deze concentraties zal de pH van het bad typerend minder dan ongeveer 1, in het algemeen in de buurt van ongeveer 0,05 bedragen, hoevel een pH boven 1 ook kan vorden gebruikt. Elektroplatteri-ngstempe-15 raturen en stroomdichtheden zullen in het algemeen varieren van ongeveer 10 tot ^0°C resp. van ongeveer 5 tot 500 ASF (53,8 - 5382 A/m2) tervijl de geprefereerde omstandigheden 15 - 25°C resp. 25 - 200 ASF (269 - 2153 A/m^) bedragen. Het heeft in het bijzonder de voorkeur om te verken bij of in de buurt van kamertemperatuur.At these concentrations, the pH of the bath will typically be less than about 1, generally about 0.05, however much a pH above 1 may also be used. Electroplating temperatures and current densities will generally range from about 10 to 0 ° C, respectively. from about 5 to 500 ASF (53.8 - 5382 A / m2) t file the preferred conditions 15 - 25 ° C resp. 25 - 200 ASF (269 - 2153 A / m 2). It is particularly preferred to explore at or near room temperature.
20 Het elektroplatteringsbad en de verkvijze volgens de onderhavige uitvinding kunnen vorden gebruikt om een ruim gebied aan samenstellingen van tin/lood-legeringen te produceren. Legeringsafzettingen met ongeveer 99% tin en 1% lood tot ongeveer 99% lood en 1% tin kunnen vorden verkregen. 0m deze verschillende tin/lood-legeringsafzettingen te ver-25 krijgen zal natuurlijk vorden begrepen dat de relatieve hoeveelheden van de badcomponenten vellicht' moeten vorden gevarieerd om de gevenste optimale glans, ductiliteit en andere eigenschappen aan de desbetref-fende legering te geven. Vanuit het oogpunt van commeroiele bruikbaar-heid is gevonden, dat tin/lood-legeringsafzettingen die ongeveer 95% 30. tin en 5% lood bevatten en tin/lood- en soldeerafzettingen die ongeveer 60$ en kQ% lood bevatten, bijzonder gevenst zijn, en deze vorden gemak-kelijk met de baden en de verkvijze volgens de uitvinding geproduceerd.The electroplating bath and the spreader of the present invention can be used to produce a wide range of tin / lead alloy compositions. Alloy deposits with about 99% tin and 1% lead to about 99% lead and 1% tin can be obtained. Obviously, in order to obtain these various tin / lead alloy deposits, the relative proportions of the bath components must be varied slightly in order to impart the optimum shine, ductility and other properties to the respective alloy. From the point of view of commercial utility, it has been found that tin / lead alloy deposits containing about 95% tin and 5% lead and tin / lead and solder deposits containing about 60% and 40% lead are particularly useful, and these are easily produced with the baths and the sprouts of the present invention.
Vbor de meeste platteringsbeverkingen heeffc agitatie en vaak een snelle agitatie de voorkeur. Daar bovenop vorden anode : kathode-"*35 verhoudingen van ongeveer 1 t 1 tot 10 : 1 gebruikt ,vaarbij een verhou- 8203230 - 6 - •ding van ongeveer 4 : 1 de voorkeur heeft. De substraten die onder toe-passi'ng van het elektroplatteringsbad en de werkwijze volgens de nit vending kunnen worden geplatteerd, omvatten koper, koperlegeringen, staal, nikkel, en nikkellegeringen en dergelijke.Most plating enhancements are preferred and often rapid agitation. On top of that, anode: cathode - "* 35 ratios of about 1 to 1: 10: 1 are used, with a ratio of about 4: 1 being preferred. The substrates used with application. The electroplating bath and the nit vending method can be plated, including copper, copper alloys, steel, nickel, and nickel alloys and the like.
5 Zoals bovenstaand opgemerkt kunnen koper en rhodiunmetalen samen met het tin en lood op de substraten worden afgezet wanneer de bovenstaand beschreven elektroplatteringsbaden worden gebruikt zonder additio-nele additieven of complexeermiddelen. In tegenstelling daarmee bleken metalen zoals nikkel, ijzer en indium zich onder dezelfde omstandigheden « 10 niet mede af te zetten.As noted above, copper and rhodiun metals can be deposited on the substrates together with the tin and lead when the above-described electroplating baths are used without additional additives or complexing agents. In contrast, metals such as nickel, iron and indium did not co-settle under the same conditions.
Typerend vordt het koper of rhodium aan het bad toegevoegd als in het bad oplosbare verbindingen, bij voorkeur met dezelfde anionen als het tin en lood. De van dergelijke verbindingen toegevoegde hoeveel-heden zullen voldoende zijn om ervoor te zorgen, dat tot ongeveer 5 gew$ 15. koper of rhodium met het tin en lood in de elektrolytische afzetting wordt gelegeerd. Typerende hoeveelheden koper en rhodium in de elektroplatteringsbaden om dergelijke hoeveelheden van het metaal in de elek-trolytische afzetting te verkrijgen,. bedragen ongeveer 0,2 - U g/dnr resp. 0,2-2 g/dm .Typically, the copper or rhodium is added to the bath as bath-soluble compounds, preferably with the same anions as the tin and lead. The amounts added of such compounds will be sufficient to cause up to about 5 wt.% Copper or rhodium to be alloyed with the tin and lead in the electrolytic deposit. Typical amounts of copper and rhodium in the electroplating baths to obtain such amounts of the metal in the electrolytic deposit. are about 0.2 - U g / dnr resp. 0.2-2 g / dm.
20 Een ander aspect van de onderhavige uitvinding is dat een corres- ponderend alifatisch zuur in het bad kan worden opgenomen, hetzij naast hetzij als vervanging tot de helft (50$) van het alifatische aldehyde, zonder enige ongunstige invloed op de glans van de soldeerafzetting of zijn andere gewenste eigenschappen. Zo kan men b.v. tot de helft 25 van het-formaldehyde (formaline) gehalte vervangen door mierezuur, en toch nog een elektroplatteringsbad hebbenr'.dat in gedrag equivalent is aan het basis tin/loodbad volgens de uitvinding met een volledige hoe-veelheid formaldehyde. Daarentegen konden baden volgens de uitvinding die minder dan de helft (d.w.z. 50$) van de voorgeschreven hoeveelheid 30 formaldehyde bevatten, geen aanvaardbaar uiterlijk geven ongeacht de toegevoegde hoeveelheid mierezuur. Anderzijds hoeft de toegevoegde hoeveelheid mierezuur niet precies gelijk te zijn aan de hoeveelheid wegge-laten formaldehyde, en kan zonder weglating van enig formaldehyde worden toegevoegd. Verder werd gevonden dat mierezuur weinig of geen in-35 vloed had op baden volgens· de uitvinding wanneer het formaldehyde vol- 8203230 -7- ledig verd veggelaten.Another aspect of the present invention is that a corresponding aliphatic acid can be included in the bath, either in addition to or as a substitute for up to half (50%) of the aliphatic aldehyde, without any adverse effect on the solder deposit gloss. or its other desirable properties. For example, one can e.g. up to half of the formaldehyde (formalin) content is replaced by formic acid, and yet still has an electroplating bath which is performance equivalent to the base tin / lead bath of the invention with a full amount of formaldehyde. In contrast, baths of the invention containing less than half (i.e., $ 50) of the prescribed amount of formaldehyde could not give an acceptable appearance regardless of the amount of formic acid added. On the other hand, the amount of formic acid added need not be exactly equal to the amount of formaldehyde omitted, and can be added without omitting any formaldehyde. It was further found that formic acid had little or no effect on baths of the invention when the formaldehyde was completely evaporated.
De voordelen van de mogelijkheid om tot 50% van het formaldehyde te vervangen door mierezuur zijn de geringere hoeveelheid formaldehyde die tijdens het werken van het piatteringsbad wordt verbruikt, en bij 5 gebruik van mierezuur is dan ook' betrekkelijk veinig aanvulling van formaldehyde nodig.The advantages of being able to replace up to 50% of the formaldehyde with formic acid are the less amount of formaldehyde consumed during the operation of the plating bath, and therefore the use of formic acid requires relatively little addition of formaldehyde.
Onder bepaalde bedrijfsomstandigheden kan het voordelig zijn om het bad samen te stellen met boorzuur teneinde de vorming van vrij vater-sboffluoride in het bad te verhinderen of in hoge mate te verminderen.Under certain operating conditions, it may be advantageous to formulate the bath with boric acid to prevent or greatly reduce the formation of free hydrogen fluoride in the bath.
10 Wanneer boorzuur wordt gebruikt, behoeft het slechts te vorden gebruikt in hoeveelheden die voldoende zijn om de vorming van vrij waterstoffluo-ride in hoge mate te verminderen. Hoeveelheden tot ongeveer βθ g/dm zijn typisch, terwijl hoeveelheden tot ongeveer 30 g/dm de voorkeur ’hebben. · 15 Gevonden is dat de tin/lood-elektroplatteringsoplossingen volgens de uitvinding oppervlakactieve middelen bevatten die schuimproblemen kunnen veroorzaken in bepaalde typen·commerciele toepassingen. Dit pro- ,. bleem kan vorden overwonnen door ondergeschikte hoeveelheden van een geschikt antischuimmiddel ("defoamer") in het bad op te nemen, in het 20 algemeen in hoeveelheden die varieren van ongeveer 0,06 cnr/dur tot aan de oplosbaarheidsgrens van het antischuimmiddel. Een bijzonder geprefe-reerd antischuimmiddel is octylalcohol gebleken, dat niet alleen che-misch en elektrochemisch verenigbaar is met d e andere badingredienten, maar bovendien de tin/lood-afzettingen niet nadelig beinvloedt.When boric acid is used, it need only be used in amounts sufficient to greatly reduce the formation of free hydrogen fluoride. Amounts up to about βθ g / dm are typical, while amounts up to about 30 g / dm are preferred. It has been found that the tin / lead electroplating solutions of the invention contain surfactants that can cause foaming problems in certain types of commercial applications. This pro,. The problem can be overcome by including minor amounts of a suitable defoamer ("defoamer") in the bath, generally in amounts ranging from about 0.06 cm / h to the solubility limit of the defoamer. A particularly preferred anti-foaming agent has been found to be octyl alcohol which is not only chemically and electrochemically compatible with the other bath ingredients, but also does not adversely affect tin / lead deposits.
25 De ohderhavige uitvinding zal vollediger worden begrepen aan de hand van de volgende illustratieve uitvoeringsvormen.The present invention will be more fully understood from the following illustrative embodiments.
Voorbeeld IExample I
Men bereidde een elektroplatteringsbad uit de onderstaand ver-melde ingredienten: 30 Ingredienten Hoeveelheid 3 tin, toegevoegd als tin(II)-fluoroboraat 30 g/drrAn electroplating bath was prepared from the ingredients listed below: 30 Ingredients Quantity 3 tin, added as tin (II) fluoroborate 30 g / drr
lood, toegevoegd als lood-fluoroboraat k g/dmJlead, added as lead fluoroborate k g / dmJ
fluoroboorzuur 172 g/dm 3 o-chloroaniline 0,5 g/dm 35 formaline 20 cm^/dm^ 8203230 - δ - ο polyoxyethyleen-laurylether 2,5 g/dm 1-nafthaldehyde 0,05 g/dm water ,rest η pfluoroboric acid 172 g / dm 3 o-chloroaniline 0.5 g / dm 35 formalin 20 cm ^ / dm ^ 8203230 - δ - ο polyoxyethylene lauryl ether 2.5 g / dm 1-naphthaldehyde 0.05 g / dm water, residue η p
Dit stabiele tad werd bedreven bij 20°C, 6θ ASF (6k6 A/m }, on-5 der agitatie teneinde een koperpaneel te platteren. De aldus gevormde tin/lood-afzetting bevatte 95% tin en 5% lood en had een zeer glanzend uiterlijk.This stable tad was operated at 20 ° C, 6θ ASF (6k6 A / m}, under agitation to flatten a copper panel. The tin / lead deposit thus formed contained 95% tin and 5% lead and had a very shiny appearance.
Voorbeeld IIExample II
In de samenstelling van voorbeeld I werd koperfluoroboraat toege-10 voegd in een concent rat ie van 0,5 g/dm . Het bad werd bedreven bij 60 ASF (6b6 A/m^) en gaf een glanzende tin/lood/koper-legeringsafzetting die ongeveer \% koper, 89% tin en 5% lood bevatte.In the composition of Example I, copper fluoroborate was added at a concentration of 0.5 g / dm. The bath was operated at 60 ASF (6b6 A / m 2) and gave a shiny tin / lead / copper alloy deposit containing about% copper, 89% tin and 5% lead.
Wanneer nikkel, ijzer en indiummetaal in het bovenstaande twee-waardige tin/lood-bad in plaats van het koper werden ‘toegepast, vond * 15 geen medeafzetting van een van deze metalen met het tin/lood plaats.When nickel, iron and indium metal were used in place of the copper in the above bivalent tin / lead bath, no co-deposition of any of these metals with the tin / lead took place.
'-Voorbeeld III-Example III
Men bereidde een elektroplatteringsbad nit de volgende ingredient en:An electroplating bath was prepared with the following ingredient and:
Ingredienten Hoeveelheid 20 tin, toegevoegd als tin(ll)-fluoroboraat 30 g/dur lood, toegevoegd als lood-fluoroboraat 1* g/dnr fluoroboorznnr 172 g/dmIngredients Quantity 20 tin, added as tin (ll) fluoroborate 30 g / dur lead, added as lead fluoroborate 1 * g / dnr fluoroboron no 172 g / dm
OO
boorzuur 20 g/ctar formaline 20 cm^/dm^ 25 o-chloroaniline 0,5 g/dnr l-nafthaldehyde 0,05 g/dm^boric acid 20 g / ctar formalin 20 cm ^ / dm ^ 25 o-chloroaniline 0.5 g / dnr l-naphthaldehyde 0.05 g / dm ^
OO
polyoxyethyleen-laurylether 2,5 g/dnr miereznur (88$) 2 cm^/dm^polyoxyethylene lauryl ether 2.5 g / dnr miereznur (88 $) 2 cm ^ / dm ^
Het bad werd bedreven bij kamertemperatuur, βθ ASF (6b6 A/m ), 30 met snelle agitatie en tin/lood-anoden. De formaldehydeconcentratie was zoals vermeld in voorbeeld I, maar met toegevoegd mierezuur werd de hehoefte aan volgende toevoegingen van formaldehyde om het bad in optimale conditie te houden, geelimineerd. De tin/lood-afzetting was zeer glanzend en bevatte 95% tin en 5% lood.The bath was operated at room temperature, βθ ASF (6b6 A / m), with rapid agitation and tin / lead anodes. The formaldehyde concentration was as in Example 1, but with added formic acid, the need for subsequent additions of formaldehyde to keep the bath in optimum condition was eliminated. The tin / lead deposit was very shiny and contained 95% tin and 5% lead.
35 8203230 .-9- .....-----------.--:s-Z· ·· ·-35 8203230.-9- ..... ----------- .--: s-Z · ·· · -
Voorbeeld IVExample IV
Een tin/lood-elektroplatteringsbad werd bereid uit de volgende ingredienten:A tin / lead electroplating bath was prepared from the following ingredients:
Ingredienten Hoeveelheid 5 tin, toegevoegd als tin(ll)-fluoroboraat 30 g/ctarIngredients Quantity 5 tin, added as tin (II) fluoroborate 30 g / ctar
OO
lood, toegevoegd als lood-fluoroboraat ^ g/ctarlead, added as lead fluoroborate ^ g / ctar
OO
fluoroboorzuur 172 g/ctarfluoroboric acid 172 g / ctar
OO
boorzuur 20 g/ctar formaline 10 cm /dm 10 o-chloroaniline 0,5 g/dnrboric acid 20 g / ctar formalin 10 cm / dm 10 o-chloroaniline 0.5 g / dnr
OO
1-nafthaldehyde 0,05 g/dm 3 polyoxyethyleen-laurylether 2,5 g/dm mierezuur (88$) 5 cm^/dm^1-Naphthaldehyde 0.05 g / dm 3 polyoxyethylene lauryl ether 2.5 g / dm formic acid ($ 88) 5 cm ^ / dm ^
Dit bad werd bedreven onder dezelfde omstandigheden als in voor-15 beeld III. Ondanks de vervanging van 50$ van de oorspronkelijk vereiste .hoeveelheid formaldehyde door mierezuur was het uiterlijk van de afzet-ting zeer glanzend. De glans. was hetzelfde als verkregen werd met het bad van voorbeeld I dat 20 cm /dm formaline en geen mierezuur bevatte. Voorbeeld VThis bath was operated under the same conditions as in Example III. Despite the replacement of 50% of the originally required amount of formaldehyde by formic acid, the appearance of the deposit was very glossy. The shining. was the same as obtained with the bath of Example I containing 20 cm / dm formalin and no formic acid. Example V
20 Aan elektroplatteringsbaden die als in voorbeeld I waren samenge- steld, werden 0,06 cm0/dm resp. 0,l8 cnr/ctar octylalcohol toegevoegd.To electroplating baths composed as in Example I, 0.06 cm0 / dm, respectively. 0.18 cnr / ctar octyl alcohol added.
Deze baden werden bedreven als in. voorbeeld I onder vorming van zeer glanzende tin/lood-afzettingen die 95% tin en 5% lood bevatten.These baths were operated as in. Example I to form very shiny tin / lead deposits containing 95% tin and 5% lead.
Monsters van elk van deze baden en van het bad van voorbeeld ISamples from each of these baths and from the bath of Example I.
25 werden in flessen gebracht die met een stop werden afgesloten en daarna - worden geschud. De schuimhoogte in de fles met het monster dat 0,06 cmr /dm° octylalcohol bevatte, was ongeveer 20 - 30% kleiner dan de25 were put into bottles which were closed with a stopper and then shaken. The foam height in the bottle with the sample containing 0.06 cmr / dm ° octyl alcohol was about 20 - 30% less than the
schuimhoogte in de fles die het monster van het bad van voorbeeld Ifoam height in the bottle containing the sample from the bath of Example I.
3 3 bevatte. De schuimhoogte in de fles met het monster dat 0,l8 cm /dm 30 octylalcohol bevatte was ongeveer hetzelfde-'als in de fles die het monster van het bad van voorbeeld I bevatte. De tijd die het schuim in de eerstgenoemde fles nodig had om te.verdwijnen was ongeveer 30$ minder dan voor laatstgenoemde.3 3 contained. The foam height in the bottle with the sample containing 0.18 cm / dm octyl alcohol was approximately the same as in the bottle containing the sample from the bath of Example I. The time required for the foam in the former bottle to disappear was about $ 30 less than for the latter.
Voorbeeld VIExample VI
35 Een elektroplatteringsbad werd bereid uit de volgende ingredien ten: 8203230 - 10 -An electroplating bath was prepared from the following ingredients: 8203230 - 10 -
Ψ VΨ Q
Ingredieaten Hoeveelheid tin, toegevoegd als tin(ll)-fluoroboraat 30 g/drn^ lood, toegevoegd als lood-fluorobraat 8 g/dm^Ingredients Amount of tin, added as tin (II) fluoroborate 30 g / ml lead, added as lead fluorobrate 8 g / ml ^
OO
fluoroboorzuur 172 g/dmfluoroboric acid 172 g / dm
OO
5 o-chloroaniline 0,56 g/dm 3 3 formaline 20 cm /dnr polyoxyethyleen-laurylether . 2,5 g/dm 1-naftaldehyde 0,11 g/dn? water rest 10 Het resulterende stabiele bad werd bij 20°C, 60 ASF (6k6 A/m^) bedreyen onder agitatie teneinde een koperpaneel te platteren. De aldus gevormde tin/loodafzetting had een zeer glanzend uiterlijk en bevatte 60% tin en h0% lood.5 o-chloroaniline 0.56 g / dm 3 3 formalin 20 cm / dnr polyoxyethylene lauryl ether. 2.5 g / dm 1-naphthaldehyde 0.11 g / dn? water residue 10 The resulting stable bath was heated at 20 ° C, 60 ASF (6k6 A / m2) under agitation to flatten a copper panel. The tin / lead deposit thus formed had a very glossy appearance and contained 60% tin and 10% lead.
Voorbeeld VIIExample VII
15 Teneinde de invloeden van de essentiele additieve componenten volgens de onderhavige uitvinding te illustreren, werden als volgt vijf platteringsbaden samengesteld:In order to illustrate the influences of the essential additive components of the present invention, five plating baths were composed as follows:
A - bad van voorbeeld IA bath of Example I
B - bad van voorbeeld I met weglating van niet-ionogeen oppervlakte-20 actief middel C - bad van voorbeeld I met weglating van alifatisch aldehyde D - bad van voorbeeld I met weglating van aromatische amine E - bad van voorbeeld I met weglating van aromatisch aldehyde.B - bath of example I with omission of non-ionic surfactant C - bath of example I with omission of aliphatic aldehyde D - bath of example I with omission of aromatic amine E - bath of example I with omission of aromatic aldehyde .
Deze baden werden als in voorbeeld I bedreven en men verkreeg 25 de volgende resultaten:These baths were operated as in Example 1 and the following results were obtained:
ResultaatResult
Bad A (alle vier de additieven): een glanzende, gladde afzettingBath A (all four additives): a shiny, smooth deposit
Bad B (weglating van oppervlakte- actief middel): een zwarte, sponsachtige afzetting 30 met dendritische groeiBad B (surfactant omission): a black, spongy deposit 30 with dendritic growth
Bad C (weglating van alifatisch een doffe, metallisch witte afzet- aldehyde): tingBad C (omission of aliphatic a dull metallic white deposit aldehyde): ting
Bad D (weglating van aromatisch een dof, grijf of zwart waas amine): 35 8203230 * -* - 11 -Bath D (omission of aromatic dull, slime or black haze amine): 35 8203230 * - * - 11 -
Bad E (weglating van aromatische halfglanzend, met verspringende plat-aldehyde): tering in de gehieden met hoge stroomdichtheid en een wit waas in de gehieden met lage stroomBad E (omission of aromatic semi-gloss, with staggered plat aldehyde): consumption in the high current density regions and a white haze in the low current regions
5 Voorheeld VIII5 Preface VIII
Teneinde de invloed van het werken van de haden volgens de uit-vinding met verhoudingen van aromatisch amine tot aromatisch aldehyde huiten het verhoudingsgehied van 1,25 : 1 tot 100 : 1 te illustreren, werden elektroplatteringshaden samengesteld met de volgende ingredien- 10 ten:In order to illustrate the influence of the operation of the hedges of the invention with ratios of aromatic amine to aromatic aldehyde hulls in the ratio range of 1.25: 1 to 100: 1, electroplating hams were formulated with the following ingredients:
Ingredienten Hoeveelheid tin, toegevoegd als tin(II)-fluorohoraat 30 g/dnr lood, toegevoegd als lood-fluorohoraat b g/dmIngredients Amount of tin, added as tin (II) fluorohorate 30 g / dnr lead, added as lead fluorohorate b g / dm
OO
fluorohoorzuur 172 g/dm 15 formaline 20 cm^/dm^ polyoxyethyleen-laurylether 2,5 g/dm o-chloroaniline gevarieerd : 1-naft aldehyde gevarieerd.fluoroboric acid 172 g / dm 15 formalin 20 cm 2 / dm 2 polyoxyethylene-lauryl ether 2.5 g / dm o-chloroaniline varied: 1-naphth aldehyde varied.
In deze tests werd het tin/lood afgezet op een messingsubstraat 20 hij een temperatuur van 20 C, 60 ASF (6h6 A/m ), en met snelle agitatie van het had. De verhouding van het o-chloroaniline tot het 1-naftaldehyde werd in verschillende haden gevarieerd om haden te verkrijgen waar-in deze verhouding als volgt was:In these tests, the tin / lead was deposited on a brass substrate 20 at a temperature of 20 C, 60 ASF (6h6 A / m), and with rapid agitation of it. The ratio of the o-chloroaniline to the 1-naphthaldehyde was varied in different hades to obtain hades in which this ratio was as follows:
Code: 25 Normaal - concentratie hinnen het gehied van de glansgeververhoudingCode: 25 Normal - concentration within the area of the gloss emitter ratio
Hoog - concentratie hoven de hovengrens van het verhoudingengehiedHigh concentration courts the upper limit of the ratio hied
Laag - concentratie heneden de henedengrens van het verhoudingen gehied.The low concentration concentration is the limit of the proportions.
Gehruikmakend van deze procedure werden de volgende resultaten 30 verkregen: o-chloro- 1-naftaldehyde Uiterlijk aniline hoog normaal lage stroomdichtheid, verspringende plattering 35 hoog hoog waas en verspringende plattering 8203230 - 12 - hoog laag hoge stroomdichtheid, verspringende plattering laag hoog glanzende hoge stroomdichtheid, wazige lage stroomdichtheid gebieden 5 laag laag zvaar Vaas, in het bijzonder in gebie den van lage stroomdichtheid laag normaal zwaar vaas; glanzende hoge. stroomdicht- heidsgebieden normaal hoog glanzende hoge stroomdichtheid, vazige 10 lage stroomdichtheid normaal laag hoge stroomdichtheid, verspringende plattering normaal normaal glanzende gladde afzetting 'Het zal duidelijk'zijn dat de bovenstaande voorbeelden illustra-15 tief zijn en dat variaties en modificaties daarin kunnen worden aange-bracht zonder dat daarmee de omvang van de nitvinding wordt verlaten.Using this procedure, the following results were obtained: o-chloro-1-naphthaldehyde Appearance aniline high normal low current density, staggered plating 35 high high haze and staggered plating 8203230 - 12 - high low high current density, staggered plating low high glossy high current density , hazy low current density areas 5 low low zvaar Vase, especially in areas of low current density low normal heavy vase; shiny high. Current Density Areas Normal High Glossy High Current Density, Vase 10 Low Current Density Normal Low High Current Density, Staggered Plating Normal Normal Glossy Smooth Deposition "It will be appreciated that the above examples are illustrative and that variations and modifications may be incorporated therein. without leaving the scope of the invention.
% 8203230"% 8203230 "
Claims (10)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US29976081A | 1981-09-08 | 1981-09-08 | |
| US29976081 | 1981-09-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL8203230A true NL8203230A (en) | 1983-04-05 |
Family
ID=23156175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL8203230A NL8203230A (en) | 1981-09-08 | 1982-08-17 | ELECTROLYTIC DEPOSITION OF TIN / LEAD ALLOYS. |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5842786A (en) |
| BE (1) | BE894329A (en) |
| BR (1) | BR8205180A (en) |
| DE (1) | DE3228911A1 (en) |
| ES (1) | ES515543A0 (en) |
| FR (1) | FR2512466B1 (en) |
| GB (1) | GB2105370B (en) |
| IT (1) | IT1189337B (en) |
| NL (1) | NL8203230A (en) |
| SE (1) | SE8204505L (en) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4617097A (en) * | 1983-12-22 | 1986-10-14 | Learonal, Inc. | Process and electrolyte for electroplating tin, lead or tin-lead alloys |
| ATE53217T1 (en) * | 1986-10-03 | 1990-06-15 | Asta Pharma Ag | DIAMININE-PLATINUM (II) COMPLEX COMPOUNDS WITH A HYDROXYLATED 2-PHENYL-INDOLE RING. |
| DE4440176C2 (en) * | 1994-02-05 | 1996-06-27 | Heraeus Gmbh W C | Bath for the electrodeposition of silver-tin alloys |
| GB0106131D0 (en) * | 2001-03-13 | 2001-05-02 | Macdermid Plc | Electrolyte media for the deposition of tin alloys and methods for depositing tin alloys |
| ES2766775T3 (en) | 2013-09-05 | 2020-06-15 | Macdermid Enthone Inc | Aqueous electrolyte composition that has reduced air emission |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3785939A (en) * | 1970-10-22 | 1974-01-15 | Conversion Chem Corp | Tin/lead plating bath and method |
| US3905878A (en) * | 1970-11-16 | 1975-09-16 | Hyogo Prefectural Government | Electrolyte for and method of bright electroplating of tin-lead alloy |
| NL7104810A (en) * | 1971-04-08 | 1972-10-10 | ||
| US3730853A (en) * | 1971-06-18 | 1973-05-01 | Schloetter M | Electroplating bath for depositing tin-lead alloy plates |
| US3749649A (en) * | 1971-12-16 | 1973-07-31 | M & T Chemicals Inc | Bright tin-lead alloy plating |
| US3926749A (en) * | 1971-12-20 | 1975-12-16 | M & T Chemicals Inc | Tin-lead alloy plating |
| US4000047A (en) * | 1972-11-17 | 1976-12-28 | Lea-Ronal, Inc. | Electrodeposition of tin, lead and tin-lead alloys |
| JPS4993235A (en) * | 1973-01-10 | 1974-09-05 | ||
| US3850765A (en) * | 1973-05-21 | 1974-11-26 | Oxy Metal Finishing Corp | Bright solder plating |
| GB1469547A (en) * | 1973-06-28 | 1977-04-06 | Minnesota Mining & Mfg | Tin/lead electr-plating baths |
| SE390986B (en) * | 1973-10-18 | 1977-01-31 | Modo Kemi Ab | PROCEDURE FOR ELECTROPLETING AW COATINGS OF IGNITION OR IGNITION ALLOY UNIT OF AN ACID ELECTROLYTE BATH |
| US3956123A (en) * | 1974-02-19 | 1976-05-11 | R. O. Hull & Company, Inc. | Additive for electrodeposition of bright tin and tin-lead alloy |
| US3875029A (en) * | 1974-02-19 | 1975-04-01 | R O Hull & Company Inc | Plating bath for electrodeposition of bright tin and tin-lead alloy |
| US3977949A (en) * | 1975-07-07 | 1976-08-31 | Columbia Chemical Corporation | Acidic plating bath and additives for electrodeposition of bright tin |
| US4135991A (en) * | 1977-08-12 | 1979-01-23 | R. O. Hull & Company, Inc. | Bath and method for electroplating tin and/or lead |
| US4139425A (en) * | 1978-04-05 | 1979-02-13 | R. O. Hull & Company, Inc. | Composition, plating bath, and method for electroplating tin and/or lead |
| GB1567235A (en) * | 1978-05-15 | 1980-05-14 | Pmd Chemicals Ltd | Electrodeposition of tin or tin/lead alloys |
-
1982
- 1982-07-29 SE SE8204505A patent/SE8204505L/en not_active Application Discontinuation
- 1982-08-03 DE DE19823228911 patent/DE3228911A1/en active Granted
- 1982-08-17 NL NL8203230A patent/NL8203230A/en not_active Application Discontinuation
- 1982-08-18 IT IT49001/82A patent/IT1189337B/en active
- 1982-08-25 JP JP57147498A patent/JPS5842786A/en active Granted
- 1982-09-03 BR BR8205180A patent/BR8205180A/en not_active IP Right Cessation
- 1982-09-06 FR FR8215125A patent/FR2512466B1/en not_active Expired
- 1982-09-07 GB GB08225406A patent/GB2105370B/en not_active Expired
- 1982-09-07 BE BE0/208965A patent/BE894329A/en not_active IP Right Cessation
- 1982-09-07 ES ES515543A patent/ES515543A0/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES8308367A1 (en) | 1983-08-16 |
| BR8205180A (en) | 1983-09-06 |
| FR2512466A1 (en) | 1983-03-11 |
| DE3228911A1 (en) | 1983-03-24 |
| IT1189337B (en) | 1988-02-04 |
| IT8249001A0 (en) | 1982-08-18 |
| BE894329A (en) | 1983-03-07 |
| DE3228911C2 (en) | 1988-02-04 |
| GB2105370A (en) | 1983-03-23 |
| SE8204505D0 (en) | 1982-07-29 |
| ES515543A0 (en) | 1983-08-16 |
| GB2105370B (en) | 1985-05-01 |
| JPH0213036B2 (en) | 1990-04-03 |
| IT8249001A1 (en) | 1984-02-18 |
| SE8204505L (en) | 1983-03-09 |
| FR2512466B1 (en) | 1987-06-26 |
| JPS5842786A (en) | 1983-03-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3785939A (en) | Tin/lead plating bath and method | |
| JP5048003B2 (en) | Tin plating | |
| JP4249438B2 (en) | Pyrophosphate bath for copper-tin alloy plating | |
| US20030159938A1 (en) | Electroplating solution containing organic acid complexing agent | |
| CA1115654A (en) | Bright tin-lead alloy plating | |
| KR101593475B1 (en) | Electrolytic tin plating solution and electrolytic tin plating method | |
| US4347107A (en) | Electroplating tin and tin alloys and baths therefor | |
| US20030226759A1 (en) | Limiting the loss of tin through oxidation in tin or tin alloy electroplating bath solutions | |
| US4118289A (en) | Tin/lead plating bath and method | |
| US4072582A (en) | Aqueous acid plating bath and additives for producing bright electrodeposits of tin | |
| US20040149587A1 (en) | Electroplating solution containing organic acid complexing agent | |
| US4885064A (en) | Additive composition, plating bath and method for electroplating tin and/or lead | |
| CN115522238B (en) | Cyanide-free gold electroplating solution of sodium gold sulfite and electroplating process thereof | |
| US3977949A (en) | Acidic plating bath and additives for electrodeposition of bright tin | |
| NL8203230A (en) | ELECTROLYTIC DEPOSITION OF TIN / LEAD ALLOYS. | |
| JP3217259B2 (en) | Brightener for high current density tin plating and tin plating bath with excellent high current density electrolytic properties | |
| US4381228A (en) | Process and composition for the electrodeposition of tin and tin alloys | |
| US11643742B2 (en) | Silver/tin electroplating bath and method of using the same | |
| US3850765A (en) | Bright solder plating | |
| US20020170828A1 (en) | Electroplating composition and process | |
| US4844780A (en) | Brightener and aqueous plating bath for tin and/or lead | |
| WO1993018211A1 (en) | Cyanide-free copper plating bath and process | |
| US6342148B1 (en) | Tin electroplating bath | |
| US4417957A (en) | Aqueous acid plating bath and brightener mixture for producing semibright to bright electrodeposits of tin | |
| US4207148A (en) | Electroplating bath for the electrodeposition of tin and tin/cadmium deposits |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A85 | Still pending on 85-01-01 | ||
| CNR | Transfer of rights (patent application after its laying open for public inspection) |
Free format text: OMI INTERNATIONAL CORPORATION |
|
| BA | A request for search or an international-type search has been filed | ||
| BB | A search report has been drawn up | ||
| BC | A request for examination has been filed | ||
| BV | The patent application has lapsed |