NL8103455A

NL8103455A - LITHOGRAPHIC SHEET, METHOD FOR MANUFACTURING IT, AND METHOD FOR INCREASING A REACTIVITY OF A SENSITIVE DIAZO CONNECTION.

Info

Publication number: NL8103455A
Application number: NL8103455A
Authority: NL
Original assignee: Polychrome Corp
Priority date: 1980-07-28
Filing date: 1981-07-21
Publication date: 1982-02-16
Also published as: IT8148940A1; JPS6356531B2; DE3129501A1; FR2487534A1; IT8148940A0; JPS57118239A; AU7312181A; DK335681A; GB2080964A; IT1171405B; SE8104565L; GB2080964B; AU544060B2

Description

—,—~n*· - rr%^^.lirr«^^»rb«i«8B*»»Mfca^^^3BM»g»tt*i^gaaa^aageMW1tr-r--r· ι ·ττ-*ι»«·»-> .τ··^··-γ-Ί ' "fMi r,n itm .ii-iiTHiW-, - ~ n * · - rr% ^^. Lirr «^^» rb «i« 8B * »» Mfca ^^^ 3BM »g» tt * i ^ gaaa ^ aageMW1tr-r - r · ι · ττ - * ι »« · »-> .τ ·· ^ ·· -γ-Ί '" fMi r, n itm .ii-iiTHiW

h& f * i VO 2137 -1-h & f * i VO 2137 -1-

Lithograf is che plaat, werkwijze voor het vervaardigen daarvan, alsmede methode cm een reactiviteit van een lichtgevoelige diazoverbinding te vergrotenLithograph is plate, method of making it, as well as method of increasing a reactivity of a photosensitive diazo compound

De uitvinding heeft betrekking op een verbeterde lithografische plaat voor belichting door projectie. Meer in het bijzonder heeft de uitvinding betrekking op een lithografische plaat, die een drager bevat met een metaaloppervlak en een daarop liggende bekleding die 5 een diazoverbinding bevat, die is voorbehandeld cm haar reactiviteit in aanwezigheid van licht te vergroten.The invention relates to an improved lithographic plate for projection exposure. More particularly, the invention relates to a lithographic plate containing a support with a metal surface and an overlying coating containing a diazo compound which has been pretreated to enhance its reactivity in the presence of light.

Zoals bekend in de lithografie wordt een dragermateriaal, zoals, een met een beschermlaag beklede metalen plaat, bekleed, met eèn sensibiliserende of lichtgevoelige laag die een diazoverbinding4 bevat.As is known in the lithography, a support material, such as, a protective sheet coated metal plate, is coated with a sensitizing or photosensitive layer containing a diazo compound4.

10 Wanneer de verkregen lichtgevoelige plaat via een doorzichtsorigineel of een middel voor het selectief doorlaten van licht wordt belicht met een geschikte lichtbron, worden beeidgebieden en niet-beeldgebieden gevormd. Vervolgens wordt de plaat ontwikkeld ter verkrijging van oleofiele inktaannemende gebieden en hydrofiele water aannemende 15 gebieden, zodat de plaat in een lithografische drukpers kan worden gebruikt.When the obtained photosensitive plate is exposed to a suitable light source via a translucent original or a selective light transmission means, image areas and non-image areas are formed. Then, the plate is developed to obtain oleophilic ink-accepting areas and hydrophilic water-accepting areas, so that the plate can be used in a lithographic printing press.

Een nadeel van de in de handel verkrijgbare lithografische drukplaten is dat zij niet de tamelijk hoge beliehtingsgevoeligheid hebben die nodig is om hetzij doelmatig of economisch een beeld op dergelijke 20. drukplaten te vormen door projectiebelichting. Bovendien zal ieder aldus vervaardigd beeld verloren gaan na een aantal honderden of minder afdrukken.A drawback of the commercially available lithographic printing plates is that they do not have the relatively high exposure sensitivity required to image such printing plates efficiently or economically by projection exposure. In addition, any image so produced will be lost after several hundred or fewer prints.

Een doel van de uitvinding is om de hierboven besproken nadelen op te heffen, waardoor doelmatig gebruik kan worden gemaakt van 25 projectiebelichting voor het vormen van een beeld op lithografische drukplaten met een bovenliggende laag die een diazoverbinding bevat, zonder de overige wenselijke eigenschappen van de drukplaat nadelig te beïnvloeden.An object of the invention is to overcome the drawbacks discussed above, making effective use of projection exposure to image lithographic printing plates with an overlay containing a diazo compound, without the other desirable properties of the printing plate adversely affect.

De uitvinding berust op de vondst hoe de diazoverbinding van de 30 lithografische drukplaat te modificeren, ten einde de relatieve beliehtingsgevoeligheid ervan te verbeteren, waardoor dan weer een duurzame beeldvorming kan worden verkregen met een gebruikelijke projectie- 8103455 $ ‘ :-¾ . .- - . , . . -2-belichting.The invention is based on the discovery of how to modify the diazo compound of the lithographic printing plate, in order to improve its relative exposure sensitivity, which in turn provides durable imaging with a conventional projection. .- -. ,. . -2 exposure.

Een .essentieel kenmerk van de onderhavige uitvinding was de vondst,, dat er een verhand bestond tussen de relatieve belichtingsgevoeligheid van een diazoverbinding en. haar ontledingsgraad. Meer in het bijzonder 5 wordt de diazoverbinding gemodificeerd ter vergroting van.haar reactiviteit in aanwezigheid van aktinisch licht.An essential feature of the present invention was the finding that there was a relationship between the relative exposure sensitivity of a diazo compound and. its decomposition rate. More specifically, the diazo compound is modified to increase its reactivity in the presence of actinic light.

De mate-van ontleding van de diazoverbinding , ten einde de gewenste verbetering van haar relatieve belichting sgevoeligheid te verkrijgen, kan zowel worden bepaald als geregeld via spectrofotaae-10 trische analyse.. Er is bij voorbeeld gevonden, dat voor bepaalde, doeleinden van deze uitvinding het regelingspunt is gebaseerd op de relatieve spectofotcmetrische piekverhouding, bepaald bij 375 en 650 nm.The degree of decomposition of the diazo compound, in order to obtain the desired improvement in its relative exposure sensitivity, can be both determined and controlled by spectrophotometric analysis. For example, it has been found that for certain purposes of this invention the control point is based on the relative spectrophotometric peak ratio, determined at 375 and 650 nm.

Een lithografische drukplaat volgens de uitvinding cravat een metalen vel of plaat, waarvan tenminste een oppervlak is bekleed met 15 een voor belichting gevoelige laag, die een diazoverbinding bevat, welke is genodificeerd ten einde haar reactiviteit ten opzichte van een lichtbron, afkomstig van projectiebelichting te vergroten.A lithographic printing plate according to the invention embraces a metal sheet or plate, at least one surface of which is coated with an exposure-sensitive layer, containing a diazo compound, which has been modified in order to increase its reactivity to a light source from projection exposure .

Gebruikelijke drag er lichamen kunnen volgens de uitvinding worden gebruikt.. De voorkeur gaat uit naar een metalen of van een 20 metaaloppervlak voorziene plaat, zoals gewoonlijk gebruikt bijlütho-grafisch drukken. Aluminium en...zink zijn twee van de meest bij voorkeur gebruikte platen. Het is duidelijk dat de platen een speciale behandeling hebben kunnen ondergaan of kunnen zijn voorzien van tussen-bekledingslagen of barriIrelagen, zoals bekend in. dit vakgebied.Conventional drag bodies can be used in accordance with the invention. Preferred is a metal or metal surface plate, as conventionally used in lithographic printing. Aluminum and ... zinc are two of the most preferred plates. It is clear that the plates may have undergone special treatment or may be provided with intermediate coatings or barrier layers, as known in. this field.

25 In het geval van aluminium bij voorbeeld is het dikwijls nuttig cm het oppervlak daarvan chaaisch of elektrisch te anodiseren. Het metaaloppervlak kan ook van een silicaatbekleding zijn voorzien. .In the case of aluminum, for example, it is often useful to chaos or electrically anodize its surface. The metal surface can also be provided with a silicate coating. .

Volgens de uitvinding kan een van de in dit vakgebied bekende ' lichtgevoelige diazoverbindingen worden gebruikt. Een methode voor 30 het bereiden van een zeer geschikte diazoverbinding is beschreven in de Amerikaanse octrooischriften 2.679*^98 en 2.063.631. Deze verbinding is een condensatieprodukt van paraformaldehyde1 met p-diazodifenyl- aminesulfaat. Diazoverbindingen zijn ook beschreven in het Amerikaanse octrooi schrift 2.667.^15, dat samen met de eerder genoemde octrooi- 35 . . . . .According to the invention, one of the photosensitive diazo compounds known in the art can be used. A method for preparing a very suitable diazo compound is described in U.S. Pat. Nos. 2,679,998 and 2,063,631. This compound is a condensation product of paraformaldehyde with p-diazodiphenylamine sulfate. Diazo compounds are also described in U.S. Patent 2,667,15, which together with the aforementioned patent. . . . .

schriften en de aldus beschreven diazoverbindingen door deze verwijzing hierin is opgencmen. 3ij belichting met licht, zoals ultraviolet licht, stoten de lichtgevoelige, diazoverbindingen stikstof uit het molecule.and the diazo compounds thus described are incorporated herein by this reference. When exposed to light, such as ultraviolet light, the photosensitive diazo compounds emit nitrogen from the molecule.

8103455 ^ s -3- en vormen zij een in -water onoplosbaar, hydrofoob- en oleofiel materiaal, dat later het drukbeeld -wordt. De onbelichte delen van de verbinding worden met bekende ontwikkeloplossingen gemakkelijk weggewassen.They form a water-insoluble, hydrophobic and oleophilic material, which later becomes the print image. The unexposed parts of the compound are easily washed away with known development solutions.

Andere voorbeelden van geschikte diazcverbindingen zijn beschreven in dé Amerikaanse oetroorschriften 2.692.827 , 2.Jlk.066, 2.773.779, 5 2.770.735, 2.958.599 en 3.030.210. De volgende specifieke voorbeelden van diazoverbindingen kannen ter toelichting worden genoemd: p-diazo-dif enylamine, l^diazo-e-mathoxydifenylamine, U-diazo-2,5-dimethoxy-V-methyldif enylsulfide, 4-diazo-2,5-diethoxy-41 -methyldif enylsulfide, U-diazodifenylether, enz.Other examples of suitable diazo compounds are described in U.S. Pat. Nos. 2,692,827, 2,140,066, 2,773,779, 2,770,735, 2,958,599 and 3,030,210. The following specific examples of diazo compounds may be exemplified: p-diazo-diphenylamine, 1-diazo-e-mathoxydiphenylamine, U-diazo-2,5-dimethoxy-V-methyl diphenyl sulfide, 4-diazo-2,5- diethoxy-41-methyl diphenyl sulfide, U-diazodiphenyl ether, etc.

10 De diazoverbinding kan worden gestabiliseerd door bekende methodes, die cmvatten de omzetting van de diazoverbinding met. sulfonzuur of derivaten; het condenseren van de diazoverbinding met een aldehyde, zoals formaldehyde; het complex eren van de diazoverbinding met metaalzouten, zoals zinkhalogenide of boortrifluoriden, tin(IV)chloride, 15 natriumchloride, aluminiumchloride, enz.The diazo compound can be stabilized by known methods, which include conversion of the diazo compound with. sulfonic acid or derivatives; condensing the diazo compound with an aldehyde such as formaldehyde; complexing the diazo compound with metal salts, such as zinc halide or boron trifluorides, tin (IV) chloride, sodium chloride, aluminum chloride, etc.

De diazoverbinding kan in de vorm van een dispersie of oplossing door dompelen, sproeien, rolopbrenging, borstelen of volgens andere gebruikelijke technieken worden aangebracht op de drager.The diazo compound may be applied to the carrier in the form of a dispersion or solution by dipping, spraying, roll application, brushing or other conventional techniques.

Zoals eerder gezegd bestaat het essentiële kenmerk van de 20 uitvinding erin, de diazoverbinding of derivaten daarvan. v66r de belichting en bij voorkeur v66r het gieten op de drager op zodanige wijze voor te behandelen, dat de relatief hoge belichtingsgevoeligheid daarvan in die mate wordt verbeterd, dat die verbinding of dat derivaat zowel doelmatig als economisch kan worden gebruikt om door middel van 25 projectiebeliehting een beeld te vormen op een drukplaat,As stated earlier, the essential feature of the invention is the diazo compound or derivatives thereof. pre-treat before exposure and preferably before casting onto the support in such a way that their relatively high exposure sensitivity is improved to such an extent that that compound or derivative can be used both efficiently and economically to be projection exposed to form an image on a printing plate,

De voorbehandeling van de diazoverbinding is zodanig, dat haar reactiviteit ten opzichte van licht wordt vergroot. Voorverwarming van de diazoverbinding of een derivaat daarvan is êén van de voorkeursmethoden cm de relatieve belichtingsgevoeligheid te verbeteren. In het 30 algemeen kan de verwarming worden uitgevoerd bij een temperatuur boven 30°C en bij voorkeur in het gebied van ongeveer éO-120°C. De ver-warmingstijd zal uiteraard variëren, afhankelijk van de toegepaste temperatuur. Die tijdsduur zal van ongeveer 1 tot 150 uur bedragen, in het algemeen van 2-βθ uur en bij voorkeur van ongeveer U tot 40 uur.The pre-treatment of the diazo compound is such that its reactivity to light is increased. Preheating the diazo compound or a derivative thereof is one of the preferred methods to improve the relative exposure sensitivity. Generally, the heating can be performed at a temperature above 30 ° C and preferably in the range of about 100-120 ° C. The heating time will of course vary depending on the temperature used. That time will be from about 1 to 150 hours, generally from 2-βθ hours, and preferably from about U to 40 hours.

35 Volgens de voorkeursuitvoering van de uitvinding wordt de diazoverbinding in de vorm van een oplossing of een dispersie verwarmd alvorens 8103455 9 C ' . . ' . . — ..... "" ” ' " ' - . , op de metalen plaat te worden aangebracht. Het is evenwel mogelijk cm ; de verwarmingstrap uit te voeren, nadat de diazoverbinding of het derivaat daarvan op de plaat is aangebracht.According to the preferred embodiment of the invention, the diazo compound is heated in the form of a solution or a dispersion before 8103455 ° C. . ". . - ..... "" "" "" -., To be applied to the metal plate. However, it is possible to carry out the heating step after the diazo compound or its derivative has been applied to the plate.

Zoals hierboven gezegd, kan de mate van ontleding, die moet 5 worden bereikt ten einde de relatieve belichtingsgevoeligheid van de diazoccmponent te verbeteren, door spectrofotometrische analyse worden geregeld. Het regelpunt is gebaseerd op de relatieve spectro-fotcmetrische piekverhouding, gemeten bij 375 en 650 nm. De mate van ontleding wordt garieten door het absorptiegebied bij 650 nm. Het traject 10 voor een 1#'s oplossing in methylcellosolve is als volgt:As stated above, the degree of decomposition which must be achieved in order to improve the relative exposure sensitivity of the diazo component can be controlled by spectrophotometric analysis. The control point is based on the relative spectrophotometric peak ratio, measured at 375 and 650 nm. The decomposition rate is guaranteed through the absorbance range at 650 nm. The range 10 for a 1 # 's solution in methylcellosolve is as follows:

Voorbehandelingscmstandighedén Absorptie. 650 nm onverwarmde diazo 0,20 60°C-8 uur 0,^3 60°C-20 uur' 0,½ 15 60°C-h0 uur 1,20 70°C-1|· uur 0 ,56 70°C-8 uur 0,97 70°C-20 uur 1,80 Hét optimale traject voor de geschiktheid van de plaat wordt hierboven 20 gereflecteerd door absorptiewaarden van 0,90-2,00. Bij 375 nm en eveneens een 1%'s oplossing in methylcellosolve, is de optimale absorptie-waarde gelegen in het traject van Ö,t0-0,80, bij voorkeur van 0,69-0,79.Pre-treatment conditions Absorption. 650 nm unheated diazo 0.20 60 ° C-8 hours 0, ^ 3 60 ° C-20 hours 0, ½ 15 60 ° C-h0 hours 1.20 70 ° C-1 | hours 0, 56 70 ° C-8 hours 0.97 70 ° C-20 hours 1.80 The optimum range for plate suitability is reflected above by absorbance values of 0.90-2.00. At 375 nm and also a 1% solution in methyl cellosolve, the optimal absorption value is in the range of 0.08-0.80, preferably 0.69-0.79.

Ofschoon de voorkeursmethoden cm de diazoccmponenten te activeren een aparte verwarmingstrap, welke hieronder meer uitvoerig zal worden 25 toegelicht, kan ook met succes gebruik worden gemaakt van andere voorbehandelingen, welke de ontleding van die component zullen versnellen.Although the preferred methods for activating the diazo components in a separate heating step, which will be explained in more detail below, other pretreatments which will accelerate the decomposition of that component may also be successfully utilized.

Aldus kan de voorbehandeling van de diazoverbinding bij voorbeeld worden uitgevoerd met ultraviolette stralen, laserstralen, elektronenbundels, diepe-ultravioletstralen (minder dan 300 nm) en X-stralen.Thus, for example, the pre-treatment of the diazo compound can be carried out with ultraviolet rays, laser rays, electron beams, deep ultraviolet rays (less than 300 nm) and X rays.

30 Ofschoon het juiste mechanisme dat aan. het vergroten van de reactiviteit van. de diazoverbinding of het derivaat daarvan ten . grondslag ligt, niet helemaal duidelijk, wordt verondersteld dat' de diazoverbinding en tijdens de voorbehandelingen koppelen ter vozming. van actieve azopolymeren. Deze azopolymeren blijken inherent meer 35 gevoelig te zijn voor ultraviolette straling tijdens de belichting.30 Although the correct mechanism does. increasing the reactivity of. the diazo compound or its derivative. underlying, not entirely clear, it is believed that the diazo compound and during the pretreatments couple to form. of active azopolymers. These azopolymers are inherently more sensitive to ultraviolet radiation during exposure.

8103455 - -5- * ' van de beelden.8103455 - -5- * 'of the images.

Het lithografische plaatprodukt tan worden gebruikt in eenheden voor projectiebeeldvorming, die worden .gebruikt door bedrijven die drukwerk van groot formaat en lijnwerk verzorgen* waar normaal grote 5 hoeveelheden offsetdrukplaten worden gebruikt. Zoals aan de vakman bekend hébben normale gepresensibiliseerde drukplaten met een standaard-UV-gevoeligheid bij een 35 ma, 8,5 maal vergroting door projectie • een lange belichtingstijd nodig van ongeveer 30-60 seconden. Dit leidt tot een lage volumecapaciteit van plaatproduktie en tot geringe 10 kostenbesparing voor dit drukconcept. Door gepresensibiliseerde platen met betere gevoeligheid te gebruiken, zoals volgens de uitvinding, worden de belichtingstijden verminderd tot 3-8 seconden. De commerciële aantrekkelijkheid van het microfUmprojectiesysteon. wordt daardoor verbeterd. Bovendien worden een hoge plaatproduktiecapaciteit 15 en een geschikte kostenbesparing ten opzichte van het gebruikelijke systeem bereikt. De uitvinding zal nader worden toegelicht aan de hand van de volgende voorbeelden.The lithographic plate products tan are used in projection imaging units used by companies providing large format printing and line work * where normally large amounts of offset printing plates are used. As known to those skilled in the art, normal pre-sensitized printing plates with standard UV sensitivity at 35 ma, 8.5 times magnification by projection • require a long exposure time of about 30-60 seconds. This leads to a low volume capacity of plate production and to little cost savings for this printing concept. By using presensitized plates with better sensitivity, such as according to the invention, the exposure times are reduced to 3-8 seconds. The commercial appeal of the microfum projection system. is thereby improved. In addition, a high plate production capacity and a suitable cost saving compared to the conventional system are achieved. The invention will be further elucidated by means of the following examples.

Voorbeeld IExample I

Een gebruikelijke bekledingsoplossing werd bereid uit de volgende ingrediënten: 20 Basisbekledingsoplossing GewichtsdelenA conventional coating solution was prepared from the following ingredients: Base coating solution Parts by weight

Epon 5*0 polyurethanhars k,0 H3P<\ 0,02 basisch blauw kleurstof 0,20 25 ethyleendichloride if-3,0 methanol 30,0 methylcellosolve 19,08 E|pon 1007 F is een produkt van Shell Chemical Co. bestaande uit fencccyharsen, nl. polyhydraxyethers als beschreven in het imerikaan-30 se octrooisehrift 3.091.533, waarvan de inhoud door deze verwijding hierin is opgencmen. De polyurethanhars die hier kan worden gebruikt is in de handel verkrijgbaar als DV-532 van Polychrone Corporation.Epon 5 * 0 polyurethane resin k, 0 H3P <\ 0.02 basic blue dye 0.20 25 ethylene dichloride if-3.0 methanol 30.0 methyl cellosolve 19.08 E | pon 1007 F is a product of Shell Chemical Co. consisting of phenyl resins, i.e., polyhydraxy ethers as described in U.S. Patent 3,091,533, the contents of which are incorporated herein by this expansion. The polyurethane resin that can be used here is commercially available as DV-532 from Polychrone Corporation.

Er wordt voorts opgemerkt, dat geen van de hierboven genoemde ingrediënten kritisch is voor de onderhavige uitvinding en dat zij door 8103455 s . o ' ' . ' · ’ . —— -,-- - - - équivalente in de techniek tekende, materialen kunnen worden vervangen.It is further noted that none of the above-mentioned ingredients are critical to the present invention and that they are by 8103455 s. o ''. "·". —— -, - - - Equivalent in the art, materials can be replaced.

DiazoeanrponentSlide component

Een lichtgevoelige component werd bereid door 1 g p-diazodif enyl-5 aminecondensatieprodukt van formaldehyde cm te zetten met 1,2 g 2-ethcccy-^-methoxyhenzofenon-5-sulfonzuur door de heide verbindingen als een 5/J's oplossing op te lossen in gedestilleerd water, 10 minuten te roeren en de reactiecanponenten als in water onoplosbare nevenprodukten af te filtreren.A photosensitive component was prepared by putting 1 g of p-diazodiphenyl-5 amine condensation product of formaldehyde with 1.2 g of 2-ethyl acetone-methoxyhenzophenone-5-sulfonic acid by dissolving the heather compounds as a 5 / J's solution in distilled water, stirring for 10 minutes and filtering off the reaction components as water-insoluble by-products.

10 Proef A10 Trial A

De helft van de hierboven verkregen basisbekledingsoplossing. werd gemengd..met T gew.dl van de lichtgevoelige diazoccmponent, bereid als hierboven beschreven, ter vorming van de bekledingsoplossing A.Half of the basic coating solution obtained above. was mixed with T parts by weight of the photosensitive diazo component prepared as described above to form the coating solution A.

15 Proef B15 Trial B

De helft van de hierboven verkregen basisbekledingsoplossing werd gemengd metl gew.dl van de lichtgevoelige diazoccmponent, die was voorbehandeld door apart verwannen in een droge-luchtoven bij 60°C gedurende 30 uur, ter voiming van de bekledingsoplossing B.Half of the basic coating solution obtained above was mixed with 1 part by weight of the photosensitive diazo component, which had been pretreated by individual heating in a dry air oven at 60 ° C for 30 hours, to form the coating solution B.

20 De bekledings oplos singen A en B werden apart aangebracht op lithografisch, geschikte substraten van aluminiummetaal, die met puimsteen waren gekorreld, in zwavelzuur waren geanodiseerd met gelijkstroom, en vervolgens met een 5#'s oplossing van een natrium-silicaat waren behandeld gedurende 2 minuten bij 82°C.The coating solutions A and B were separately applied to lithographic, suitable aluminum metal substrates, which were granulated with pumice, anodized in sulfuric acid with direct current, and then treated with a 5 # solution of a sodium silicate for 2 minutes at 82 ° C.

25· De verkregen lithografische platen werden belicht bij een ver groting van 6 maal gedurende 10 seconden in een projectiebelichtings-eenheid, die een 1 kW kwikültraviolet lichtbron cmvat.The resulting lithographic plates were exposed at a magnification of 6 times for 10 seconds in a projection exposure unit containing a 1 kW mercury-violet light source.

De plaat met de bekledingsoplossing A gaf een GAFT 21 gevoeligheids aflezing van Vast 1, Staart 3, hetgeen wijst op een onjuiste 30 belichting. Daarentegen gaf de plaat met de bekledingsoplossing B een aflezing van Vast k, Staart 8, hetgeen wijst op een aanvaardbare belichting. Wanneer de twee platen bovendien in een of f s et drukpers werden geplaatst, vertoonde de plaat met de bekledingsoplossing A reeds na 200 afdrukken een verdwijning van het beeldgebied. Met de 35 plaat met de bekledingsoplossing B werden daarentegen 10.000 aanvaardbare afdrukken verkregen.The plating solution plate A gave a GAFT 21 sensitivity reading from Fixed 1, Tail 3, indicating an incorrect exposure. In contrast, the plate with the coating solution B gave a reading of Solid k, Tail 8, indicating acceptable exposure. Moreover, when the two plates were placed in one or the printing press, the plate with the coating solution A already disappeared from the image area after 200 prints. In contrast, 10,000 acceptable prints were obtained with the plate containing the coating solution B.

Voorbeeld IIExample II

De lichtgevoelige diazocomponent, bereid als beschreven in 8103455 ~~ -τ- ~ • ' voorbeeld Is werd blootgesteld aan de inwerking van een metaal- halogenide-ultraviolette energiebron gedurende een totale stealings- 2 energie van 2-16 mj/cm .The photosensitive diazo component, prepared as described in 8103455 ~-τ ~ ~ voorbeeld voorbeeld voorbeeld Is Is Is werd was exposed to the action of a metal halide ultraviolet energy source for a total radiant energy of 2-16 mj / cm.

Eet procédé van voorbeeld I, proef B, werd dan gevolgd, 5 behalve dat een equivalente hoeveelheid van de met ultraviolet voorbehandelde diazoccmponent, als hierboven bereid, werd gebruikt in plaats van de met warmte behandelde diazoccmponent. De beeldonder-zoekresultaten verkregen met de bekledingsoplossing van dit voorbeeld II waren vergelijkbaar met die verkregen in voorbeeld I, proef B.The procedure of Example I, Run B, was then followed, except that an equivalent amount of the ultraviolet-treated diazo component as prepared above was used in place of the heat-treated diazo component. The image sub-search results obtained with the coating solution of this Example II were similar to those obtained in Example I, Run B.

10 Voorbeeld IIIExample III

De lichtgevoelige diazoccmponent-, bereid volgens het procédé beschreven in voorbeeld I, werd onderworpen aan een elektronenbundel- —8 energiebron van 25 KV-versnellings spanning, 1-0~ amp bundelstrocm bij een aftasttijd van 0,2-2,0 seconden voor een 10 x 10 mm gebied 15 van het monster. Dit resulteerde in een absorptiewaarde bij 650 nm van 0,9 tot 1,8 .bij spectrofotanetrische analyse.The photosensitive diazo component prepared according to the process described in Example 1 was subjected to an electron beam energy source of 25 KV accelerating voltage, 1-0 amp beam current at a scanning time of 0.2-2.0 seconds for a 10 x 10 mm area 15 of the sample. This resulted in an absorbance value at 650 nm from 0.9 to 1.8 in spectrophotanetric analysis.

Het procédé van voorbeeld I, proef B werd dan gevolgd, behalve dat een equivalente hoeveelheid van de met elektronenbundel voorbehandelde diazoccmponent, als hierboven bereid, werd gebruikt in plaats 20 van de met warmte behandelde diazoccmponent. De beeldonderzoek- resultaten verkregen met de bekledingsoplossing van dit voorbeeld II waren vergelijkbaar met die verkregen in voorbeeld I, proef B.The procedure of Example I, Run B was then followed except that an equivalent amount of the electron beam pretreated diazo component, as prepared above, was used in place of the heat treated diazo component. The image examination results obtained with the coating solution of this Example II were similar to those obtained in Example I, Test B.

Voorbeeld IVExample IV

Het procédé van voorbeeld I werd gevolgd, behalve dat 1 g 25 ^-diazo-2,5-diëthaxy-4r-methyldifenylsulfidecondensatieprodukt van fonnaldehyde werd omgezet met 1 g tolueensulfonzuur ter verkrijging van de lichtgevoelige diazoccmponent. Wanneer deze lichtgevoelige diazoccmponent werd behandeld als beschreven in voorbeeld I, proef B, werden analcge resultaten verkregen.The procedure of Example 1 was followed except that 1 g of 251-diazo-2,5-diethaxy-4-methyl diphenyl sulfide condensation product of formaldehyde was reacted with 1 g of toluenesulfonic acid to give the photosensitive diazo component. When this photosensitive diazo component was treated as described in Example I, Test B, analogue results were obtained.

30 Voorbeeld V30 Example V

Het procédé van voorbeeld I werd gevolgd, behalve dat de onderstaande basisbekledingsoplossing nr. 2 werd bereid en daarbij gebruikt: 8103455 . · ; ' . ' -8- \ · ~The procedure of Example I was followed, except that the following basic coating solution No. 2 was prepared using 8103455. ·; ". -8- \ ~

Basisbekledingsonlossing nr. 2 ' O'ewichtsdelen polyurethanhars (Estane 5715 van B.S. Goodrich Co.) 2,0 polyurethanhars (DV-530 van Polychrcme Corporation) 5 ,0 orasol blauw GN-kleurstof (van Ciba-Geigy Co.) 0,3 5 " ethylcellosolve 98,0Basecoat Solution No. 2 'O Weight Parts Polyurethane Resin (Estane 5715 from BS Goodrich Co.) 2.0 Polyurethane Resin (DV-530 from Polychrcme Corporation) 5.0 Orasol Blue GN Dye (from Ciba-Geigy Co.) 0.3 5 ethyl cellosolve 98.0

De verkregen resultaten waren equivalent aan die verkregen in voorbeeld I.The results obtained were equivalent to those obtained in Example I.

;Voorbeeld VIExample VI

Het procédé van voorbeeld I, proef B werd gevolgd, behalve, 10 dat de energiebronnen gebruikt cm de diazoccmponent voor te behandelen een argonlaser en diepe UV-aaissiebron van minder dan 300 nm waren, 'waarbij evenzeer bevredigende resultaten werden verkregen..The procedure of Example 1, Run B was followed except that the energy sources used to pre-treat the diazo component were an argon laser and deep UV source of source less than 300 nm, with equally satisfactory results being obtained.

Ofschoon de hierboven beschreven uitvoeringsvormen bepaalde aspecten van de onderhavige uitvinding toelichten, is het zonder 15 meer duidelijk dat de bekleding en de diazocamponenten evenals de diazovoorbehandeling kunnen variëren volgens de meer algemene leer van deze uitvinding.Although the embodiments described above illustrate certain aspects of the present invention, it is readily apparent that the coating and the diazo components as well as the diazo pretreatment may vary according to the more general teachings of this invention.

- 8103455- 8103455

Claims

1. Lithograph is a plate containing a support with a metal surface and a superimposed layer of a photosensitive diazo compound. characterized in that the diazo compound has an increased light reactivity, so that its relative exposure sensitivity is better »

Lithographic plate according to claim 1, characterized in that the diazo compound is preheated to a temperature above about 35 ° C to about 120 ° C for a period of time sufficient to increase its light reactivity properties. Lithographic plate according to claim 2, characterized in that the vanishing time is from about 2 to 60 hours. k. Lithographic plate according to claim 1, characterized in that the light reactivity properties of the diazo compound are enhanced by a pre-treatment with ultraviolet light. Lithographic plate according to claim 1, characterized in that the light reactivity properties of the diazo compound are increased by a pretreatment with a laser beam.

Lithographic plate according to claim 1, characterized in that the light reactivity properties of the diazo compound are increased by a pretreatment with an electron beam source.

Lithographic plate according to claim 1, characterized in that the light reactivity properties of the diazo compound are enhanced by a pre-treatment with a deep ultraviolet energy.

8. Lithographic plate containing a support with an aluminum surface and an overlaying layer of a diazo compound, which is reactive with light to obtain printing and non-printing regions, characterized in that the diazo compound is preheated at a temperature from above about 35 ° C to 120 ° C for about 1-150 hours, thereby enhancing the reactivity properties of the diazo compound so that its relative exposure sensitivity is improved.

Lithographic plate according to claim 8, characterized in that the diazo compound is p-diazodiphenylamine.

Lithographic plate according to claim 8, characterized in that the diazo compound is if-diazo-e-methoxydiphenylamine. 8103455.% · - / .. · »· -". *: - / ". -ιο- ιι. Lithographic plate according to claim 8, characterized in that: the diazoverhindiog is 4-diazo-2,5-dimethoxy-1-methyl diphenyl sulfide.

12. A method of manufacturing a lithographic plate by applying an overlying coating 5 of a diazo compound, which is reactive with light, to a printing surface with a metal surface, in order to obtain printing and non-printing areas, with the characteristic, that. the diazo compound is pretreated to finish. her . increase reactivity in the presence of light, thereby improving the relative exposure sensitivity of the diazo compound 10.

Method according to claim 12, characterized in that the metal surface is aluminum. Method according to claim 12, characterized in that the pretreatment comprises heating the diazo compound at a temperature of above about 35 ° C to 120 ° C for a period of time,. which is sufficient to increase its reactivity properties in the presence of light.

Method according to claim 11, characterized in that the heating time is about 2-60 hours.

A method for increasing the reactivity of a photosensitive diazo compound and improving its relative exposure sensitivity to light, characterized in that the diazo compound is heated at a temperature above about 35 ° C to 120 ° C for about 1 -150 hours before exposing the diazo compound to. .light. * 8103455