NL8001282A - Beeldversterker. - Google Patents

Description

m %

Beeldversterker.

De uitvinding heeft betrekking op beeldversterkerinrichtin-gen en in het bijzonder op beeldversterkerbuizen, beveiligd tegen de verstorend effekten van flitsen van helder licht.

Beeldversterkers worden gebruikt voor het leveren van een 5 helder, gemakkelijk zichtbaar beeld van zeer zwakke lichtbronnen en in het bijzonder voorwerpen, verlicht door zulke zwakke bronnen.

Op het slagveld bijvoorbeeld kunnen tegenwoordige beeldversterkers een "daglicht" beeld van een voorwerp leveren, waarvoor de uitsluitende verlichtingsbron sterrenlicht is. Een bijzonder soort van beeld-10 versterker is essentieel een vacuumbuis, afgesloten aan een einde door een ingangsvenster, inwendig bekleed met een foto-emissiemate-riaal (materiaal dat elektronen uitzendt bij belichting) en aan het andere einde afgesloten met een uitgangsvenster, inwendig bekleed met een fosformateriaal (materiaal dat licht uitzendt indien 15 getroffen door elektronen). Een zeer grote spanning of hoogspanning (HT) wordt aangebracht over de buis tussen de foto-emissielaag van het ingangsvenster (de kathode) en de fosforlaag van het uitgangsvenster (de anode) zodat in bedrijf elektronen, uitgezonden door de foto-emissielaagkathode bij verlichting worden aangetrokken (ge-20 schikt gefocusseerd) naar de fosforlaaganode, waar zij zorgen dat licht wordt uitgezonden en door het geschikt instellen van de verschillende parameters het licht, uitgezonden door de inrichting, veel helderder dan het zwakke licht waarmee het wordt belicht. Indien de lichtbron zeer zwak is, kunnen verschillende beeldversterkers 25 worden verenigd in een cascade, waarbij de uitgang van de ene de ingang van de volgende is totdat de uiteindelijke uitgang helder genoeg is.

Een uitvoeringsvorm van een beeldversterker van deze al- 8001282 ---- * * gemene soort is gedeeltelijk losgenomen en in doorsnede getekend in fig. 1, De beeldversterkerbuis is van de soort met enkele trap. Hij heeft een transparant ingangsvenster 1 van vezeloptische soort, afgesloten door middel van een glasfritafsluiting 2 tegen de mcsnteer-5 flens 3 van het kathodeingangsvenster. De monteerflens 3 wordt gedragen door een kathodehuis 4, waaraan elektrisch een getterscherm 5 is verbonden. Een keramische isolator 6 scheidt het kathodehuis 4 van.een anodehuis 7, dat een anodefocuskegelelektrode 8 draagt. Gemonteerd op een monteerflens 9 van het anodeuitgangsvenster is een 10 transparant uitgangsvenster 10 (ook van de vezeloptische soort) afgesloten op de monteerflens 9 door een andere glasfritafsluiting 11.

Bij het ingangseinde van de buis, gedragen door het ingangsvenster 1, is een foto-emissiekathodelaag 12 aangebracht met een metalen omtreksfotokathodecontactlaag 13, welke elektrisch con-15 tact maakt met de monteerflens 3, terwijl het uitgangseinde van de inrichting, gedragen door het uitgangsvenster 10, een luminescerend (fosfor) scherm 14 is met een aluminium ruglaag 15, elektrisch verenigd met de monteerflens 9.. In gebruik wordt een werkpotentiaalverschil gevormd tussen de kathode 4 en de anode 7 door middel van een 20 gelijkspanningsbron. (weergegeven bij 16).

Deze soort van beeldversterker heeft jammer genoeg een ernstig nadeel. Omdat hij zo gevoelig is, kan het effekt daarop van belichting met een helder licht, bijvoorbeeld de flits van een exploderende granaat, zeer nadelig zijn. Inderdaad kan de resulterende 25 stroom van elektronen binnen de .buis zorgen dat de gevoelige foto/ elektronengevoelige lagen worden verstoord door de hitte, welke wordt opgewekt door de inrichting als resultaat van de granaatflits en welke de inrichting moet afvoeren.

In de Nederlandse octrooiaanvragen 7904204 en 7903970 30 van aanvraagster zijn verschillende wijzen aangegeven van het beveiligen van een beeldversterkerbuis tegen dit flitsen. Bij de Nederlandse octrooiaanvrage 7904204 is een beeldversterker (met ten minste een trap) beschreven, waarvan het luminescerende scherm of de foto-kathode is ontkoppeld met betrekking tot de inwendige kapaciteiten 35 van de hoogspanningsvoedingsbron en er is opgemerkt, dat op geschikte wijze het luminescerende scherm wordt ontkoppeld, waarbij het 8001282 3 a & ontkoppelen een weerstandsontkoppeling is, uitgevoerd door een weerstand verbonden tussen het luminescerende scherm en het uitgangspunt van de hoogspanningsbron, waarbij de waarde van de weerstand zo is dat een tijdconstante wordt gevormd met de kapaciteit. bij dat hoog-5 spanningsbronuitgangspunt, welke vele malen groter is dan de duur van een typische flits van hoge energie, welke zeer waarschijnlijk optreedt in bedrijf (ofschoon de waarde van de weerstand niet zo groot moet zijn dat ernstig verlies van uitgangsspanning wordt veroorzaakt bij de orde van fotostromen gebruikt gedurende normaal bedrijf). Er 10 is gezegd, dat de waarde.van de weerstand typerend is gelegen in het gebied 100ΜΩ tot 1ΜΩ en dat waar de beeldversterkerinrichting met een aantal trappen is, de waarde van een ontkoppelingsweerstand gebruikt nabij het ingangseinde van de beeldversterker, groter zal zijn dan de waarde van een ontkoppelingsweerstand gebruikt dichter nabij 15 het uitgangseinde.

'De uitvinding betreft een wijziging van de uitvinding uit bovengenoemde Nederlandse, octrooiaanvrage 7904204.

Volgens een aspekt omvat de uitvinding een beeldversterker van de beschreven soort, waarbij ten minste een van zijn twee foto-20 lagen (het luminescerende scherm en de fotokathode) een weerstandsontkoppeling heeft met betrekking tot de hoogspanningsvoedingsbron verbonden (in bedrijf) over het anodehuis en het kathodehuis, waarbij de weerstandsontkoppeling wordt uitgevoerd door een weerstand verbonden tussen de fotolaag en het betreffende elektrodehuis, ter-25 wijl deze weerstand bestaat uit een gegleufde ringvormige laag van weerstandsmateriaal geplaatst rond de omtrek van de fotolaag en deze scheidend van zijn elektrodemonteerflens, terwijl de gleuven in de ringvormige weerstandslaag zich uitstrekken in radiale zin en zijn gevuld met een materiaal van minder weerstand, aangrenzend aan en 30 elektrisch verbonden met de fotolaag en zijn elektrodemonteerflens.

Het flitsbeveiligingseffekt van de beeldversterker volgens de uitvinding werkt op een wijze enigszins lijkend op die van de beeldversterkers van de bovengenoemde Nederlandse octrooiaanvrage 7904204. Aldus is het primaire effekt van de weerstand tussen de 35 fotolaag en het.elektrodehuis het absorberen van een deel van de energie opgeslagen in de interelektrode- en strooikapaciteiten van de 8001282 4 V ί beeldversterker. Er is echter ook een secundair effekt, dat dient voor. het afsnijden van de elektronenstroom door gelocaliseerde vervorming van het elektrostatische veld binnen de beeldversterker.

Met betrekking tot het eerste effekt vormt de weerstands-5 aard van de elektrische verbinding tussen de fotolaag en zijn elek-trodehuis een belangrijke grens betreffende de mate, waarmee elektrische lading kan stromen tussen de twee (en dus tussen de fotolaag en de hoogspanningsvoedingsbron). Ofschoon onder zeer lage licht-niveau's (en dus zeer lage elektronenstromen door de buis)' handhaaft 10 de voedingsbron de spanningsval tussen de kathode en de anode op een maximum. Zodra het lichtniveau daalt in ernstige mate, overschrijdt de aanvankelijke elektronenstroom. in de buis onmiddellijk de waarde, welke kan worden ontladen door de fotolaag/elektrodehuisverbinding met de vermogensbron en aldus verdwijnt onmiddellijk de spannings-15 val langs de buis praktisch,, waardoor de volgende elektronen worden achtergelaten zonder of praktisch zonder versnellingskracht om deze aan te drijven van de kathode naar de anode. Overeenkomstig daalt de elektronenbundelenergie op ernstige wijze als de betreffende kapaciteit progressief wordt ontladen zelfs ofschoon de foto-emissie-20 laag nog aan het uitzenden kan zijn van grote hoeveelheden elektronen en aldus wordt het gevaar van het beschadigen van de fosfor verwijderd.

Om het op eenvoudige wijze te zeggen, indien de weerstand aanwezig is tussen de fotokathode en het kathodehuis, dan wordt 25 de kathode zeer veel minder negatief met betrekking tot de anode (aangezien elektronen deze verlaten maar niet worden vervangen) .terwijl indien de weerstand tussen de fosforlaaganode en het anode-huis is gelegen, de anode zeer veel minder positief wordt met betrekking tot de kathode (als elektronen deze bereiken, maar niet 30 kunnen: weglekken). In elk van deze gevallen wordt de spanningsval langs de.buis aanzienlijk verminderd en opvolgende elektronen hebben letterlijk geen, plaats om naar toe te gaan.

Wat betreft het tweede effekt (waargenomen wanneer de weerstand aanwezig is tussen de foto-emissiekathode en de kathode-35 monteerflens) geschiedt de elektrische veldvervorming omdat bij de betreffende fotostromen.(welke groter kunnen zijn dan lOOO^uA) aan- 8001282 zienlijke spanningen worden gevormd over het oppervlak van de foto-emissiekathode zelf (tussen zijn rand en het gelocaliseerde emissie-punt). Gedurende een gelocaliseerde lichtflits van hoge intensiteit wordt de fotostroom van elektronen stromend binnenwaarts vanaf de 5 kathcdemonteerflens naar het emissiepunt ergens op het foto-emissie-kathode-oppervlak, toenemend geconcentreerd dichter nabij het emissiepunt en lévert een overeenkomstig snel toenemende positieve oppervlaktespanning, veroorzaakt door de eindige kathodeplaatweerstand. Indien· het resulterende.elektrische veld evenwijdig aan het opper-10 vlak vergelijkbaar is met het normale ongestoorde veld loodrecht op het oppervlak (bijvoorbeeld van de orde van 100 volt/mm) dan is het mogelijk voor de elektronenstroom om elektro-optisch te worden begrensd door een zelfvoorspannende roosterwerking, zoals bij een gebruikelijke thermionische triodebuis. Dit geschiedt vanwege het 15 plaatselijk stijgen van spanning op het kathode-oppervlak, dat zelf wordt, veroorzaakt door de stroom en evenredig is met de stroom, niet kan stijgen voorbij de waarde waarbij het teken van het elektrische veld in een richting op het oppervlak omkeert.

De beeldversterker volgens de uitvinding-levert enige of 20 alle vancfe gewenste ontkoppeling (flitsbeveiliging) door het inbrengen van een weerstandselement tussen de fotolaag en zijn elek-trodemonteerflens, waarbij dit weerstandselement de vorm heeft van een ringvormige laag met daarin radiaal verlopende gleuven, gevuld met materiaal van minder weerstand. De uitdrukkingen "radiaal ver-25 lopend" en. "in een radiale zin” betekenen in dit verband, dat de gleuven, zich uistrekken vanaf een punt bij of nabij de binnengrens van de ring naar een punt bij of nabij de buitengrens en geen deel vormen van de omtrek van enige concentrische cirkel met een straal gelegen tussen de binnen- en buitenstraal van de ring. Aldus be-30 tekent "radiaal" zowel werkelijk radiaal, als zich uitstrekkend langs een straal en onder een hoek daarmee, evenals zich uitstrekkend langs een spiraal (of dergelijke lijn).

Het doel van de gleuven in de ringvormige weerstandslaag is het toelaten dat de juiste weerstandswaarde wordt bereikt. Dit 35 wordt als volgt toegelicht. De weerstandslaag is aanwezig voor het ontkoppelen van de fotolaag ten opzichte van zijn elektrodemonteerflens 8001282 \ ψ * 6 mml—II—WWWtil m—HWB—nfUPKiajn1·»^ (en dus van de hoogspanningsvoedingsbron en het hoofddeel van de buisinterelektrode- en strooikapaciteit). Evenwel wordt de juiste graad van ontkoppeling verkregen voor het verkrijgen van een geschikte tijdconstante en aldus is de werkelijke waarde van de 5 weerstand een belangrijke faktor. Bovendien zal de werkelijke waarde afhangen van een aantal andere faktoren bepaald door het beeldver-sterkerontwerp en de materialen waaruit de versterker is geconstrueerd, voor bijdragen aan de weerstandsontkoppeling van de foto-laag en de hoogspanningsvoedingsbron gemaakt bijvoorbeeld bij de 10 inherente weerstanden van de fotolaag zelf en de contacten tussen verschillende componenten. De effectieve totale weerstand wordt vereist om te liggen·in het gebied van 1 tot 100 Μ Ω , maar de exacte waarde zal afhangen van de maat van de beeldversterker, het aantal in cascade gekoppelde inrichtingen, de soort van over-15 belasting met sterk licht zoals verwacht, de soort van foto- emissiekathode en de elektronenoptika van de beeldversterker. Als voorbeeld is de totale effektieve weerstand, vereist voor een 25 mm drietrapsversterkerinrichting typerend gelegen tussen 10 en 25 Μ Ω en de exacte waarde kan slechts worden gekozen na een overweging 20 van de boven aangegeven faktoren.

De fotokathode zelf is van weerstandsaard, maar zijn effektieve plaatweerstand is van nogal lage orde (gewoonlijk ongeveer 2 1 ΜΩ/mm ) zodat dit op zich niet voldoende is. De foto-anode zelf is een geleider (de fotolaag is een isolator, maar de aluminium 25 bedekking is natuurlijk sterk geleidend) en dit is dus geheel onvoldoende op zich. Aldus plaatst de uitvinding tussen de fotolaag en zijn elektrodeflens een ring van veel hogere plaatweerstand 3 6 2 (binnen het gebied 10 tot 10 ΜΩ/mm ) en zulk een ring kan een werkelijke, weerstand hebben (tussen zijn inwendige en uitwendige 3 30 grenzen) van ongeveer 10 Μ Ω . Geschikte materialen voor deze laag zijn de overgangsmetaaloxyden, gebruikt in fijn verdeelde vorm, bijvoorbeeld titanium, vanadium en (in het bijzonder) groen chroom- oxyde. Lagen van dit laatste materiaal kunnen een plaatweerstand 6 2 hebben., van ongeveer 10 Μ Ω /mm en zijn geschikt om verscheidene 35 kilovolts te ondersteunen zonder elektrische doorslag. De weerstand van de ring moet echter worden ingesteld binnen fijne grenzen bij- 8001282 r * 7 voorbeeld met een nauwkeurigheid zo gering als 2M Ω en door dit te doen op een voor de hand liggende wijze, door het geschikt veranderen van de breedte van de ring, ontstaat een probleem zo belangrijk als dat. waarmee, wordt gewerkt, omdat het in de praktijk moeilijk is 5 de eisen van de hoogspanningswerking en van de betrekkelijk lage weerstand met elkaar in overeenstemming te brengen. De breedte tracht te gering te zijn voor goede regeling en hoogspanningsonder-steuningskapaciteit, bijvoorbeeld zo klein als een fraktie van een millimeter. In plaats daarvan voorziet de uitvinding in gleuven in 10 een betrekkelijk brede ring, waarbij de gleuven worden gevuld met het materiaal van minder weerstand. Natuurlijk moeten de breedten van de gleuven nauwkeurig worden bekeken, evenals de lengte van elke gleuf die niet werkelijke radiaal is, maar het niveau van nauwkeurigheid en precisie vereist vereist voor het instellen daarvan voor het 15 verkrijgen van de gewenste weerstand, is laag en binnen de mogelijkheid van gebruikelijke produktietechniek. Bijvoorbeeld kan een weerstandsverandering van 2M Ω een gleufbreedteverandering of een gleuflengteverandering vereisen zoals 0,5 mm.

De uitvinding gebruikt dus een brede ring (ten minste een 20 millimeter breed) welke een weerstand levert veel groter dan vereist, met stroken daaruit uitgesneden en gevuld met materiaal van minder weerstand. Een of meer (ten minste drie hebben de voorkeur) van zulke stroken kunnen worden uitgesneden met een verhouding van lengte tot breedte zodanig dat indien parallel verbonden en daarna gevuld met 25 materiaal van minder weerstand, hun gecombineerde weerstand ligt in het vereiste gebied, typerend 10ΜΩ . Teneinde de gewenste lengte tot breedte.verhouding te verkrijgen, kunnen de stroken werkelijk radiaal worden uitgesneden of gedeeltelijk volgens de raaklijn en recht of gebogen.

30 Het materiaal van minder weerstand voor het vullen van de gleuven levert natuurlijk de geleidende (relatief gesproken) verbin-dinging tussen de fotolaag en de elektrodemonteerflens. Zoals toegelicht, wordt door het instellen van de verhouding tussen de geleidende verbindingen (materiaal van minder weerstand) en weerstandsver-35 bindingen (weerstandslaag) de werkelijke weerstand tussen de fotolaag en zijn elektrodemonteerflens (en de. hoogspanningsbron) ingesteld.

8001282 ......... 8

Het materiaal van minder weerstand kan in het algemeen materiaal zijn met de juiste specifieke plaatweerstand (en chemische en natuurkundige stabiliteit). Voorbeelden van zulke materialen zijn oxyden van edelmetalen (aangebracht in verfvorm en gebakken op hun 5 plaats). Evenwel zijn de foto-emissiekathodematerialen gewoonlijk gebruikt in beeldversterkerbuizen zelf van een geschikte specifieke plaatweerstand en stabiliteit en kunnen daarom zeer geschikt worden gebruikt als het materiaal van minder weerstand, waardoor het gegleufde weerstandselement wordt geplaatst tussen de foto-emissiekatho-10 de en de kathodemonteerflens.

In zulk een geval wordt de laag van materiaal met minder weerstand geschikt aangebracht op zijn plaats, terwijl de fotokatho-de zelf wordt gevormd. Door aldus standaard neerslegtechnieken te gebruiken, wordt er eerst op het beeldversterkervenster een complete 15 ring van weerstandsmateriaal neergelegd, dan worden in de ring gleuven van de vereiste breedte en lengte gesneden en als laatste wordt het materiaal van de fotolaag neergelegd zowel voor het vormen van de fotolaag zelfs als voor het vullen van de gleuven in de weerstandsring.

20 Qp geschikte wijze worden de elektrodemonteerflenseinden van de gleuven gevuld met een druppel van een "goede” geleider, bijvoorbeeld een druppel zilver, voor het verzekeren van goed elektrisch contact met de flens. Dit is ook van voordeel voor het verzekeren van uniformiteit van fotolaagspanningsverdelingen voor het gebruik van 25 een smalle ringvormige metalen contactring voor het verbinden van de fotolaag met alle gleuven parallel. In de praktijk zal zulk een ring worden neergeslagen op het betreffende venster, waarbij de weerstandsring en de fotolaag dan worden neergeslagen op de bovenzijde.

De verdere constructie van de beeldversterker kan geheel 30 gebruikelijk zijn en behoeft hier niet te worden beschreven.

Er wordt de voorkeur aan gegeven dat van de twee fotolagen (de fotokathode en de luminescerende schermanode) de gegleufde ringlaag volgens de uitvinding moet worden geplaatst tussen de fotokathode ende kathodemonteerflens.Niet alleen is deze het geschiktste om te 35 gebruiken als het materiaal met minder weerstand als fotokathode-materiaal, maar het blijkt gemakkelijker de elektronenstroom te be- 8001282 9 __ werken bij lage elektronensnelheden,, aldus wanneer de elektronen de kathode verlaten in plaats van dat zij de anode bereiken.

De ringvormige weerstandslaag voor ontkoppelingsweerstand volgens de uitvinding kan met geschikt voordeel worden gebruikt 5 samen met een of beide flitsbeveiligingsuitvindingen volgens de bovengenoemde Nederlandse octrooiaanvragen 7904204 en 7903970.

De uitvinding zal aan de hand van de tekening in het volgende nader worden toegelicht.

Fig. 1 toont een bekende inrichting.

10 Fig. 2 toont schematisch een dwarsdoorsnede in losgenomen vorm, van een deel van een beeldversterkerbuis volgens de uitvinding.

Fig. 3 toont schematisch een bovenaanzicht Van een ringvormige weerstandslaag gebruikt bij de uitvoering van fig. 2.

Het beeldversterkerbuisdeel van fig. 2 is het fotokathode-15 einde en lijkt sterk op het overeenkomende deel van de bekende buis in fig. 1 (waarbij zoveel mogelijk dezelfde referentiecijfers zijn gebruikt). Er is aldus een ingangsvenster 1, afgesloten door een frit 2 tegen een kathodemonteerflens 3, verbonden met een kathode-huis 4 en op het binnenoppervlak van het venster 1 is een foto-20 emissielaag 12 elektrisch verbonden met de monteerflens 3. Evenwel geschiedt deze verbinding niet via een geleidende ring (zoals 13 in fig. 1) maar via een gegleufde ringvormige weerstandslaag 20, elektrisch verbonden door een geleidende ring 21 met de foto-emissielaag 12.

25 Zoals men duidelijker ziet in fig. 3, heeft de ringvormige laag 20 gleuven 30, 31 en 32, daarin uitgesneden, waarbij de gleuven zich uitstrekken vanaf de binnenzijde naar de buitenzijde van de ring. De gleuf 30 is werkelijk radiaal, de gleuf 31 is recht maar onder een hoek met een werkelijke straal en de gleuf 32 is gebogen 30 en onder, een hoek met een werkelijke straal (en volgt in feite een spiraalvormige lijn). In de praktijk is elke gleuf, en het centrale gebied omsloten door de ring, gevuld met een laag van foto-emissie-materiaal (niet getekend) en bij het buiteneinde van elke gleuf is een druppel 33 van zilver aangebracht, waardoor een goede elektrische 35 verbinding wordt verkregen met de kathodemonteerflens (de plaats van de binnenrand daarvan is aangegeven met een stippellijn 34).

8001282 10

In een speciaal geval waarbij een S-25 type foto-emissie-materiaal wordt gebruikt (een met caesium behandelde natrium/kalium/ antimoonlegering met de benaderde empirische formule Na2KSb (Cs) ) neergeslagen in een cirkelvormige laag met een diameter van 25 mm 5 en bij gebruik als weerstandsmateriaal van groen chroomoxyde neergeslagen in een ringvormige laag van ongeveer 0,1 mm dik en 2 mm breed, kan een gewenste ringweerstand van 5 ΜΩworden verkregen door het snijden van drie gleuven-(zoals 30 of 31 of 32) van de volgende benaderde afmetingen: 10 30) 0,6 mm breed (en 2,0 mm lang); 31) 1,0 mm breed en 3,0 mm lang ; en 32) 1,25 mm breed en 4,0 mm lang.

15 8001282

Claims (12)

1. Beeldversterker,met het kenmerk, dat ten minste een van zijn twee fotlagen (het luminescerende scherm en de fotokathode een weerstandsontkoppeling heeft met betrekking, tot de hoogspannings- 5 voedingsbron verbonden (in bedrijf) over de anode- en kathodehuizen waarbij de weerstandsontkoppe Hing wordt uitgevoerd door een weerstand verbonden tussen de fotolaag en het betreffende elektrode-huis,waarbij de weerstand bestaat uit een gegleufde ringvormige laag van weerstandsmateriaal geplaatst rond de omtrek van de fotolaag en 10 deze scheidend van zijn eléktrodemonteerflens terwijl de gleuven in de ringvormige weerstandslaag zidiuitstrekken in een radiale zin en zijn gevuld met een materiaal van minder weerstand aangrenzend aan en elektrisch verbonden met de fotolaag en zijn elektrodemon- 15 teerflens.

2. Inrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de specifieke plaatweerstand van het materiaal voor het vormen van de 3 6 2 gegleufde ringvormige laag is gelegen tussen 10 tot 10 Mfl/mm , en de ring zelf een werkelijke weerstand heeft (tussen zijn inwendi- 3 20 ge en uitwendige grenzen) van ongeveer 10 M Ö..

3. Inrichting volgens een van de voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat het materiaal waaruit de gegleufde ringvormige laag is gevormd, een overgangsmetaaloxyde is, gebruikt in fijn verdeelde vorm.

4. Inrichting volgens conclusie 3, met het kenmerk, dat het materiaal groen chroomoxyde is.

5. Inrichting volgens een van de voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de gegleufde ringvormige laag ten minste een millimeter breed is.

6. Inrichting volgens een van de voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de werkelijke weerstand van de gegleufde ringvormige laag met zijn gleuven gevuld met materiaal van minder weerstand, ongeveer 10 Mftis.

7. Inrichting volgens een van de voorgaande conclusies, 35 met het kenmerk, dat het materiaal van minder weerstand een 0x7de van edelmetaal is,, aangebracht in verf vorm en gebakken op zijn plaats.

8. Inrichting volgens van de conclusies 1 tot 6, met het 8001282 r' v" MHMnMPMMMMMMMMBHMMM· awwiipn MIH|il M I III H I IIW Wil I—M——II·· ^ 2 kenmerk,, dat het gegleufde weerstandselement is geplaatst tussen de foto-emissiekathode en de kathodemonteerflens, waarbij het foto-emissiekathodemateriaal wordt gebruikt als het materiaal van minder weerstand.

9. Inrichting volgens een van de voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de elektrodemonteerflenseinden van de gleuven in de gegleufde ringvormige laag zijn gevuld met een druppel van een "goede" geleider voor het verzekeren van een goed elektrisch contact met de flens.

10. Inrichting volgens een van de voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat voor het verzekeren van uniformiteit van de fotolaagspanningsverdeling, een smalle ringvormige metalen contactring wordt gebruikt voor het verbinden van de fotolaag met alle gleuven in de ringvormige laag parallel.

11. Inrichting volgens een van de voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de gegleufde ringvormige laag is geplaatst tussen de fotökathode en de kathodemonteerflens.

12. Inrichting in hoofdzaak zoals beschreven in de beschrijving en/of weergegeven in de tekening. 8 0 0 1 2312 liiL.