NL2038244A

NL2038244A - Methods and systems to reduce non-uniform thermomechanical effects

Info

Publication number: NL2038244A
Application number: NL2038244A
Authority: NL
Inventors: Rademaker Justin; Jansen Rick; Ganapathy Subramanian Raaja; Moest Bearrach; Alexandrovich Danilin Alexander; Bajonero Canonico Emilio; Huddleston Laura
Original assignee: Asml Netherlands Bv
Priority date: 2023-08-09
Filing date: 2024-07-16
Publication date: 2025-02-17
Also published as: TW202526518A; WO2025031740A1

Claims

CONCLUSIES

1. Werkwijze, omvattende: het bepalen van een ongelijkmatigheidskaart van een patronneerinrichting in een lithografische werkwijze; het kalibreren van een verwarmingsmodel voor een patronneerinrichting op basis van de ongelijkmatigheidskaart; en het reduceren van een ongelijkmatigheid van de patronneerinrichting op basis van het gekalibreerde verwarmingsmodel voor de patronneerinrichting.

2. Werkwijze volgens conclusie 1, waarbij: het bepalen van de ongelijkmatigheidskaart het meten omvat van een transmissiekaart en/of een reflectiekaart van de patronneerinrichting; en het meten van de transmissiekaart en/of de reflectiekaart van de patronneerinrichting het blootstellen omvat van de patronneerinrichting aan een stralingsdosis en het scannen van een gebied van een achterzijde en/of een voorzijde van de patronneerinrichting met een sensor.

3. Werkwijze volgens conclusie 1, waarbij: het bepalen van de ongelijkmatigheidskaart het bepalen omvat van een transparantiekaart en/of een patroondichtheidskaart van de patronneerinrichting; en het bepalen van de transparantickaart en/of de patroondichtheidskaart van de patronneerinrichting het bepalen omvat van cen tweedimensionale reflectiviteitskaart van de patronneerinrichting.

4 Werkwijze volgens conclusie 1, waarbij: het kalibreren van het verwarmingsmodel voor de patronneerinrichting het in gang zetten omvat van het verwarmingsmodel voor de patronneerinrichting op basis van de ongelijkmatigheidskaart; het kalibreren van het verwarmingsmodel voor de patronneerinrichting verder het voorspellen omvat van modale vervormingsvormen van de patronneermrichting met behulp van een eindig- elementmodel (Engels: finite element model, FEM) op basis van de ongelijkmatigheidskaart, en het kalibreren van het verwarmingsmodel voor de patronneerinrichting verder omvat: het meten van een patronneerinrichtingsuitlijning (Engels: reticle alignment, RA) tussen de patronneerinrichting en een substraat; en het aanpassen van de modale vervormingsvormen van de patronneerinrichting op basis van de gemeten patronneerinrichtingsuitlijning (RA).

5. Werkwijze volgens conclusie 1, waarbij: het reduceren van de ongelijkmatigheid van de patronneerinrichting het reduceren omvat van een ruimtelijk variërend absorptieprofiel van de patronneerinrichting; het reduceren van de ongelijkmatigheid van de patronneerinrichting verder het toepassen van gen correctie omvat op een substraat in de lithografische werkwijze.

6. Werkwijze, omvattende: het bepalen van een ongelijkmatigheidskaart van een object in een lithografische werkwijze; het kalibreren van een verwarmingsmodel voor een object op basis van de ongelijkmatigheidskaart; en het reduceren van een ongelijkmatigheid van het object op basis van het gekalibreerde verwarmingsmodel voor een object.

7. Werkwijze volgens conclusie 6, waarbij het bepalen van de ongelijkmatigheidskaart het meten omvat van een transmissiekaart en/of een reflectiekaart van het object wanneer blootgesteld aan een stralingsdosis.

8. Werkwijze volgens conclusie 6, waarbij het bepalen van de ongelijkmatigheidskaart het bepalen omvat van een transparantiekaart en/of een patroondichtheidskaart van het object.

9. Werkwijze volgens conclusie 6, waarbij: het kalibreren van het verwarmingsmodel voor het object het in gang zetten omvat van het verwarmingsmodel voor het object op basis van de ongelijkmatigheidskaart:

10. Werkwijze volgens conclusie 9, waarbij het kalibreren van het verwarmingsmodel voor het object verder het voorspellen omvat van vervormingsvormen van het object met behulp van een eindig-elementmodel (FEM).

11. Werkwijze volgens conclusie 10, waarbij het kalibreren van het verwarmingsmodel voor het object verder het aanpassen van de modale vervormmgsvormen van het object omvat op basis van inline-kalibratie van de lithografische werkwijze.

12. Werkwijze volgens conclusie 6, waarbij het reduceren van de ongelijkmatigheid van het object het reduceren omvat van een ruimtelijk variërend absorptieprofiel van het object.

13. Werkwijze volgens conclusie 6, waarbij het object een patronneerinrichting, een lens of een substraat omvat.

14. Lithografische inrichting. omvattende:

een verlichtingssysteem geconfigureerd voor het verlichten van een patronneerinrichting: een beschermingssysteem dat geconfigureerd is voor het projecteren van een beeld van de patronneerinrichting op een substraat; en een regelaar die geconfigureerd is voor het reduceren van effecten van ongelijkmatigheid van de patronneerinrichting in een lithografische werkwijze, waarbij de regelaar geconfigureerd is: voor het bepalen van een ongelijkmatigheidskaart van de patronneerinrichting; voor het kalibreren van een verwarmingsmodel voor een patronneerinrichting op basis van de ongelijkmatigheidskaart; en voor het reduceren van een ongelijkmatigheid van de patronneerinrichting op basis van het gekalibreerde verwarmingsmodel voor de patronneerinrichting.