[go: up one dir, main page]

NL2018351A - Radiation System - Google Patents

Radiation System Download PDF

Info

Publication number
NL2018351A
NL2018351A NL2018351A NL2018351A NL2018351A NL 2018351 A NL2018351 A NL 2018351A NL 2018351 A NL2018351 A NL 2018351A NL 2018351 A NL2018351 A NL 2018351A NL 2018351 A NL2018351 A NL 2018351A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
polarization
radiation beam
radiation
polarization state
adjustment apparatus
Prior art date
Application number
NL2018351A
Other languages
English (en)
Inventor
Nienhuys Han-Kwang
Original Assignee
Asml Netherlands Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asml Netherlands Bv filed Critical Asml Netherlands Bv
Publication of NL2018351A publication Critical patent/NL2018351A/en

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Claims (1)

1. Een lithografieinrichting omvattende: een belichtinginrichting ingericht voor het leveren van een stralingsbundel; een drager geconstrueerd voor het dragen van een patroneerinrichting, welke patroneerinrichting in staat is een patroon aan te brengen in een doorsnede van de stralingsbundel ter vorming van een gepatroneerde stralingsbundel; een substraattafel geconstrueerd om een substraat te dragen; en een projectieinrichting ingericht voor het projecteren van de gepatroneerde stralingsbundel op een doelgebied van het substraat, met het kenmerk, dat de substraattafel is ingericht voor het positioneren van het doelgebied van het substraat in een brandpuntsvlak van de projectieinrichting.
NL2018351A 2016-03-11 2017-02-10 Radiation System NL2018351A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP16159763 2016-03-11

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL2018351A true NL2018351A (en) 2017-09-19

Family

ID=55532162

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL2018351A NL2018351A (en) 2016-03-11 2017-02-10 Radiation System

Country Status (1)

Country Link
NL (1) NL2018351A (nl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11984236B2 (en) Radiation system
KR101710433B1 (ko) 액적 가속기를 포함하는 euv 방사선 소스 및 리소그래피 장치
US9823571B2 (en) EUV light source for a lighting device of a microlithographic projection exposure apparatus
NL2013014A (en) Lithographic method.
CN107003621A (zh) 反射器
NL2016248A (en) Radiation Beam Expander.
TW201524053A (zh) 自由電子雷射
US10736205B2 (en) Electron beam transport system
US11112618B2 (en) Beam splitting apparatus
NL2019961A (en) Radiation Source
NL2018351A (en) Radiation System
NL2017840A (en) A Lithographic System and Method
NL2017604A (en) Optical System
NL2017695A (en) Free electron laser
WO2017076696A1 (en) Electron beam chopper
EP3345023B1 (en) Beam splitting apparatus
NL2016128A (en) Radiation Beam Apparatus.
NL2017579A (en) Optical Element
NL2015735A (en) An Undulator.
NL2018274A (en) Radiation Source